一种等离子处理机的中转模组、等离子处理机和加工工艺的制作方法

文档序号:19053482发布日期:2019-11-06 00:59阅读:151来源:国知局
一种等离子处理机的中转模组、等离子处理机和加工工艺的制作方法

本发明涉及鞋材加工领域,特别是一种等离子处理机的中转模组以及等离子处理机。



背景技术:

权利人苏州卫鹏机电科技有限公司于2013年申报了一项发明专利cn201310081884.3,其公开了一种鞋材表面等离子体放电处理设备,包括机架,所述机架内部中间依次设置有真空箱和传输导轨,所述真空箱一侧设置有第一托盘架,另一侧设置有第二托盘架,所述第一托盘架与第二托盘架两侧皆设置有托盘滚轮,所述第一托盘架底部与第一托盘上下升降气缸连接,并且中间设置有马达,所述有马达与推杆传动部分连接,所述推杆传动部分与进料推杆连接,所述第二托盘架底部与第二托盘上下升降气缸连接。

其在机架的中部设有真空处理的腔室,并通过在真空箱的两侧设置进出料的托盘架实现进出料操作,其中第一托盘架和第二托盘架均可升降,这样就可以将托盘从低位送至高位,经过真空腔的处理后送入第二托盘架。

上述设计需要在真空箱的两侧设置可开合保持真空箱密封的门,同时需要使第一托盘架升降、第二托盘架升降,其结构非常复杂。

本申请所需要解决的问题在于:希望提出一种等离子处理设备,这种设备通过一种新的中转模组以能够和设备配合,通过中转模组的升降实现等离子发生腔体的形成,并能够自动的进出托盘。

同时,在这种新的中转模组的基础上,进一步提出一种新的等离子处理设备以解决上述的技术方案所存在的技术问题。



技术实现要素:

本发明的目的是提供一种等离子处理机的中转模组以及等离子处理机。本方案的等离子处理机是在中转模组的基础上实现的,其仅仅通过中转模组的升降即可实现鞋材的等离子处理的操作。本发明的中转模组的最大的优势在于,通过在容纳腔内设置第一电极板和移送组件,其可以配合外设的升降驱动机构驱动托盘的升降,以利于基座和外设的电极板单元密封配合形成等离子发生腔体,并进行等离子处理。

本发明提供的技术方案为:一种等离子处理机的中转模组,包括基座、设置在基座上表面的容纳腔,所述的容纳腔内设有第一电极板、用于支撑外设的托盘和将外设的托盘移送到或移出容纳腔的移送组件。

在上述的等离子处理机的中转模组中,所述的移送组件包括一对并排布置的输送链条、用于驱动输送链条的驱动轴、用于驱动驱动轴转动的驱动电机,所述的输送链条从容纳腔的一侧延伸到容纳腔的另外相对的一侧。

在上述的等离子处理机的中转模组中,所述的驱动电机为步进电机。

在上述的等离子处理机的中转模组中,所述的移动组件还包括设置在输送链条两端的从动轴,所述的驱动轴设置在输送链条的中部。

在上述的等离子处理机的中转模组中,所述的容纳腔内设有第一轴承支撑座和第二轴承支撑座,所述的从动轴通过轴承连接在第一轴承支撑座上,所述的驱动轴通过轴承连接在第二轴承支撑座上;所述的驱动轴通过齿轮和输送链条啮合。

在上述的等离子处理机的中转模组中,所述的第一电极板由蛇形的布置的电极杆组成;所述的输送链条的上侧位于第一电极板的蛇形路径的空隙中。

在上述的等离子处理机的中转模组中,所述的基座上设有丝杆套,所述的丝杆套与外设的用于驱动基座升降的丝杆配合。

在上述的等离子处理机的中转模组中,所述的基座上还设有位于容纳腔下部的用于移送外设的托盘的辅助移送组件,所述的辅助移动组件和移动组件的移送方向相反。

同时,本发明还公开了一种等离子处理机,包括依次布置的进料输送模组、等离子处理模组、回流中转模组,所述的进料输送模组上设有第一输送带,所述的回流中转模组上设有第二输送带;所述的等离子处理模组内设有电极板单元,所述的电极板单元内设有与第一电极板配合的第二电极板、抽真空单元、氧气供应单元;所述的第一电极板和第二电极板所产生的电压极性相反;

如上任一所述的中转模组设置在所述的等离子处理模组内并通过升降驱动机构驱动升降;

当中转模组通过升降驱动机构上升至第一预设位置时,所述的容纳腔和电极板单元密封配合形成等离子发生腔体;

当中转模组通过升降机构下降到第二预设位置时,所述的第一输送带、移送组件、第二输送带位于同一直线上;

所述的第一输送带、第二输送带均可正反转。

在上述的等离子处理机中,所述的基座上还设有位于容纳腔下部的用于移送外设的托盘的辅助移送组件,所述的辅助移动组件和移动组件的移送方向相反;

当中转模组通过升降机构上升至第一预设位置时,所述的第一输送带、辅助移动组件、第二输送带位于同一直线上。

最后,本发明还公开了一种鞋面的等离子处理工艺,鞋面在等离子处理模组中以电压1000v、电流10a、时间25s,氧气流量300ml/min/2500-2900平方厘米托盘面积的参数进行处理

本发明在采用上述技术方案后,其具有的有益效果为:

本方案的中转模组,其可以配合外设的升降驱动机构驱动托盘的升降,通过外设的升降驱动机构让基座和外设的电极板单元密封配合形成等离子发生腔体,通过在容纳腔内设置第一电极板和外设的电极板单元配合产生等离子氛围,通过移送组件将托盘移动,并进行等离子处理。

本方案的等离子处理机基于中转模组而提出,其通过第一输送带输入到基座上的容纳腔上,基座上升后,等离子处理模组和中转模组形成等离子发生腔体,对鞋材进行等离子处理,处理完成后基座下降,经过第二输送带输出进行其他处理。

作为本方案的进一步优选,基座上还设有辅助移送组件,以利于托盘从第二输送带经辅助移送组件送至第一输送带,完成加工。

附图说明

图1是本发明实施例1的主视图;

图2是本发明实施例1的立体图;

图3是本发明实施例2的主视图;

图4是本发明实施例2的主视图;

图5是本发明实施例2的等离子处理模组的立体图。

具体实施方式

下面结合具体实施方式,对本发明的技术方案作进一步的详细说明,但不构成对本发明的任何限制。

实施例1:

参考图1-2,一种等离子处理机的中转模组,包括基座1、设置在基座1上表面的容纳腔2,所述的容纳腔2内设有第一电极板3、用于支撑外设的托盘和将外设的托盘移送到或移出容纳腔2的移送组件4。

在实际生产过程中,通过外设的升降驱动机构8驱动基座1升降,同时,基座1和外设的电极板单元可以密封配合,若本实施例中第一电极板3为正极,则外设的电极板单元中的电极板则为负极,相反亦然。

优选地,在本实施例中,可以如附图1所示,在基座1的容纳腔2四周设置密封条用以和外设的电极板单元密封配合,也可以在外设的电极板单元上设置与基座1和容纳腔2配合的密封条,以实现密封配合。

托盘通过移送组件4移送到第一电极板3的上方,然后基座1在外设的升降驱动机构8的驱动下即可升降与外设的电极板单元形成等离子发生腔体。加工完成后,基座1在外设的升降驱动机构8的驱动下下降,通过移送组件4将托盘移出。

在本实施例中,所述的移送组件4包括一对并排布置的输送链条41、用于驱动输送链条41的驱动轴42、用于驱动驱动轴42转动的驱动电机43,所述的输送链条41从容纳腔2的一侧延伸到容纳腔2的另外相对的一侧。在实际应用中,移动组件并不局限于输送链条41,如输送带也是可以采用的。

在本实施例中,为了提高移送组件4的移送精确性,所述的驱动电机43为步进电机。

在本实施例中,所述的移动组件还包括设置在输送链条41两端的从动轴44,所述的驱动轴42设置在输送链条41的中部。

优选地,所述的容纳腔2内设有第一轴承支撑座45和第二轴承支撑座46,所述的从动轴44通过轴承连接在第一轴承支撑座45上,所述的驱动轴42通过轴承连接在第二轴承支撑座46上;所述的驱动轴42通过齿轮和输送链条41啮合。

在本实施例中,所述的第一电极板3由蛇形的布置的电极杆组成;所述的输送链条41的上侧位于第一电极板3的蛇形路径的空隙中。当然在实际应用中,第一电极板3也可以采用如板状等其他任何形状,对此本实施例并不过多限制。

在本实施例中,为了实现基座1的精确升降,所述的基座1上设有与外设的升降驱动机构8配合的丝杆套11,所述的丝杆套11与外设的用于驱动基座1升降的丝杆配合。

在本实施例中,所述的基座1上还设有位于容纳腔2下部的用于移送外设的托盘的辅助移送组件9,所述的辅助移动组件和移动组件的移送方向相反。在实施例2中具体阐述辅助移动组件的作用。

实施例2

请参考图3-5,一种等离子处理机,包括依次布置的进料输送模组5、等离子处理模组6、回流中转模组7,所述的进料输送模组5上设有第一输送带51,所述的回流中转模组7上设有第二输送带71;所述的等离子处理模组6内设有电极板单元,所述的电极板单元内设有与第一电极板3配合的第二电极板61、抽真空单元62、氧气供应单元63;所述的第一电极板3和第二电极板61所产生的电压极性相反;

中转模组设置在所述的等离子处理模组6内并通过升降驱动机构8驱动升降;中转模组如实施例1所述。

当中转模组通过升降驱动机构8上升至第一预设位置时,所述的容纳腔2和电极板单元密封配合形成等离子发生腔体;

当中转模组通过升降机构下降到第二预设位置时,所述的第一输送带51、移送组件4、第二输送带71位于同一直线上;

所述的第一输送带51、第二输送带71均可正反转。

优选地,所述的基座1上还设有位于容纳腔2下部的用于移送外设的托盘的辅助移送组件9,所述的辅助移动组件9和移动组件4的移送方向相反;

当中转模组通过升降机构上升至第一预设位置时,所述的第一输送带51、辅助移动组件9、第二输送带71位于同一直线上。辅助移动组件9优选和移送组件4的结构相同。

在鞋面等离子处理过程中,包括:

步骤1:将鞋材放到第一输送带上,然后进入到移送组件4中,升降驱动机构8驱动中转模组上升,鞋材进入到等离子处理模组6内处理,处理完成后,升降驱动机构8驱动中转模组下降,移送组件4上的鞋材进入到回流中转模组7;

步骤2:将未处理的鞋子放到第一输送带,然后进入到移送组件4中,升降驱动机构8驱动中转模组上升,鞋材进入到等离子处理模组6内处理,在此过程中,回流中转模组7上的鞋子进入辅助移动组件9,辅助移动组件9将鞋子送至第一输送带51,该鞋子加工完成。

步骤3:重复循环步骤1和步骤2。

在等离子处理模组6的等离子处理过程中,经过反复测试,其优选的等离子处理参数为:

电流10a、电压1000v、通电时间25s,氧气流量300ml/min。

具体来说,一旦等离子处理模组6和容纳腔2密封配合后,立即对等离子处理模组6和容纳腔2形成的密封腔抽真空,真空度低于10pa后通入氧气,保持压力为30pa-100pa左右;在此过程中通电进行等离子化。

在该工艺条件下,进行了11批次的测试,每批次鞋材的20-30只,经过上述处理后采用同样的粘结剂进行粘结,分别测试粘结处拉力,

在11批次中,拉力值最低为2.7n/mm,最高为4.9n/mm,满足合格条件2.4n/mm。

下面结合表格来说明不同工艺条件下的性能参数差别:

1、电压1000v、电流15a、时间20-25s,氧气流量200-300ml/min的测试结果见表1

表1

2、电压1000v、电流18a、时间25s,氧气流量200-300ml/min的测试结果见表2

表2

3、电压1000v、电流15a、时间25s,氧气流量300ml/min的测试结果见表3

表3

4、电压1000v、电流10a、时间25s,氧气流量300ml/min的测试结果见表4

表4

4、电压1000v、电流7-8a、时间25s,氧气流量300ml/min的测试结果见表5

表5

通过上述测试发现,满足于生产要求的工艺参数为:电压1000v、电流10a、时间25s,氧气流量300ml/min/2500-2900平方厘米托盘面积。

电压、电流、时间对整个等离子处理的托盘面积没有明细的直接关系,电压固定在1000v,电流固定在10a,时间25s即可。

当托盘面积为2500-2900平方厘米时,氧气流量300ml/min;托盘面积和氧气流量成正比。

更为具体来说,测试过程中,使用了两种托盘,小托盘长63×宽46×高7cm,氧气流量300ml/min;大托盘长72×宽70×高7cm,600mlml/min。测试结果为所有批次均通过测试。

上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其它的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。

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