1.一种正电子发射断层成像系统探测效率检测方法，包括：
使用该正电子发射断层成像系统进行第一采集，获取影响探测效率的第一活度相关因子；
使用该正电子发射断层成像系统进行第二采集，并根据第二采集所得数据及所述第一活度相关因子获取影响探测效率的第二活度相关因子；
在所述第二采集所得数据中，去除受所述第二活度相关因子影响的信息，及去除受被采集物体的几何分布信息影响的信息，以获取探测器固有晶体探测效率。
2.根据权利要求1所述的探测效率检测方法，其特征在于，所述第一采集为对置于该正电子发射断层成像系统采集视野中心的活度均匀分布的桶源进行的采集。
3.根据权利要求2所述的探测效率检测方法，其特征在于，所述第一采集包括对不同活度的桶源进行采集。
4.根据权利要求3所述的探测效率检测方法，其特征在于，所述“获取影响探测效率的第一活度相关因子”包括：分别计算不同活度下的轴向活度相关因子及径向活度相关因子。
5.根据权利要求1所述的探测效率检测方法，其特征在于，所述第二采集为模体数据采集或临床数据采集。
6.根据权利要求1所述的探测效率检测方法，其特征在于，所述“根据第二采集所得数据及所述第一活度相关因子获取影响探测效率的第二活度相关因子”包括：根据第一活度相关因子进行函数拟合，将第二采集数据代入该函数以计算获得第二活度相关因子。
7.根据权利要求1所述的探测效率检测方法，其特征在于，所述“去除受被采集物体的几何分布信息影响的信息”包括：对去除了第二活度相关因子的第二采集数据进行低频滤波处理。
8.一种正电子发射断层成像系统探测效率校正方法，其特征在于，包括:
获取影响该成像系统探测效率的几何结构因子；
获取影响探测效率的活度相关因子；
根据权利要求1至7任一项所述检测方法，获取探测器固有晶体探测效率；
利用所述几何结构因子、活度相关因子及探测器固有晶体探测效率，对采集数据进行归一化校正。
9.根据权利要求8所述的探测效率校正方法，其特征在于，所述“获取影响该成像系统探测效率的几何结构因子”包括:对围绕系统采集视野中心轴旋转的均匀棒源进行数据采集，并分别计算其径向几何因子及晶体干涉因子，根据该径向几何因子及晶体干涉因子确定所述几何结构因子。
10.一种正电子发射断层成像系统探测效率校正装置，其特征在于，包括：
几何结构因子获取单元，用于获取影响该探测系统探测效率的几何结构因子；
活度相关因子获取单元，用于获取影响探测效率的活度相关因子；
探测器固有晶体探测效率获取单元，用于根据权利要求1至7任一项所述检测方法，获取探测器固有晶体探测效率；
校正单元，用于利用所述几何结构因子、活度相关因子及探测器固有晶体探测效率，对采集数据进行归一化校正。