一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法与流程

本发明涉及牙齿支抗控制方法，尤其涉及一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法。

背景技术：

无托槽隐形矫治器是一种基于计算机辅助设计(CAD)和计算机辅助制作(CAM)的透明压膜矫正装置，它通过一系列的隐形矫治器不断地调整牙齿的位置，从而矫治各类错颌畸形并建立良好的牙齿尖窝关系。对于无托槽隐形矫治来说，需要拔牙的病例属于低度可预测性病例，即要求临床医生具有较丰富的隐形矫治经验，难度较大的病例甚至需要配合使用固定矫治器才能获得较好疗效。

近年来，随着无托槽隐形矫治器技术的发展，无托槽隐形矫治器的适用范围逐渐扩大。临床医生开始尝试使将托槽隐形矫治器应用于拔牙病例，例如拥挤病例、前突病例等。Align公司针对拔除四颗第一前磨牙的矫治提出了最新一代的G6矫治器，对矫治器材料和附件做了改进。然而，在拔牙病例的隐形矫治中仍然存在一些困难，例如：拔牙间隙关闭时后牙支抗丧失、拔牙间隙的邻牙向拔牙间隙倾斜、前牙转矩失控等。

Tweed矫治技术是传统的方丝弓矫治技术，也是经典的固定矫治技术之一。Tweed矫治技术在发展过程中，逐渐发展出一种改良的Tweed-Merrifield矫治技术。无论是经典的Tweed矫治技术还是改良的Tweed-Merrifield矫治技术，两种技术都了强调支抗预备的重要性。特别是在拔牙病例中，后牙支抗预备能够有效地防止磨牙在矫治过程中产生磨牙近中倾斜。但是，由于Tweed和Tweed-Merrifield矫治技术的矫治过程较复杂，需要使用较多的弓丝进行弯制并且需要使用口外力，Tweed和Tweed-Merrifield矫治技术并不广泛应用于目前的正畸临床矫治。

因此，本发明结合了无托槽隐形矫治和经典方丝弓技术中的支抗预备的概念，提供一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法是十分有意义的。

技术实现要素：

本发明的一个目的在于：提供一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其无需使用任何辅助的片段弓技术和口外力便能实现支抗磨牙的三维方向上的控制。

本发明的另一个目的在于：提供一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其能仅通过无托槽隐形矫治器的作用使得后牙牙冠向远中倾斜。

本发明的再一个目的在于：提供一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其能精确控制磨牙向远中倾斜的角度。

本发明的再一个目的在于：提供一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其能通过控制支抗有效地内收前牙，为前牙突出或前牙拥挤病例的矫治带来良好的治疗效果。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

提供一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，包括以下步骤:

a.获得患者的上颌、下颌待矫治牙齿的数字的基础虚拟模型，在所述基础虚拟模型上分别确定上颌第二恒磨牙、上颌第一恒磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二恒磨牙、下颌第一恒磨牙以及下颌第二前磨牙的初始位置；

b.基于所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙、所述上颌第二前磨牙、所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙的各所述初始位置分别确定所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙、所述上颌第二前磨、所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙向远中移动的目标位置；

c.通过无托槽隐形矫治器将所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙、所述上颌第二前磨牙、所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙从所述初始位置向远中倾斜至各对应的所述目标位置。

作为所述的用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一种优选的技术方案，所述步骤c中包括将所述上颌第二恒磨牙以及所述下颌第二恒磨牙向远中移动0-3mm,以分别解除所述上颌第一恒磨牙以及所述下颌第一恒磨牙在远中的阻力，分别将所述上颌第二恒磨牙、所述下颌第二恒磨牙向远中倾斜完成与所述上颌第二恒磨牙以及所述下颌第二恒磨牙相对应的支抗预备。

作为所述的用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一种优选的技术方案，还包括在完成所述上颌第二恒磨牙以及所述下颌第二恒磨牙的支抗预备后分别将所述上颌第一恒磨牙以及所述下颌第一恒磨牙向远中倾斜以分别完成所述上颌第一恒磨牙以及所述下颌第一恒磨牙相对应的支抗预备。

作为所述的用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一种优选的技术方案，还包括在完成所述上颌第一恒磨牙以所述下颌第一恒磨牙的支抗预备后分别将所述上颌第一前磨牙以及所述下颌第一前磨牙向远中倾斜以分别完成所述上颌第一前磨牙以及所述下颌第一前磨牙相对应的支抗预备。

作为所述的用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一种优选的技术方案,所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙以及所述上颌第二前磨牙的目标位置分别向远中倾斜分别为0°-20°、0°-15°、0°-10°，所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙的目标位置分别向远中倾斜分别为0°-20°、0°-20°、0°-10°。

作为所述的用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一种优选的技术方案，所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙以及所述上颌第二前磨牙的目标位置分别为向远中倾斜15°、10°以及5°，所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙的目标位置分别向远中倾斜10°、10°以及5°。

作为所述的用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一种优选的技术方案，通过所述无托槽隐形矫治器依次分步将所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙、所述上颌第二前磨牙、所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙向远中倾斜，其中，每一分步通过所述无托槽隐形矫治器向远中倾斜的角度为0.2°-1.5°。

作为所述的用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一种优选的技术方案，所述无托槽隐形矫治器采用透明的三维压膜无托槽隐形矫治器。

本发明的有益效果为：本发明利用无托槽隐形矫治器为拔牙病例提供一种支抗控制的方法，能够有效地防止拔牙病例在隐形矫治的过程产生磨牙向近中倾斜的现象，有效地避免拔牙间隙的远中支抗牙发生支抗丢失。通过将上颌第二恒磨牙以及下颌第二恒磨牙向远中移动0-3mm,能够分别解除上颌第一恒磨牙和下颌第一恒磨牙在远中的阻力，为上颌第一恒磨牙以及下颌第一恒磨牙向远中倾斜预留足够的空间，并完成上颌第一恒磨牙和下颌第一恒磨牙座的支抗预备。通过分步矫治能够将磨牙渐进地向远中倾斜，提高磨牙向远中倾斜的精度，提高矫治的效率。

附图说明

下面根据附图和实施例对本发明作进一步详细说明。

图1为实施例所述用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法中上颌后牙支抗预备角度的示意图。

图2为实施例所述用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法中下颌后牙支抗预备角度的示意图。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

如图1～2所示，于本实施例中，本发明所述的一种用于隐形矫治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，包括以下步骤:

a.获得患者的上颌、下颌待矫治牙齿的数字的基础虚拟模型，在所述基础虚拟模型上分别确定上颌第二恒磨牙、上颌第一恒磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二恒磨牙、下颌第一恒磨牙以及下颌第二前磨牙的初始位置；

b.基于所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙、所述上颌第二前磨牙、所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙的各所述初始位置分别确定所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙、所述上颌第二前磨、所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙向远中移动的目标位置；

c.通过无托槽隐形矫治器将所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙、所述上颌第二前磨牙、所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙从所述初始位置向远中倾斜至各对应的所述目标位置。

本发明将无托槽隐形矫治和经典方丝弓技术中的支抗控制概念进行了结合，无需使用任何辅助的片段弓技术和口外力，利用无托槽隐形矫治器形变的作用力能够将上颌第二恒磨牙、上颌第一恒磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二恒磨牙、下颌第一恒磨牙以及下颌第二前磨牙向远中倾斜，有效地防止拔牙间隙的临牙向拔牙间隙近中倾斜实现支抗预备，达到增强支抗的作用。无托槽隐形矫治器具有透明、舒适且可摘戴的优点，能够减少患者在矫治过程中的不适感。通过获得的基础模拟模型确定上颌第二恒磨牙、上颌第一恒磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二恒磨牙、下颌第一恒磨牙以及下颌第二前磨牙并确定各自对应的目标位置。既利用了无托槽隐形矫治器的美观、舒适、卫生、方便的特点，同时也结合了传统的Tweed矫治技术的精髓即支抗预备的概念，将支抗预留与隐形矫治技术相结合，利用简单、美观的无托槽隐形矫治器来实现增强支抗效果。

其中，所述步骤c中包括将所述上颌第二恒磨牙以及所述下颌第二恒磨牙向远中移动0-3mm,以分别解除所述上颌第一恒磨牙以及所述下颌第一恒磨牙在远中的阻力，分别将所述上颌第二恒磨牙、所述下颌第二恒磨牙向远中倾斜完成与所述上颌第二恒磨牙以及所述下颌第二恒磨牙相对应的支抗预备。将上颌第二恒磨牙以及下颌第二恒磨牙向远中移动0-3mm,能够分别解除上颌第一恒磨牙、下颌第一恒磨牙在远中的阻力，同时也为上颌第一恒磨牙、下颌第一恒磨牙的后倾预留空间，一方面保证有足够的空间使得上颌第一恒磨牙、下颌第一恒磨牙能够后倾足够的角度，另一方面有利于对后倾角度精度的控制。

优选的，所述步骤c中包括将所述上颌第二恒磨牙以及所述下颌第二恒磨牙向远中移动1-2mm,以分别解除所述上颌第一恒磨牙以及所述下颌第一恒磨牙在远中的阻力，分别将所述上颌第二恒磨牙、所述下颌第二恒磨牙向远中倾斜,完成与所述上颌第二恒磨牙以及所述下颌第二恒磨牙相对应的支抗预备。

在本实施例中，还包括在完成所述上颌第二恒磨牙以及所述下颌第二恒磨牙的支抗预备后分别将所述上颌第一恒磨牙以及所述下颌第一恒磨牙向远中倾斜以分别完成所述上颌第一恒磨牙以及所述下颌第一恒磨牙相对应的支抗预备。在上颌第二恒磨牙以及下颌第二恒磨牙的支抗预备完成将上颌第一恒磨牙、下颌第一恒磨牙向远中倾斜，一方面上颌第一恒磨牙、下颌第一恒磨牙实现了支抗预备，另一方面为上颌第二前牙、下颌第二前牙的后倾预留空间，提高后倾的效率。其中，还包括在完成所述上颌第一恒磨牙以所述下颌第一恒磨牙的支抗预备后分别将所述上颌第一前磨牙以及所述下颌第一前磨牙向远中倾斜以分别完成所述上颌第一前磨牙以及所述下颌第一前磨牙相对应的支抗预备。

在本实施例中，所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙以及所述上颌第二前磨牙的目标位置分别向远中倾斜分别为0°-20°、0°-15°、0°-10°，所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙的目标位置分别向远中倾斜分别为0°-20°、0°-20°、0°-10°。通过此方法能够解除第一磨牙的远中阻力，实现支抗预备。

优选的，所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙以及所述上颌第二前磨牙的目标位置分别向远中倾斜分别为10°-20°、10°-15°、1°-10°，所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙的目标位置分别向远中倾斜分别为10°-20°、10°-20°、1°-10°。通过此方法能够解除一磨牙的远中阻力，实现支抗预备。

具体的，所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙以及所述上颌第二前磨牙的目标位置分别为向远中倾斜15°、10°以及5°，所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙的目标位置分别向远中倾斜10°、10°以及5°。具体的，通过所述无托槽隐形矫治器依次分步将所述上颌第二恒磨牙、所述上颌第一恒磨牙、所述上颌第二前磨牙、所述下颌第二恒磨牙、所述下颌第一恒磨牙以及所述下颌第二前磨牙向远中倾斜。其中，每一分步通过所述无托槽隐形矫治器向远中倾斜的角度为0.2°-1.5°。具体的，每一分步通过所述无托槽隐形矫治器向远中倾斜的角度还可以根据实际矫治的需要进行分步设置。每一步的向远中倾斜的角度都设置有与之对应的无托槽隐形矫治器，通过此设计能够精确的控制后倾的角度，提高支抗预备的效率。待完成全部的支抗预备后，继续对牙齿进行后续的矫治，进行前牙的内收和排齐阶段。在本实施例中，将每一分步通过所述无托槽隐形矫治器向远中倾斜的角度设置为1°。

具体的，所述无托槽隐形矫治器采用透明的三维压膜无托槽隐形矫治器。

需要声明的是，上述具体实施方式仅仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理，在本发明所公开的技术范围内，任何熟悉本技术领域的技术人员所容易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围内。