包括扩散和准直特征的光疗系统以及相关技术的制作方法

本申请要求于2016年10月3日提交的标题为″包括扩散和准直特征的光疗系统以及相关技术″的第62/403,590号美国临时专利申请的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

以下专利申请通过引用以其全文并入本文：

标题为″用于聚焦的uvb辐射和维生素d合成的光疗装置以及相关联的系统和方法″的第pct/us2013/020179号国际申请；

标题为″用于增加维生素d3的生产的系统和方法″的第pct/us2014/062352号国际申请；

标题为″用于皮肤病和其他适应症的靶向uvb光疗的系统和方法″的第pct/us2016/016873号国际申请；以及

标题为″用于自身免疫紊乱和其他适应症的靶向uvb光疗的系统和方法″的第pct/us2016/029615号国际申请。

在某种程度上，在通过引用并入本文的前述专利公开或任何其他材料与本公开冲突的情况下，以本公开为准。

本技术涉及光疗系统，装置，和方法，例如非常适合维生素d光疗和治疗皮肤症状(conditions)的光疗系统。

背景技术：

维生素d是指人体可以通过充分暴露在太阳光或紫外线(uv)辐射下合成的一组脂溶性开环甾类化合物(secosteroids)。更具体地，前维生素d3是在7-脱氢胆固醇(″7-dhc″)与紫外线b(″uvb″)进行反应时在皮肤中生成的。维生素d也可以从多种饮食来源中吸收，例如多脂的鱼(例如鲑鱼和金枪鱼)，维生素d强化食品(例如奶制品和果汁产品)，和维生素d补充剂。一旦被吸收，维生素d就会通过血流行进到肝脏，并在肝脏处被转化为激素原骨化二醇。骨化二醇继而被肾脏或免疫系统中的单核-巨噬细胞转化为骨化三醇(维生素d的激素活性形式)。当由单核-巨噬细胞进行合成时，骨化三醇作为细胞因子局部起作用以保护机体抵抗微生物入侵者。肾脏合成的骨化三醇在体内循环，以调节血流中钙和磷酸盐的浓度，从而促进骨骼的充分矿化，生长，以及重建。因此，维生素d水平不足(通常由血液中的骨化二醇浓度小于20-40ng/m²来表征)可以引起多种骨软化疾病，例如儿童佝偻病和成人骨软化症。维生素d缺乏症还与许多其他疾病(diseases)和紊乱(disorders)有关，例如抑郁症，心脏病，痛风，自身免疫性紊乱，以及多种不同的癌症。

医生已建议维生素d补充剂作为预防措施，以增加维生素d水平。例如，美国医学研究所建议，对于年龄在1-70岁的人，每日膳食维生素d摄入量为600国际单位(iu)，对于年龄在71岁及以上的人，则为800iu。其他机构已建议或高或低的维生素d日剂量。每日剂量的限制也反映了防止摄入过多维生素d的努力，维生素d摄入过多最终可能变得有毒。相比之下，人体生理学已适应来自太阳光的显著更高的日剂量维生素d(例如，4,000-20,000iu/天或更多)。uvb辐射已被确认为更理想的维生素d来源，因为暴露在太阳光下产生维生素d并且身体通过皮肤抑制过量维生素d摄入的本能是容易的。

国际照明委员会(也称为lecommissioninternationaledel′eclairage(″cie″))创建了与紫外线(uv)辐射和维生素d产生相关联的两个标准化反应光谱：″红斑参考作用光谱(theerythemareferenceactionspectrum)及标准红斑剂量″(iso7166：1999)，用于确定对250nm至400nm的各个波长的红斑(即，晒伤)响应；和″人类皮肤中产生前维生素d3的作用光谱″(cie174：2006)，用于确定在255nm至320nm的各个波长下7-dhc对前维生素d3的转化效率。在将7-dhc转化为前维生素d3之后，该前维生素d3可被光致异构化为两种惰性产物(光甾醇或速甾醇)中的任一种，或者该前维生素d3可经历逆转反应并恢复成7-dhc。这些光反应由持续的uv辐射来驱动，但每个光产物的吸收光谱不同。用于创建cie前维生素d3作用光谱的研究将uv剂量标准化，以将7-dhc向前维生素d3的转化限制为小于5％，以帮助减轻前维生素d3到光产物(例如，光甾醇，速甾醇，和7-dhc)的任何光致异构化。

附图简要说明

参考以下附图可以更好地理解本技术的许多方面。附图中的部件不一定按比例绘制。相反，重点在于清楚地示出本技术的原理。为了便于参考，在整个本公开中，相同的附图标记可用于标识本技术的多于一个实施方案的相同，相似，或类似的部件或特征。

图1是根据本技术的实施方案的光疗系统的部分示意性侧视图。

图2是图1中所示的光疗系统的一部分的放大的部分示意性侧视图。

图3是根据本技术的另一实施方案的光疗系统的一部分的放大的部分示意性侧视图。

图4是根据本技术的另一实施方案的光疗系统的部分示意性俯视平面图。

图5a和图5b是根据本技术另外实施方案的可用在光疗系统中的辐射源的部分示意性侧视图。

图5c示意性地示出了根据本技术的另一实施方案的包括图5a和图5b中所示的任何辐射源的光疗系统。

图6a和图6b是根据本技术另外实施方案的可用在可穿戴光疗装置中的辐射源的部分示意性侧视图。

图6c示意性地示出了根据本技术的另一实施方案的包括图6a和图6b中所示的任何辐射源的可穿戴光疗装置。

图7是示出了根据本技术的实施方案的光疗方法的流程图。

具体实施方式

根据本技术的至少一些实施方案的光疗系统，装置和方法包括用于扩散uv辐射并以高度均匀性将uv辐射递送至人类受试者的创新特征。根据特定实施方案的光疗系统包括uv辐射源，该uv辐射源被配置成沿着辐射路径引导至少部分准直的uv辐射，该辐射路径延伸到被配置成用于容纳人类受试者的辐射区域。该系统进一步包括在辐射源下游沿着辐射路径依次向远处设置的过滤器，扩散器，以及准直器(collimator)。在uv辐射到达受试者之前，扩散器和准直器分别减小和增加uv辐射的准直。在至少一些情况下，来自相对少量的高强度源的uv辐射被有效地过滤并以至少接近自然太阳光的均匀性而被递送至受试者。此外，这种高均匀性可与受试者在辐射区域内的位置无关。因此，相对于传统的对应体(counterparts)，根据本技术的至少一些实施方案的光疗系统则更实用，更有效，和/或提供更好的用户体验。无论本文是否描述了这些优点，根据本技术的实施方案的光疗系统可具有相对于传统的对应体的这些和/或其他优点。

本文参考图1至图7描述了根据本技术的若干实施方案的光疗系统，装置，和方法的具体细节。尽管本文主要或完全在维生素d光疗的背景下描述了光疗系统，装置，和方法，但是除了本文所描述的那些背景之外的其他背景也在本技术的范围内。例如，所描述的光疗系统的合适的特征可以在晒黑，皮肤病症(例如，牛皮癣)治疗，自身免疫病症(例如，克罗恩(crohn)病，类风湿性关节炎等)治疗，和/或季节性情绪紊乱治疗等示例的背景下来实施。此外，应当理解的是，通常，除了本文所公开的那些以外的其他系统，装置，和方法也在本技术的范围内。例如，根据本技术的实施方案的系统，装置，和方法可具有与本文所公开的那些不同和/或额外的配置，部件，过程等。此外，本领域普通技术人员将理解，在不偏离本技术的情况下，根据本技术的实施方案的系统，装置，和方法可以不具有本文所公开的多种配置，部件，过程等。

图1是根据本技术的实施方案的光疗系统100的部分示意性侧视图，并且图2是光疗系统100的一部分的放大的部分示意性侧视图。参考图1，光疗系统100可包括壳体102，该壳体102至少部分地限定步入式(walk-in)隔间(booth)104(例如，亭子(kiosk))以及隔间104内的照射区域106。在所示出的实施方案中，隔间104和照射区域106被配置成完全接纳人类受试者108并且在隔间104内包含辐射。在其他实施方案中，隔间104和照射区域106的对应体可被配置成仅接纳受试者108的一部分。例如，隔间104的和照射区域106的对应体可被配置成仅接纳受试者108的躯干，手臂，腿等。此外，隔间104和照射区域106的对应体可被配置成受试者108以仰卧，俯卧，斜躺，或其他合适的位置而不是以所示出的站立位置而被接纳。

如图1所示，光疗系统100可包括uv辐射源110(分别标识为辐射源110a-110c)，该uv辐射源110被配置成沿着从辐射源110延伸到照射区域106的相应辐射路径112(由线示意性地表示)引导uv辐射。现在将以额外的细节来描述辐射源110a，应当理解辐射源110b，110c可具有相同或相似的特征。如图2所示，辐射源110a可被配置成沿着相应辐射路径112引导至少部分准直的uv辐射。例如，辐射源110a可包括聚光源(concentratedsource)114和准直反射器116，对该准直反射器116进行成形，定位，或以其他方式配置成反射在聚光源114处所生成的uv辐射，并且从而增加此uv辐射的准直。聚光源114可以是由施加的电压所维持的一定体积的等离子体。例如，聚光源114可以是汞蒸汽灯，金属卤化物灯，氙短弧灯，或另一合适类型的高强度放电灯。可替代地，聚光源114能以另一合适的方式生成uv辐射。例如，以下在本技术的另一实施方案的背景中描述了对应体发光二极管聚光源。

一起参考图1和图2，光疗系统100可进一步包括沿着辐射源110下游的辐射路径112设置的过滤器118(分别标识为过滤器118a-118c)。过滤器118可被配置成优先允许具有相对高可能性促进维生素d产生的uv辐射通过和/或优先允许具有相对低可能性引起红斑的uv辐射通过。相应地，过滤器118可被配置成优先阻止具有相对低可能性促进维生素d产生的uv辐射通过和/或优先阻止具有相对高可能性引起红斑的uv辐射通过。例如，过滤器118可被配置成优先允许波长为约297nm(例如，292nm至304nm，并且尤其是297nm+/-3nm)的uv辐射通过。在通过引用并入本文的申请中描述了光疗系统100的壳体102，隔间104，照射区域106，辐射源110，以及过滤器118的其他合适的特征以及替代形式。

在至少一些情况下，过滤器118接收准直的uv辐射而不是非准直的uv辐射是有利的。例如，uv辐射通过过滤器118的传输可取决于波长和入射角二者。如果过滤器118接收宽范围的非垂直(non-normal)入射角的uv辐射，则可能难以一致地过滤除窄范围的波长之外的所有波长。相反地，如果过滤器118主要接收垂直(normal)入射角的uv辐射，则实现此功能可以相对简单。虽然有利于过滤，但是uv辐射的准直可能不利于将uv辐射有效地递送至大面积。例如，从辐射源110和过滤器118发出的经过滤的，准直的uv辐射在没有进一步处理的情况下将仅集中在光束的小区域z1中，因为准直光的光束的中心将比该光束的外部具有高得多的强度。光束的外部区域z2和z3通常具有降低的强度。因此，在光束的外部区域z2和z3中而被递送到受试者108的辐射剂量将受到在由光束的中心区域z1照射的小面积的受试者中产生不可接受的曝光水平的辐射量的限制。

为了促进经过滤的uv辐射有效递送至大面积，和/或出于其他原因，光疗系统100可包括沿着过滤器118下游的辐射路径112设置的扩散器120(分别标识为扩散器120a-120c)。在一些实施方案中，扩散器120a-120c承载相应的过滤器118a-118c。例如，过滤器118a-118c可包括覆盖相应扩散器120a-120c的平坦上游表面的膜。在其他实施方案中，过滤器118的对应体可独立于扩散器120进行支撑，例如由辐射源110a-110c的相应对应体来承载，或者过滤器118可具有其他合适的配置。过滤器118可被定向成接收零度入射角的uv辐射。因此，过滤器118可由被定向成垂直于辐射路径112的紧邻上游部分的平坦表面(例如具有此取向的扩散器120的平坦上游表面)来承载。

如图1所示，扩散器120可以扩展过滤器118下游的经过滤的，准直的uv辐射，使得uv辐射在照射区域106的至少一侧延伸。在至少一些情况下，扩散器120扩展uv辐射而不会将uv辐射散射到任何显著程度。扩散器120a-120c可包括沿着辐射路径112彼此间隔开距离d1的第一小透镜阵列122和第二小透镜阵列124。第一小透镜阵列122可折射uv辐射以形成具有第一发散(divergence)水平的光束。第二小透镜阵列124可进一步折射uv辐射以形成具有大于第一发散水平的第二发散水平的光束。可以调节距离d1以改变光疗系统100内的uv辐射的总体发散度，例如改变照射区域106的尺寸。如图2所示，在所示出的实施方案中，第一小透镜阵列122具有平面的上游表面和凸起的下游表面，并且第二小透镜阵列124具有凸起的上游表面和平面的下游表面。在其他实施方案中，第一小透镜阵列122和第二小透镜阵列124可以具有其他合适的配置。此外，第一小透镜阵列122和第二小透镜阵列124中的一个或两个可以承载除过滤器118之外的光学膜(例如，涂层)。例如，第一小透镜阵列122和第二小透镜阵列124中的一个或两个可以承载抗反射的膜和/或改变光密度的膜。

参考图1，在沿着扩散器120下游的辐射路径112的一定距离(d2)处，uv辐射可以实现期望的(例如，最佳的)扩散水平，以在皮肤表面上提供相对均匀性。不幸的是，在光疗的背景下，d2不太可能对应于扩散器120和整个照射区域106中的受试者108之间的实际距离。例如，在照射区域106内受试者的身体形状和位置可能难以预测，并且可能从一名受试者到另一名受试者差异很大。此外，受试者108可以在光疗期间移动。这些和其他因素会影响扩散器120与受试者皮肤的给定部分之间的距离。即使调整扩散器120以使d2在扩散器120和受试者108之间的预期距离范围内，扩散器120与受试者108的一些部分之间的实际距离将小于d2，并且扩散器120与受试者108的其他部分之间的实际距离将大于d2。受试者108的较靠近扩散器120的部分可位于uv辐射的发散光束之间，因此接收小于期望的曝光水平，或者可以在uv辐射的发散光束内，因此接收超过期望的曝光水平。受试者108距扩散器120较远的其他部分可位于uv辐射的发散光束的重叠部分，因此也接收超过期望的曝光水平。

为促进经过滤的uv辐射均匀递送到受试者108和/或出于其他原因，图1中所示的光疗系统100的实施方案进一步包括沿着扩散器120下游的辐射路径112设置的准直器126。在至少一些实施方案中，准直器126包括菲涅耳(fresnel)透镜。准直器126增加扩散器120下游的uv辐射的准直，从而减少或消除了在准直器126与受试者108之间的uv辐射的进一步发散。因此，在辐射路径112的长度上，源自聚光源114的uv辐射在准直反射器116处被准直，在扩散器120处被扩散，并且在准直器126处被重新准直。通过在扩散器120之后使uv辐射准直，可均匀地将uv辐射递送至受试者108，而不管准直器126和照射区域106内的受试者108之间的距离(d3)。

图3示出了扩散器320的替代实施方案，其包含单个小透镜阵列322，而不是具有多个小透镜阵列122和124的扩散器120(图1)。小透镜阵列322分别比小透镜阵列122和124厚，并且因此可以使用相对厚材料的单个小透镜阵列322而不是使用相对较薄材料的多个间隔开的小透镜阵列，从给定的光源实现相同发散水平的uv辐射。在根据本技术的其他实施方案的系统中，辐射源110，扩散器120，和光疗系统100的其他部件的对应体可具有其他合适的形式。

图4是根据本技术的另一实施方案的光疗系统400的部分示意性俯视平面图。光疗系统400可包括被配置成经由照射区域406的相对的相应侧(respectivesides)向照射区域406提供uv辐射的第一uv辐射组件402和第二uv辐射组件404。分别地，第一uv辐射组件402，和第二uv辐射组件404可包括类似于光疗系统100(图1)的相应特征的辐射源408，辐射路径410，过滤器412，扩散器414，和准直器416。除了这些部件之外，第一uv辐射组件402和第二uv辐射组件404可分别包括第一反射器418和第二反射器420。第一反射器418和第二反射器420可被配置成在相应的扩散器414下游以及相应的准直器416上游的相应的辐射路径410中产生第一和第二折叠(fold)422，424。与具有直的辐射路径(无第一折叠422和第二折叠424)的对应体系统相比，第一反射器418和第二反射器420可以是有利的，例如，以较小的占用空间(footprint)来增加相应的扩散器414和准直器416之间的有效距离。这可以允许较大发散度的uv辐射接近照射区域406，而无需整个光疗系统400过长。

在所示出的实施方案中，第一反射器418和第二反射器420以直角折叠相应的辐射路径410。在其他实施方案中，第一反射器418和第二反射器420能以其他合适的角度折叠相应的辐射路径410。此外，可沿着辐射路径410包含额外的反射器，以将扩散器414和准直器416之间的距离进一步延伸到光疗系统400的期望占用空间内。根据其他实施方案的光疗系统可以仅包括第一uv辐射组件402和第二uv辐射组件404中的一个或具有或不具有折叠反射器的两个以上uv辐射组件。分别地，第一uv辐射组件402和第二uv辐射组件404可包括任意合适数量的辐射源408。除了其他特征之外，例如反射器的角度，反射器的数量，uv辐射组件的定向，以及uv辐射组件的数量等特征可进行修改以在根据本技术的多种实施方案的光疗系统中实现所期望的形状因子(formfactors)。

图5a和图5b分别是可被用于根据本技术另外的实施方案的光疗系统中的辐射源500a和500b的部分示意性侧视图。辐射源500a，500b包括发光二极管(led)阵列502，而不是辐射源110(图1)。led阵列502可包括用作生成uv辐射的聚光源的多个led504。辐射源500a，500b可进一步包括附接至led504或紧邻led504下游间隔开的准直透镜506。准直透镜506可被配置成使得每个led504具有对应的准直透镜506。准直透镜506被配置成折射在led504处所生成的uv辐射，从而增加uv辐射的准直，因此它们可以起到类似于准直反射器116(图2)的目的的作用。

辐射源500a，500b可进一步包括一个或多个过滤器518以及与各个led504对准的扩散器520。尽管led504可以发射窄带宽(例如，15nm-20nm)的辐射，但是若干光疗过程受益于甚至更窄的带宽(例如，2nm-5nm)。正因为如此，过滤器518通常仍然期望与辐射源500a，500b中的led504一起使用。在辐射源500a的实施方案中，各个过滤器518和扩散器520与相应的led504对准。在辐射源500b的实施方案中，使用单个阵列大小的过滤器518和扩散器520。辐射源500a，500b还包括与扩散器520间隔开距离d4的至少一个准直器526。例如，辐射源500a具有多个准直器526，每个准直器526与相应的led504对准，而辐射源500b具有单个阵列大小的准直器526。距离d4被设定为使得来自一个led504的辐射开始与来自相邻led504的辐射重叠。因此，来自led504的辐射被扩散到辐射至少基本均匀的点，然后辐射在准直器526处被重新准直。

因为led504通常较小，所以大量led504可以彼此相对靠近地间隔开，使得led阵列502为一大块(alargepanelof)聚光源，每个聚光源产生共同的辐射分布。因此，与辐射源110(图1)相比，led阵列502在距led阵列502的近距离处产生相对更加均匀的光线分布。因此，使用led阵列502作为辐射源的实施方案不一定需要如具有高度不均匀辐射分布的辐射源110那样远地将扩散器520与准直器526分隔开。

图5c示意性地示出了具有隔间554，辐射区域556，以及辐射源500a和/或500b中任一个的光疗系统550。在此实施方案中，辐射源500a，500b与辐射区域556间隔开距离d5，该距离d5比图1中所示出的辐射源110a-110c与辐射区域106之间的距离d1+d2+d3短得多。与图1中所示出的隔间104或图4中所示出的光疗系统400所需的隔间相比，预期减小隔间554的尺寸。这可能是显著的优点，因为在许多类型的安装中，占地空间(floorspace)通常是限制因素。在其他实施方案中，可以用被配置成与受试者的皮肤紧密接触的可穿戴基体(例如，毯子，衣物，袖带等)来替换隔间104。

图6a和图6b分别是可被用于根据本技术另外的实施方案的光疗系统中的辐射源600a和600b的部分示意性侧视图。类似于辐射源500a，500b(图5a和图5b)，辐射源600a，600b包括发光二极管(led)阵列602，该发光二极管(led)阵列602包括用作产生uv辐射的聚光源的多个led604。辐射源600a包括led604下游的准直器626，以及准直器626下游的多个过滤器618。辐射源600b包括被附接至led604或紧邻led604下游间隔开的准直透镜606，以及准直透镜606下游的阵列大小(array-sized)的过滤器618。辐射源600b进一步包括承载过滤器618的透明背衬(backing)670。图6c示意性地示出了可穿戴光疗装置680，该可穿戴光疗装置680具有柔性基体682和由柔性基体682承载(例如，被嵌入柔性基体)的辐射源600a和/或600b中的任一个。与隔间554(图5c)的可穿戴对应体一样，光疗装置680可以是毯子，衣物，袖带，或者具有被配置成与受试者的皮肤紧密接触的另一种合适的形式。

图7是示出根据本技术的实施方案的光疗方法700的流程图。一起参考图1至图7，方法700可以包括在隔间104处接纳受试者108(框702)。方法700可进一步包括在受试者108位于隔间104内的同时沿着辐射路径712，710将至少部分准直的uv辐射引导至受试者108的皮肤表面。在至少一些情况下，这包括在聚光源114处生成uv辐射(框704)并且增加所生成的uv辐射的准直(框706)。通过在准直反射器116处反射uv辐射，通过在准直透镜506处折射uv辐射，或以另一种合适的方式，可以增加所生成的uv辐射的准直。接下来，方法700可以包括对沿着辐射路径112，410所引导的uv辐射进行过滤(框708)。当方法700被应用于维生素d光疗的情境下并且在其他情况下，过滤uv辐射可以包括相对于波长大于304nm和/或小于292nm的uv辐射优先允许波长为约297nm的uv辐射通过。

在过滤uv辐射之后，方法700可以包括扩散(例如，扩散而不散射)经过滤的uv辐射(框710)，从而减少经过滤的uv辐射的准直。扩散经过滤的uv辐射可以发生在第一小透镜阵列122和第二小透镜阵列124处。在通过第一小透镜阵列122和第二小透镜阵列124之后，uv辐射可以形成发散光束。方法700可以包括将这些光束向受试者108的皮肤表面反射(框712)，从而折叠光束。在光束到达受试者108的皮肤表面之前，方法700可以包括在准直器126，416处增加uv辐射的准直(框714)。然后可以以期望的方式(例如以与隔间104内的受试者的位置无关的高度均匀性)将uv辐射递送到受试者108(框716)。

示例

1.一种光疗系统，包括：

壳体，该壳体至少部分地限定照射区域，其中该照射区域被配置成容纳人类受试者的至少一部分；

紫外线(uv)辐射源，该紫外线辐射源被配置成沿着从该辐射源延伸到该照射区域的辐射路径引导uv辐射；

过滤器，该过滤器沿着该辐射源下游的该辐射路径设置；

扩散器，该扩散器沿着该过滤器下游的该辐射路径设置；以及

准直器，该准直器沿着该扩散器下游的该辐射路径设置。

2.如示例1的光疗系统，其中：

该辐射源被配置成沿着该辐射路径引导至少部分准直的uv辐射；

该扩散器减少来自该辐射源的uv辐射的准直；并且

该准直器增加来自该辐射源的uv辐射的准直。

3.如示例1的光疗系统，其中该辐射路径包括该扩散器下游和该准直器上游的折叠部，并且其中该系统进一步包括被配置成限定该折叠部的折叠反射器。

4.如示例1的光疗系统，其中该壳体至少部分地限定步入式隔间，并且其中该照射区域位于该隔间内。

5.如示例1的光疗系统，其中该过滤器被配置成相对于波长大于304nm或小于292nm的uv辐射优选允许波长为约297nm的uv辐射通过。

6.如示例1的光疗系统，其中该过滤器包括在该扩散器的上游表面由该扩散器承载的膜。

7.如示例1的光疗系统，其中该辐射源包括：

聚光源，在该聚光源处生成uv辐射；以及

准直反射器，该准直反射器被配置成反射在该聚光源处所生成的uv辐射，从而增加在该聚光源处所生成的该uv辐射的准直。

8.如示例7的光疗系统，其中该聚光源是弧光灯。

9.如示例1的光疗系统，其中该辐射源包括：

聚光源，在该聚光源处生成uv辐射；以及

准直透镜，该准直透镜被配置成折射在该聚光源处所生成的uv辐射，从而增加在该聚光源处所生成的该uv辐射的准直。

10.如示例9的光疗系统，其中该聚光源是发光二极管。

11.如示例1的光疗系统，其中该扩散器包括小透镜阵列。

12.如示例11的光疗系统，其中该小透镜阵列具有平坦的上游表面，并且其中该过滤器包括覆盖该小透镜阵列的该上游表面的膜。

13.如示例11的光疗系统，其中该小透镜阵列是第一小透镜阵列，并且其中该扩散器包括沿着该辐射路径与该第一小透镜阵列间隔开的第二小透镜阵列。

14.一种光疗系统，包括：

壳体，该壳体至少部分地限定照射区域，其中该照射区域被配置成容纳人类受试者的至少一部分；

第一紫外线(uv)辐射组件，该第一紫外线辐射组件包括-

第一uv辐射源，该第一uv辐射源被配置成沿着从该第一辐射源延伸到该照射区域的第一辐射路径引导uv辐射，

第一扩散器，该第一扩散器沿着该第一辐射源下游的该第一辐射路径设置，以及

第一准直器，该第一准直器沿着该第一扩散器下游的该第一辐射路径设置；以及

第二紫外线uv辐射组件，该第二紫外线uv辐射组件包括-

第二uv辐射源，该第二uv辐射源被配置成沿着从该第二辐射源延伸到该照射区域的第二辐射路径引导uv辐射，

第二扩散器，该第二扩散器沿着该第二辐射源下游的该第二辐射路径设置，以及

第二准直器，该第二准直器沿着该第二扩散器下游的该第二辐射路径设置。

15.如示例14的光疗系统，其中：

该第一辐射源和该第二辐射源被配置成分别沿着该第一辐射路径和该第二辐射路径引导至少部分准直的uv辐射；

该第一扩散器和该第二扩散器分别减少来自该第一辐射源和该第二辐射源的uv辐射的准直；并且

该第一准直器和该第二准直器分别增加来自该第一辐射源和该第二辐射源的uv辐射的准直。

16.如示例14的光疗系统，其中：

该第一辐射路径包括该第一扩散器下游和该第一准直器上游的第一折叠部；

该第二辐射路径包括该第二扩散器下游和该第二准直器上游的第二折叠部；

该第一uv辐射组件包括被配置成限定该第一折叠部的第一折叠反射器；并且

该第二uv辐射组件包括被配置成限定该第二折叠部的第二折叠反射器。

17.如示例14的光疗系统，其中该壳体至少部分地限定步入式隔间，并且其中该照射区域位于该隔间内。

18.如示例14的光疗系统，其中：

该第一uv辐射组件包括沿着该第一辐射源下游和该第一扩散器上游的该第一辐射路径设置的第一过滤器；并且

该第二uv辐射组件包括沿着该第二辐射源下游和该第二扩散器上游的该第二辐射路径设置的第二过滤器。

19.如示例18的光疗系统，其中该第一过滤器和该第二过滤器被配置成相对于波长大于304nm或小于292nm的uv辐射优先允许波长为约297nm的uv辐射通过。

20.如示例18的光疗系统，其中：

该第一过滤器包括在该第一扩散器的上游表面由该第一扩散器承载的第一膜；并且

该第二过滤器包括在该第二扩散器的上游表面由该第二扩散器承载的第二膜。

21.如示例14的光疗系统，其中：

该第一辐射组件包括-

第一聚光源，在该第一聚光源处生成uv辐射，以及

第一准直反射器，该第一准直反射器被配置成反射在该第一聚光源处所生成的uv辐射，从而增加在该第一聚光源处所生成的该uv辐射的准直；并且

该第二辐射组件包括-

第二聚光源，在该第二聚光源处生成uv辐射，以及

第二准直反射器，该第二准直反射器被配置成反射在该第二聚光源处所生成的uv辐射，从而增加在该第二聚光源处所生成的该uv辐射的准直。

22.如示例21的光疗系统，其中该第一聚光源和该第二聚光源各自为弧光灯。

23.如示例14的光疗系统，其中：

该第一辐射组件包括-

第一聚光源，在该第一聚光源处生成uv辐射，以及

第一准直透镜，该第一准直透镜被配置成折射在该第一聚光源处所生成的uv辐射，从而增加在该第一聚光源处所生成的该uv辐射的准直；并且

该第二辐射组件包括-

第二聚光源，在该第二聚光源处生成uv辐射，以及

第二准直透镜，该第二准直透镜被配置成折射在该第二聚光源处所生成的uv辐射，从而增加在该第二聚光源处所生成的该uv辐射的准直。

24.如示例23的光疗系统，其中该第一聚光源和该第二聚光源各自为发光二极管。

25.如示例14的光疗系统，其中该第一扩散器和该第二扩散器各自包括小透镜阵列。

26.如示例25的光疗系统，其中该小透镜阵列是第一小透镜阵列，并且其中该第一扩散器和该第二扩散器各自包括沿着该第一辐射路径和该第二辐射路径中对应的路径与对应的第一小透镜阵列间隔开的第二小透镜阵列。

27.如示例14的光疗系统，其中该第一辐射组件和该第二辐射组件被配置成经由该照射区域的相对的相应侧向该照射区域提供uv辐射。

28.一种光疗方法，包括：

沿着从辐射源延伸到人类受试者皮肤表面的辐射路径引导uv辐射；

过滤该被引导的uv辐射；

扩散该经过滤的uv辐射；并且

增加经扩散的uv辐射的准直。

29.如示例28的光疗方法，其中：

引导该uv辐射包括引导至少部分准直的uv辐射；

过滤该被引导的uv辐射包括过滤该至少部分准直的uv辐射；并且

扩散该经过滤的uv辐射包括扩散该经过滤的uv辐射，从而减少经过滤的uv辐射的准直。

30.如示例28的光疗方法，进一步包括将该uv辐射向该受试者的该皮肤表面反射。

31.如示例28的光疗方法，进一步包括在步入式隔间接纳该受试者，其中引导该uv辐射包括在该受试者位于该隔间内时引导该uv辐射。

32.如示例28的光疗方法，其中过滤该被引导的uv辐射包括相对于波长大于304nm或小于292nm的uv辐射优先允许波长为约297nm的uv辐射通过。

33.如示例28的光疗方法，其中引导该uv辐射包括：

在聚光源处生成该uv辐射；并且

反射在该聚光源处所生成的该uv辐射，从而增加在该聚光源处所生成的该uv辐射的准直。

34.如示例33的光疗方法，其中生成该uv辐射包括在弧光灯处生成该uv辐射。

35.如示例28的光疗方法，其中引导该uv辐射包括：

在聚光源处生成该uv辐射；并且

折射在该聚光源处所生成的该uv辐射，从而增加在该聚光源处所生成的该uv辐射的准直。

36.如示例35的光疗方法，其中生成该uv辐射包括在发光二极管处生成该uv辐射。

37.如示例28的光疗方法，其中扩散该经过滤的uv辐射包括在小透镜阵列处折射该经过滤的uv辐射。

38.如示例28的光疗方法，其中扩散该经过滤的uv辐射包括：

在第一小透镜阵列处折射该经过滤的uv辐射；并且

在沿着该辐射路径与该第一小透镜阵列间隔开的第二小透镜阵列处折射该经过滤的uv辐射。

结论

本公开并非旨在穷举或将本技术限制于本文所公开的精确形式。尽管出于说明性目的本文公开了特定实施方案，但是如相关领域的普通技术人员将认识到的，在不偏离本技术的情况下可以进行多种等同修改。在一些情况下，未详细示出和/或描述公知的结构及功能，以避免不必要地模糊本技术的实施方案的描述。尽管本文可以以特定的顺序来呈现方法的步骤，但是在替代的实施方案中，这些步骤可以具有其他合适的顺序。类似地，在特定实施方案的情境中所公开的本技术的某些方面可以在其他实施方案中进行组合或消除。此外，虽然可能已经在那些实施方案的情境下公开了与某些实施方案相关联的优点，但是其他实施方案也可以表现出此类优点，而且并非所有的实施方案都必须表现出本文所公开的此类优点或其他优点以落入本技术的范围内。

贯穿本公开，除非上下文另有明确说明，否则单数术语″一个(a)″，″一个(an)″，和″该″包括复数个指代物。类似地，除非词语″或″明确限于仅指涉及两个或多个项目的列表中排除其他项目的单个项目，否则在该列表中使用″或″将被解释为包括(a)列表中的任何单个项目，(b)列表中的所有项目，或(c)列表中项目的任何组合。另外，术语″包括″等在本文中可被用于表示至少包括所限定的一个或多个特征，使得不排除任何更多数量的相同特征和/或一个或多个其他类型的特征。本文可使用例如″上″，″下″，″前″，″后″，″竖直″，和″水平″的方向术语来表达并阐明多个元件之间的关系。应当理解的是，这些术语不表示绝对定向。本文对″一个实施方案″，″实施方案″，或类似陈述的引用意味着结合该实施方案所描述的特定特征，结构，操作，或特性可被包括在本技术的至少一个实施方案中。因此，本文中这些短语或陈述的出现不一定都指同一实施方案。此外，多种特定特征，结构，操作，或特性可在本技术的一个或多个实施方案中以任何合适的方式进行组合。