一种多点喷射高压雾化药液的糖尿病足创面治疗装置的制作方法

[0001]
本发明属于治疗器械领域，更具体地说，尤其是涉及到一种多点喷射高压雾化药液的糖尿病足创面治疗装置。


背景技术：

[0002]
糖尿病足创面通过喷射高压雾化药液进行治疗，通过药液的雾化将其脚部包裹封闭起来，让其药液能够充分的被吸收，使其足创面能够得到更好的治疗。
[0003]
基于上述本发明人发现，现有的多点喷射高压雾化药液足创面治疗装置主要存在以下几点不足，比如：当雾化罩在罩于脚部进行封闭式药液雾化时，其内部所产生的水气较容易顺着罩体内壁，滑于脚部上，容易造成药液与水的混合，从而较低了药液的效果。
[0004]
因此需要提出一种多点喷射高压雾化药液的糖尿病足创面治疗装置。


技术实现要素：

[0005]
为了解决上述技术当雾化罩在罩于脚部进行封闭式药液雾化时，其内部所产生的水气较容易顺着罩体内壁，滑于脚部上，容易造成药液与水的混合，从而较低了药液的效果的问题。
[0006]
本发明一种多点喷射高压雾化药液的糖尿病足创面治疗装置的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：其结构包括底座、雾化罩、衔接管、控制端、雾化控制箱，所述雾化控制箱底端固定于底座上表面，所述雾化罩衔接于衔接管末端，所述衔接管远离雾化罩的一端与控制端相连接，所述控制端固定于雾化控制箱上表面。
[0007]
所述雾化罩包括衔接口、旋环道、外延边，所述衔接口与外延边为一体化结构，所述旋环道嵌入于外延边内部。
[0008]
作为本发明的进一步改进，所述旋环道包括外壳、导壁面、蓄水道，所述蓄水道两个之间形成有导壁面，所述导壁面与外壳为一体化结构，所述外壳为对称结构。
[0009]
作为本发明的进一步改进，所述蓄水道包括导头、引导道，所述导头固定于引导道内壁，所述导头间隔分布。
[0010]
作为本发明的进一步改进，所述导头包括引导节、凹道、弯角口、中条，所述中条与凹道为一体化结构，所述引导节安装于凹道外表面，所述弯角口与凹道为一体化结构，所述凹道为长条结构，所述引导节设有七个。
[0011]
作为本发明的进一步改进，所述引导节包括延块、垂球、胶弧、展条，所述展条贴合于两个延块之间，所述垂球嵌入于延块内部，所述胶弧贴合于延块外表面，所述胶弧为橡胶材质所制成，具有一定的韧性，所述垂球为球体结构。
[0012]
作为本发明的进一步改进，所述引导道包括导向块、导体，所述导体与导向块为一体化结构，所述导向块间隔分布。
[0013]
作为本发明的进一步改进，所述导向块包括外固层、内硬块，所述外固层贴合于内硬块外表面，所述内硬块为梯形结构。
[0014]
作为本发明的进一步改进，所述导体包括胶头、中块、斜块、侧固边，所述胶头与中块为一体化结构，所述中块左右两端与斜块相贴合，所述斜块远离中块的一端与侧固边相连接，所述斜块为对称结构，所述胶头为橡胶材质所制成。
[0015]
与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：1.由雾化罩将其患者的脚部的包裹住，让药液雾化从雾化罩的衔接口衔接往外输出，其导头内部的引导节将会把匀分开的水气汇集于一起，主要引导水珠的汇集，其着附于延块表面的水气将会顺着延块的倾斜角度进行滑动，辅助液体的滑动，使其水气能够位于胶弧表面进行汇集，能够引导罩体内部的水气流动方向，防止流于患者脚部上。
[0016]
2.导向块内部的内硬块将会保持整体间隔的硬力，由外固层对其进行包裹防护，让中块与胶头垂延汇集的水气，往中道进行汇集，防护内部衔接部位，两侧由侧固边间隔开硬力部位，能够在水气一开始遍布于大多部位时，能够通过部位的倾斜来控制。
附图说明
[0017]
图1为本发明一种多点喷射高压雾化药液的糖尿病足创面治疗装置的结构示意图。
[0018]
图2为本发明一种雾化罩的俯视内部结构示意图。
[0019]
图3为本发明一种旋环道的俯视内部结构示意图。
[0020]
图4为本发明一种蓄水道的正视内部结构示意图。
[0021]
图5为本发明一种导头的正视内部结构示意图。
[0022]
图6为本发明一种引导节的正视内部结构示意图。
[0023]
图7为本发明一种引导道的正视内部结构示意图。
[0024]
图8为本发明一种导向块的正视内部结构示意图。
[0025]
图9为本发明一种导体的正视内部结构示意图。
[0026]
图中：底座-11、雾化罩-22、衔接管-33、控制端-44、雾化控制箱-55、衔接口-201、旋环道-202、外延边-203、外壳-001、导壁面-002、蓄水道-003、导头-111、引导道-112、引导节-e01、凹道-e02、弯角口-e03、中条-e04、延块-w11、垂球-w12、胶弧-w13、展条-w14、导向块-x11、导体-x12、外固层-511、内硬块-512、胶头-m11、中块-m12、斜块-m13、侧固边-m14。
具体实施方式
[0027]
以下结合附图对本发明做进一步描述：实施例1：如附图1至附图6所示：本发明提供一种多点喷射高压雾化药液的糖尿病足创面治疗装置，其结构包括底座11、雾化罩22、衔接管33、控制端44、雾化控制箱55，所述雾化控制箱55底端固定于底座11上表面，所述雾化罩22衔接于衔接管33末端，所述衔接管33远离雾化罩22的一端与控制端44相连接，所述控制端44固定于雾化控制箱55上表面。
[0028]
所述雾化罩22包括衔接口201、旋环道202、外延边203，所述衔接口201与外延边
203为一体化结构，所述旋环道202嵌入于外延边203内部。
[0029]
其中，所述旋环道202包括外壳001、导壁面002、蓄水道003，所述蓄水道003两个之间形成有导壁面002，所述导壁面002与外壳001为一体化结构，所述外壳001为对称结构，所述蓄水道003呈倾斜角度缠绕于衔接部位，所述蓄水道003对内壁的水珠进行引导汇流，所述导壁面002让整体呈一定倾斜角度分布。
[0030]
其中，所述蓄水道003包括导头111、引导道112，所述导头111固定于引导道112内壁，所述导头111间隔分布，所述引导道112衔接部位部位的安装范围，所述导头111汇集水珠引导于同一个方向。
[0031]
其中，所述导头111包括引导节e01、凹道e02、弯角口e03、中条e04，所述中条e04与凹道e02为一体化结构，所述引导节e01安装于凹道e02外表面，所述弯角口e03与凹道e02为一体化结构，所述凹道e02为长条结构，所述引导节e01设有七个，所述凹道e02自身为弧形结构，让凹陷进去的水气，难以再次往外流出，所述引导节e01主要引导水珠的汇集，所述中条e04让衔接部位有一定的凹陷起伏，来让外流液体有一定的层次分流。
[0032]
其中，所述引导节e01包括延块w11、垂球w12、胶弧w13、展条w14，所述展条w14贴合于两个延块w11之间，所述垂球w12嵌入于延块w11内部，所述胶弧w13贴合于延块w11外表面，所述胶弧w13为橡胶材质所制成，具有一定的韧性，所述垂球w12为球体结构，所述展条w14在衔接部位受力时，将会拉扯开，所述延块w11辅助液体的滑动，所述垂球w12让整体衔接部位形成一定的垂向。
[0033]
本实施例的具体使用方式与作用：本发明中，通过控制端44控制，让药液雾化混合通过衔接管33灌输高压喷射输出，由雾化罩22将其患者的脚部的包裹住，让药液雾化从雾化罩22的衔接口201衔接往外输出，其所产生的水气将会着附于旋环道202表面进行滑动，其水气顺着导壁面002的倾斜进行引导的过程中，将会滑入蓄水道003内部，通过引导道112将其引流至导头111内部，其导头111内部的引导节e01将会把匀分开的水气汇集于一起，通过弯角口e03的弧度将其兜住，内部的中条e04将会与弯角口e03形成起伏，让汇集的水气能够更快的分流开，其着附于延块w11表面的水气将会顺着延块w11的倾斜角度进行滑动，衔接在延块w11内部的展条w14将会适当的拉扯开整体的硬力，让垂球w12垂向胶弧w13为弧形，使其水气能够位于胶弧w13表面进行汇集，从而导入弯角口e03内部进行流动，其蓄水道003是倾斜缠绕于外壳001内部，其水气将会逐渐顺着蓄水道003往下流出，防止附着在脚部影响药液的效果。
[0034]
实施例2：如附图7至附图9所示：其中，所述引导道112包括导向块x11、导体x12，所述导体x12与导向块x11为一体化结构，所述导向块x11间隔分布，所述导向块x11保持整体的硬力，所述导体x12呈倾斜角度引流水体。
[0035]
其中，所述导向块x11包括外固层511、内硬块512，所述外固层511贴合于内硬块512外表面，所述内硬块512为梯形结构，所述内硬块512保持外层的硬力，所述外固层511防护内部衔接部位。
[0036]
其中，所述导体x12包括胶头m11、中块m12、斜块m13、侧固边m14，所述胶头m11与中块m12为一体化结构，所述中块m12左右两端与斜块m13相贴合，所述斜块m13远离中块m12的
一端与侧固边m14相连接，所述斜块m13为对称结构，所述胶头m11为橡胶材质所制成，所述胶头m11在外层保持硬力的同时，对其起到一定程度上的缓解，所述斜块m13引导整体的倾斜。
[0037]
本实施例的具体使用方式与作用：本发明中，在水气位于导壁面002表面时，其导头111外层的引导道112的导向块x11与导体x12时呈一定角度倾斜的，导向块x11内部的内硬块512将会保持整体间隔的硬力，由外固层511对其进行包裹防护，让水气顺着外固层511进行往中部滑动，在内硬块512两侧由斜块m13引导整体的倾斜角度，让中块m12与胶头m11垂延汇集的水气，往中道进行汇集，两侧由侧固边m14间隔开硬力部位，起到缓冲的作用，让水气能够顺利的通过导向块x11与导体x12进行汇集。
[0038]
利用本发明所述技术方案，或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下，设计出类似的技术方案，而达到上述技术效果的，均是落入本发明的保护范围。