专利名称：计算机硬盘基板研磨用清洗液的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种清洗液，尤其是一种制备方法简单、成本低、对环境污染 小且可彻底清洗污染物的计算机硬盘基板研磨用清洗液及清洗方法。
背景技术：
计算机系统中的磁记忆存储器主要由两个基本单元组成，即磁头和硬信息 盘(硬盘)。硬盘则是由基板和基板上的铬底膜、钴基合金磁性介质膜、保护膜 和润滑层等几种涂层组成，其中基板的主要材料为表面镀磷化镍的铝盘(NiP/Al 盘)。计算机硬盘在加工过程中需要对基板研磨，研磨工艺后还要对基板进行清 洗，其目的是清除基板表面残留的基板材料及研磨液等污染物，否则所存在的 污染物将影响硬盘的成品率、优良率以及可靠性。然而，由于研磨后的硬盘基 板表面处于活性状态，极易吸附金属颗粒、有机杂质、无机盐杂质及金属离子 等污染物，要除去这些污染物，就需要具有高度清洗能力的清洗剂。随着我国计算机产业和微电子加工业的飞速发展，硬盘清洗剂的需求也不 断扩大，但目前我国所采用的清洗剂全部依赖国外进口，价格居高不下，据统计，仅2007年我国对硬盘清洗剂的需求就有50亿元之多，严重制约了我国计算机产业的发展。因此，开发计算机硬盘清洗剂对推动我国经济发展具有重要的 社会效益和经济意义。传统清洗方法主要是用氟利昂、四氯化碳、三氯乙烯等具有高效清洗能力 的试剂。尽管这些试剂可彻底清除硬盘基板研磨后所残留的污染物，但是却均为臭氧消耗物质(ODS)，严重破坏臭氧层，对环境污染严重，国际上已明确规 定禁止使用该类物质。我国在2010年也将全部淘汰这些ODS物质。因此众多研 究者一直都在寻求新的可以替代现有ODS清洗剂的产品，但迄今为止，尚无一 种对环境污染小，能有效清洗硬盘基板研磨后残留污染物的清洗剂。
发明内容
本发明是为了解决现有技术所存在的上述问题，提供一种制备方法简单、 成本低、对环境污染小且可彻底清洗污染物的计算机硬盘基板研磨用清洗液。本发明的技术解决方案是 一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在50/O 20% 2% 10% 1% 10% 0.1% 5%乙二酸、乙二胺四亚乙基膦酸、二乙 酸中的至少一种。于原料及重量百分比如下一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于含有的原料及重量百分比 如下有机酸 表面活性剂 渗透剂 螯合剂 去离子水所述的有机酸是甲酸、乙酸、丙酸 三胺五亚乙基膦酸或三乙四胺六亚乙基所述的表面活性剂是含氟聚醚表面活性剂、聚氧乙烯嵌段表面活性剂或聚 硅烷表面活性剂中的至少一种。所述的渗透剂是快速渗透剂，分子通式为CnH2n+10(C2H40)xH， n=12~18,所述的螯合剂是乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠盐、柠檬酸、抗坏血酸 维生素C或植酸中的至少一种。本发明同现有技术相比，具有以下优点1. 本发明含有的高分子表面活性剂和渗透剂，能降低清洗剂的表面张力， 可以快速渗透到硬盘基板表面，剥离掉表面污染物，有效清洗硬盘基板表面。2. 本发明含有的有机酸，能够有效去除吸附在硬盘基板表面上的抛光液中 的有机物。3. 本发明含有的螯合剂，可以捕获清洗组合物中的金属杂质并与其形成络离子，从而抑制金属杂质对硬盘基板的污染。4. 本发明原料来源广泛，制备方法简单、成本低，对环境无污染，各组分 协同作用，可彻底清洗污染物，完全能够替代现有成本高、污染严重的清洗液。
具体实施例方式
实施例l:一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，是由有机酸、表面活性剂、渗透剂、 螯合剂和去离子水组成。其原料和重量百分比如下有机酸5%~20%、表面活性齐!12%~10%、渗透剂1%~10%、螯合剂0.1%~5°/。、 去离子水余量。各原料在其重量范围内选择，总重量为100%。所述的有机酸是甲酸、乙酸、丙酸、乙二酸、乙二胺四亚乙基膦酸、二乙 三胺五亚乙基膦酸或三乙四胺六亚乙基膦酸中的至少一种。所述的表面活性剂是含氟聚醚表面活性剂、聚氧乙烯嵌段表面活性剂或聚 硅垸表面活性剂中的至少一种。所述的渗透剂是快速渗透剂，分子通式为CnH2n+10(C2H40)xH， n=12 18,所述的螯合剂是乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠盐、柠檬酸、抗坏血酸 维生素C或植酸中的至少一种。将上述成分混合均匀，得计算机硬盘研磨用清洗液。 清洗方法按如下步骤进行a. 用去离子水将清洗剂配制成10%的清洗液放入第一槽中，将硬盘装入硬 盘盒并浸泡在清洗液内，室温超声清洗5 10分钟；b. 用去离子水将清洗剂配制成3%的清洗液放入第二槽中，并将经a步骤 清洗装有硬盘的硬盘盒浸泡在清洗液中，室温超声清洗5 10分钟；c. 将去离子水放入第三槽，将经b步骤清洗的装有硬盘的硬盘盒取出放入 第三槽，室温超声漂洗5 10分钟；d. 将去离子水放入第四槽，将经c步骤清洗的装有硬盘的硬盘盒取出放入第四槽，室温超声漂洗5 10分钟；e. 用去离子水对经d步骤漂洗的硬盘进行喷淋3~5分钟；f. 用热风烘干。清洗效果评价与传统清洗剂比较，本发明提供的清洗剂能达到更好的清洗效果，分析测试表明用本发明清洗的硬盘基板表面金属沾污程度比传统清洗 剂低。实施例2:原料及重量百分比如下 甲酸8%全氟聚醚基表面活性剂2% JFC: 3%乙二胺四乙酸二钠盐0.5% 水余量将上述成分混合均匀，得计算机硬盘基板用清洗液。清洗方法及清洗效果 同实施例l。 实施例3:原料和重量百分比如下 乙酸5%Pluronic表面活性剂2% JFC: 5%乙二胺四乙酸二钠盐0.5% 水余量将上述成分混合均匀，得计算机硬盘基板用清洗液。清洗方法及清洗效果 同实施例l。 实施例4:原料及重量百分比如下 乙二胺四亚乙基膦酸20% L62聚醚表面活性剂3% 脂肪醇聚氧乙烯醚3% 柠檬酸0.5% 水余量将上述成分混合均匀，得计算机硬盘基板用清洗液。清洗方法及清洗效果 同实施例l。 实施例5:原料及重量百分比如下 二乙三胺五亚乙基膦酸8% L64聚醚表面活性剂3% 脂肪醇聚氧乙烯醚:3% 植酸0.5% 水余量将上述成分混合均匀，得计算机硬盘基板用清洗液。清洗方法及清洗效果 同实施例l。 实施例6:原料及重量百分比如下 三乙四胺六亚乙基膦酸5% 含氟聚醚表面活性剂3%JFC: 5%抗坏血酸维生素C: 0.5% 水余量将上述成分混合均匀，得计算机硬盘基板用清洗液。清洗方法及清洗效果 同实施例l。
权利要求
1. 一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于原料及重量百分比如下有机酸5％～20％表面活性剂2％～10％渗透剂1％～10％螯合剂0.1％～5％去离子水 余量。
2. 根据权利要求1所述的计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于所述 的有机酸是甲酸、乙酸、丙酸、乙二酸、乙二胺四亚乙基膦酸、二乙三胺五亚 乙基膦酸或三乙四胺六亚乙基膦酸中的至少一种。
3. 根据权利要求1或2所述的计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于所 述的表面活性剂是含氟聚醚表面活性剂、聚氧乙烯嵌段表面活性剂或聚硅烷表 面活性剂中的至少一种。
4. 根据权利要求3所述的计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于所述 的渗透剂是快速渗透剂，分子通式为CnH2n+10(C2H40)xH， n=12 18，5c=6~12。
5. 根据权利要求4所述的计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于所述 的螯合剂是乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠盐、柠檬酸、抗坏血酸维生素C 或植酸中的至少一种。
全文摘要
本发明公开一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于原料及重量百分比如下有机酸5％～20％、表面活性剂2％～10％、渗透剂1％～10％、螯合剂0.1％～5％、去离子水余量。本发明原料来源广泛，制备方法简单、成本低，对环境无污染，各组分协同作用，可彻底清洗污染物，完全能够替代现有成本高、污染严重的清洗液。
文档编号C11D7/32GK101260346SQ20081001107
公开日2008年9月10日 申请日期2008年4月18日 优先权日2008年4月18日
发明者军 侯 申请人:大连三达奥克化学股份有限公司