专利名称：拉西环的清洗装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体领域的可用于清洗拉西环的清洗装置。
背景技术：
半导体产品的制程繁杂多样，且制程中所使用的化学物质种类相当繁多。 为了避免有毒的废气排放到空气中，在废气排放之前，必须先采用废气处理系
统如洗涤塔对废气进行处理。无论是位于机台端的本地洗涤塔(local scrubber) 还是处于厂务端的中央洗涤塔(center scrubber),大部分采用的是填充式的湿式 洗涤塔。
在湿式洗涤塔中，承载填充物的部件是拉西环。使用一段时间后，拉西环 上会堆积很多污垢，如果不及时处理的话，就会影响废气处理的质量与效率。 因此，需要定期清洗拉西环。目前没有专门用于清洗拉西环的装置，仅是将一 堆拉西环放在清洗槽中用高压水柱冲洗。这种清洗方式不容易将拉西环清洗干 净，而且几个拉西环就会使整个清洗槽内的水变得混浊，从而浪费大量的水。
发明内容
有鉴于此，本发明解决的技术问题在于提供一种高效率的拉西环的清洗装置。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种拉西环的清洗装置。所述清洗装 置包括相隔设置的用于放置拉西环的清洗槽以及对清洗产生的废水进行过滤的 过滤器；所述清洗槽的深度小于清洗装置的深度，且清洗槽上设有数个小于拉 西环的漏孔。
进一步地，所述清洗装置还包括位于清洗槽和过滤器之间的溢出板，所述 溢出板的高度低于清洗槽；所述溢出板挡住顺清洗槽流下的沉淀物，所述过滤 器对溢过所述溢出板的废水进行过滤。
进一步地，所述清洗槽上的数个漏孔均设置在清洗槽的底壁上。 进一步地，所述过滤器呈板状，可拆卸地竖直安装在所述清洗装置内。所述过滤器包括平行相隔设置的第一过滤器和第二过滤器，第一过滤器靠近清洗
槽，且高度低于第二过滤器；第二过滤器上的过滤网比第一过滤器上的过滤网 细。
与现有技术相比，本发明提供的清洗装置不仅可以有效地将拉西环上堆积 的污垢清洗干净，而且可以对废水进行过滤，^吏得清洗产生的废水可以进行重 复利用，进而节约水资源。
图l是本发明实施例拉西环的清洗装置的立体示意图。 图2是本发明实施例拉西环的清洗装置的截面示意图。
具体实施例方式
以下结合附图对本发明拉西环的清洗装置的较佳实施例作详细描述，以期 进一步理解发明的技术方案、目的以及有益效果等。
图1为本实施例的拉西环的清洗装置的立体示意图。请结合图2,该清洗装 置由前、后、左、右及底壁围绕而成，呈长方体状。该清洗装置的右侧设有清 洗槽l,深度大致是整个清洗装置的一半，用于放置需要清洗的拉西环8。该清 洗槽1由竖直放置的止挡板12、水平放置的底壁10以及清洗装置的部分右壁和 后壁围绕形成。所述底壁10上具有若干个漏孔11,漏孔ll的形状可以是圆形， 也可以是方形等其他形状，只要小于拉西环8避免拉西环8掉出清洗槽1就可 以使用。所述清洗槽1和溢出板2可以釆用聚氯乙烯(PVC)或者聚丙烯(PP) 材料制成。该清洗装置还设有竖直放置的溢出板2，其高度低于底壁IO的位置， 所述止挡板12向下延伸超过溢出板2。位于溢出板2左侧依次安装有第一过滤 器3、第二过滤器4以及作为废水抽取部件的水泵5。水泵5通过管道6将废水 排到废水处理系统，其中管道6上还设有第三个过滤器即透明过滤器7。所述溢 出板2、第一过滤器3及第二过滤器4相互平行，且均呈板状，从清洗装置的前 壁延伸至后壁。另外，第二过滤器4的高度与清洗装置的深度相同，以方便对 所有废水进行过滤。第一过滤器3高度低于第二过滤器4，第一过滤器3的过滤 网的滤网较粗，而第二过滤器4的过滤网较细。第一过滤器3及第二过滤器4 可以采用尼龙或者不锈钢材料制成。清洗拉西环时，首先将需要清洗的拉西环8放入清洗槽1内，工作人员利 用0.8兆帕(Mpa)的高压水枪对拉西环8进行沖洗。沖洗后的水通过底壁10 上的漏孔ll漏出，在溢出板2和底壁10阻隔的区域里，废水中质量较重的杂 质沉淀下来，实现第一次过滤。废水溢过溢出板2，由第一过滤器3和第二过滤 器4对废水中的杂质进一步过滤。最后，安装在管道6上的透明过滤器7对微 小杂质进一步过滤。图2中箭头的方向就是废水流动的方向。使用本发明的清 洗装置不仅可以实现对拉西环的有效清洗，而且通过对废水的多重过滤，可以 对废水进行重复利用，大大节省了水资源。
所述底壁10、溢出板2、第一过滤器3及第二过滤器4均是可拆除地安装 在清洗装置上的，这样可以在使用一段时间后，方便更换损坏的部件。
上述描述，仅是对本发明较佳实施例的具体描述，并非对本发明的任何限 定。对于本领域的普通技术人员来说，可以根据上述揭示内容进行简单修改、 添加、变换，但均属于权利要求书中保护的内容。
权利要求
1.一种拉西环的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括相隔设置的用于放置拉西环的清洗槽以及对清洗产生的废水进行过滤的过滤器；所述清洗槽的深度小于清洗装置的深度，且清洗槽上设有数个小于拉西环的漏孔。
2. 如权利要求1所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括 位于清洗槽和过滤器之间的溢出板，所述溢出板的高度低于清洗槽；所述溢出 板挡住顺清洗槽流下的沉淀物，所述过滤器对溢过所述溢出板的废水进行过滤。
3. 如权利要求1所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽上的数个 漏孔均设置在清洗槽的底壁上。
4. 如权利要求1所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述过滤器呈板状， 可拆卸地竖直安装在所述清洗装置内。
5. 如权利要求1所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述过滤器包括平行 相隔设置的第 一过滤器和第二过滤器。
6. 如权利要求5所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述第一过滤器靠近 清洗槽，且高度低于第二过滤器。
7. 如权利要求5所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述第一过滤器靠近 清洗槽，且第二过滤器上的过滤网比第一过滤器上的过滤网细。
8. 如权利要求1所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括 将过滤后的废水抽出清洗装置的废7JC^取部件。
9. 如权利要求8所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述废7jC抽取部件通 过管道将废水排入废水处理系统；所述管道上安装有对废水进一步过滤的另一 过滤器。
10. 如权利要求9所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述另一过滤器为透 明过滤器。
11. 如权利要求1所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括 向清洗槽注水的水J险。
12. 如权利要求11所述的拉西环的清洗装置，其特征在于，所述水枪的水注入 压强是0.8兆帕。
全文摘要
本发明提供了一种拉西环的清洗装置。现有没有专门用于拉西环的清洗装置。本发明提供的清洗装置包括相隔设置的用于放置拉西环的清洗槽以及对清洗产生的废水进行过滤的过滤器；所述清洗槽的深度小于清洗装置的深度，且清洗槽上设有数个小于拉西环的漏孔。本发明的清洗装置还包括位于清洗槽和过滤器之间的溢出板，所述溢出板的高度低于清洗槽；所述溢出板挡住流出清洗槽的废水，将沉淀的杂质阻挡住。所述过滤器对溢过所述溢出板的废水进行过滤。本发明提供的清洗装置不仅可以配合高压水枪有效地将拉西环上堆积的污垢清洗干净，而且可以对废水进行过滤，使得清洗产生的废水可以进行重复利用，进而节约水资源。
文档编号B08B3/02GK101590475SQ200810038389
公开日2009年12月2日 申请日期2008年5月30日 优先权日2008年5月30日
发明者周金锋, 敖拥军 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司