专利名称：清洗装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种清洗装置，尤其涉及一种能更安全地清洗基板的清洗装置。
背景技术：
LCD器件通常通过根据视频信号调节液晶单元的光透射率来显示图像。有源矩阵LCD器件在显示运动画面方面尤其有利，因为在其每个像素单元都具有开关元件。对于所述开关元件， 一般使用薄膜晶体管(TFT)。
LCD器件包括彼此面对的一对基板和夹在基板之间的液晶层。 一个基板装配诸如开关器件这样的TFT，而另一个基板装配滤色器。在上述工序之前和之后，对于各个基板进行清洗工序。
对于所述清洗工序，通常使用刷子或带子，其通过物理接触所述基板从所述基板清除灰尘或外部物质。然而，清洗工具与基板之间的这种直接接触会损坏基板。
发明内容
因此，本发明涉及一种清洗装置，基本上克服了由于现有技术的限制和缺点而导致的一个或多个问题。
本发明的一个目的是提供一种清洗装置，通过仅给灰尘施加冲击而不物理冲击基板，能防止损坏基板，并通过将清洗工序增加为至少两个步骤，可提高清洗效率。
在下面的描述中将部分列出本发明其它的优点，目的和特征，且根据下面的解释，这些优点、目的和特征的其它部分对于本领域熟练技术人员是显而易见的，或者可从本发明的实施获悉。说明书、权利要求书以及附 图特别指出的结构可实现和获得本发明的目的和其它优点。
如这里具体表示和广义描述的，为了获得这些目的和其它的优点，根 据本发明的目的，清洗装置包括引导从外部供给的基板沿正确方向进入的 基板入口引导单元；由所述基板入口弓I导单元供给所述基板以清除在所述
基板上形成的灰尘的灰尘清除单元；由所述灰尘清除单元供给所述基板以 清洗掉残留在所述基板上的残余灰尘的灰尘清洗单元；和控制从所述灰尘 清洗单元卸下的所述基板的位置的位置控制单元。
所述基板入口引导单元包括入口引导通道，所述入口引导通道引导从 外部供给的所述基板正确进入所述灰尘清除单元中。所述入口引导通道从 外部向所述灰尘清除单元宽度逐渐变窄。
所述基板入口引导单元包括以预定距离彼此面对以在之间形成所述入 口引导通道的上部结构和下部结构。这里，所述上部基板向所述入口引导 通道喷射空气并抽取所喷射的空气，所述下部基板也向所述入口引导通道 喷射空气并抽取所喷射的空气，由此将进入所述入口弓I导通道的所述基板 保持在浮动状态中。每一个所述上部结构和所述下部结构的面队表面中的 一个表面是所述上部结构的倾斜表面，相对于所述基板的上表面倾斜，而 每一个所述上部结构和所述下部结构的面队表面中的另一个表面是所述下 部结构的倾斜表面，相对于所述基板的下表面倾斜。所述入口引导通道形 成在所述倾斜表面之间的空间中。
所述上部结构和所述下部结构由多孔材料形成，从而穿透所述上部结 构和所述下部结构喷射来自外部的空气。
所述上部结构和所述下部结构每个都包括抽取所述空气的多个抽吸 孔，所述上部结构的所述抽吸孔形成为穿过所述上部结构并指向所述入口 引导通道，且所述下部结构的所述抽吸孔形成为穿过所述下部结构并指向 所述入口引导通道。
所述灰尘清除单元包括以预定距离彼此面对以形成供所述基板穿过的 移动空间的上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元。所述上部灰尘清除单 元通过物理接触清除在所述基板的上表面上形成的灰尘，所述下部灰尘清 除单元通过物理接触清除在所述基板的下表面上形成的灰尘。述上部灰尘清除单元和所述下部灰尘清除单元每个都包括主体和形 成在所述主体外表面上的清除部。这里，所述主体由多孔材料形成，从而 从外部供给的空气穿过所述主体喷射到所述基板。所述清除部形成在除空 气供给表面和空气喷射表面之外的所述主体的外表面上，并由金属形成。 所述上部灰尘清除单元的所述主体包括从所述基板的上表面抽取空气的多 个抽吸孔，且所述下部灰尘清除单元的所述主体包括从所述基板的下表面 抽取空气的多个抽吸孔。
所述上部灰尘清除单元和所述下部灰尘清除单元是振动的。 更具体地说，所述上部灰尘清除单元相对于所述基板的上表面在不与 所述上表面接触的范围内沿上下方向上移动，且所述下部灰尘清除单元相 对于所述基板的下表面在不与所述下表面接触的范围内沿上下方向上移 动。
所述上部灰尘清除单元在向前和向后的方向上或者在与所述基板的上 表面平行的横向方向上反复移动，且所述下部灰尘清除单元在向前和向后 的方向上或者在与所述基板的下表面平行的横向方向上反复移动。
所述灰尘清洗单元包括以预定间隙彼此面对并由此形成供所述基板穿 过的移动空间的上部灰尘清洗单元和下部灰尘清洗单元。所述上部灰尘清 洗单元向所述移动空间喷射空气并抽取所喷射的空气，所述下部灰尘清洗 单元向所述移动空间喷射空气并抽取所喷射的空气。所述上部灰尘清洗单 元向所述移动空间喷射清洗剂并用喷射的清洗剂和空气产生泡沬，由此清 除在穿过所述移动空间的所述基板的上表面上形成的灰尘。所述下部灰尘 清洗单元向所述移动空间喷射清洗剂并产生泡沬，由此清除在穿过所述移 动空间的所述基板的下表面上形成的灰尘。所述上部灰尘清洗单元和所述 下部灰尘清洗单元使用抽取的空气将所述清洗剂释放到外部。
所述上部灰尘清洗单元和所述下部灰尘清洗单元由多孔材料形成，从 而穿透所述上部灰尘清洗单元和所述下部灰尘清洗单元将外部空气喷射到 所述移动空间。
所述上部灰尘清洗单元和下部灰尘清洗单元每个都包括抽取空气的多 个抽吸孔和喷射所述清洗剂的多个喷射孔。所述上部灰尘清洗单元的所述抽吸孔形成为穿透所述上部灰尘清洗单元并指向所述移动空间，且所述下 部灰尘清洗单元的所述抽吸孔指向所述移动空间，穿透所述下部灰尘清洗 单元。
所述上部灰尘清洗单元进一步包括多个沟槽。所述多个抽吸孔与任意 一个沟槽连接，从而通过所述沟槽抽取所述空气或所述清洗剂，且所述多 个喷射孔与另一个沟槽连接，从而通过该沟槽喷射所述清洗剂。
所述位置控制单元通过给所述基板的下表面喷射空气并同时抽取所喷 射的空气来保持卸下的所述基板的浮动状态。
应当理解，本发明前面的一般性描述和下面的详细描述都是示例性的
和解释性的，意在提供对要求保护的本发明的进一步的解释。
给本发明提供进一步理解并组成说明书一部分的附解了本发明的 实施方案并与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中 图1显示了根据本发明一个实施方式的清洗装置；
图2显示了根据本发明另一个实施方式的图1中所示的上部灰尘清除 单元；
图3是图1中的清洗单元的透视图4是图3中所示的上部灰尘清洗单元的后视图5是解释其中清除形成在基板上的灰尘的原理的示图。
具体实施例方式
现在将详细描述本发明的优选实施方式，附图中图解了这些优选实施 方式的一些例子。在可能的时候，在所有附图中使用相同的参考数字表示 相同或相似的部件。
图1显示了根据本发明一个实施方式的清洗装置。
参照图1，清洗装置包括用于引导来自外部的基板SUB沿正确方向插 入的基板入口引导单元100、由基板入口引导单元100供给基板SUB以清 除在基板SUB上形成的灰尘的灰尘清除单元200、由灰尘清除单元200供 给基板SUB以通过清洗掉灰尘而清除残留在基板SUB上的灰尘的灰尘清洗单元300、和用于控制从灰尘清洗单元300卸下的基板SUB的位置的位置 控制单元400。
下面将更详细地描述各个部分。 基板入口引导单元
基板入口引导单元100包括入口引导通道35 ，该入口引导通道35通过 辊引导从外部进入的基板SUB正确进入灰尘清除单元200中。入口引导通 道35具有向灰尘清除单元200逐渐变窄的宽度。尽管在供给时有偏差，但 通过入口引导通道35的上述形状，基板SUB可自动指向入口引导通道35 的精确中心。
基板入口引导单元100包括在之间保持预定间隙而彼此相对的上部结 构100a和下部结构100b。入口引导通道35形成在上部结构和下部结构100a 和100b之间的间隙中。
上部结构1 OOa向入口引导通道35喷射空气，并还抽取所喷射的空气。 同样，下部结构100b向入口引导通道35喷射空气，并抽取所喷射的空气。 因此，进入到入口引导通道35的基板SUB浮动在入口引导通道35的空间 中。更具体地说，当上部结构100a向基板SUB的上表面喷射空气并抽取所 喷射的空气时，下部结构100b向基板SUB的下表面喷射空气并抽取所喷 射的空气，由此将基板SUB保持在浮动状态中。这里，喷射力大于抽取力。
每一个上部结构和下部结构100a和100b的两个相对表面倾斜预定的 角度。具体地说，上部结构100a的倾斜表面相对于基板SUB的上表面倾斜， 而下部结构100b的倾斜表面相对于基板SUB的下表面倾斜。由该两个倾 斜表面限定的空间形成所述入口引导通道35。可通过调整上部结构和下部 结构100a和100b之间的间隔改变入口引导通道35的宽度。
上部结构和下部结构100a和100b由多孔材料形成，从而穿透上部结 构和下部结构100a和100b喷射来自外部的空气。更具体地说，从外部喷 向上部结构100a的上表面的空气通过穿过上部结构100a供给到入口引导通 道35。喷射到下部结构100b的下表面的外部空气通过穿过下部结构100b 供给到入口引导通道35。
上部结构100a和下部结构100b每个都包括抽取所喷射的空气的多个 抽吸孔101。上部结构100a的抽吸孔101形成为穿透上部结构100a并指向
10入口引导通道35。下部结构100b的抽吸孔101形成为穿透下部结构100b
并指向入口引导通道35。
灰尘清除单元
灰尘清除单元200包括彼此面对的上部灰尘清除单元200a和下部灰尘 清除单元200b。上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元200a和200b相距 预定的间隙，由两个结构200a和200b之间的间隙限定了基板SUB在其中 移动的移动空间36。
上部灰尘清除单元200a通过与在基板SUB上表面形成的灰尘物理接触 而清除在基板SUB上表面处形成的灰尘。下部灰尘清除单元200b也通过 与在基板SUB下表面形成的灰尘物理接触而清除在基板SUB下表面处形成 的灰尘。
当将基板SUB放置在上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元200a和 200b之间的移动空间36中时，上部灰尘清除单元200a与基板SUB的上表 面之间的间隔大约为20um，下部灰尘清除单元200b与基板SUB的下表 面之间的间隔大约也为20"m。因而，因为基板SUB与上部灰尘清除单元 和下部灰尘清除单元200a和200b紧密靠近，所以当基板SUB移过移动空 间36时，通过与上部灰尘清除单元200a的碰撞，可移除在基板SUB上表 面形成并向上突起的灰尘，并通过与下部灰尘清除单元200b的碰撞，可移 除在基板SUB下表面形成并向下突起的灰尘。根据基板SUB的厚度可改变 上部灰尘清除单元与下部灰尘清除单元200a和200b之间的间隔。
上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元200a和200b可由金属形成。
根据另一个实施方式，上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元200a和 200b可如图2中所示以不同的方式构成。
图2显示了根据本发明另一个实施方式的图1的上部灰尘清除单元 200a。
参照图2，上部灰尘清除单元200a包括主体601和形成在主体601外 侧的清除部602。
主体601由多孔材料形成，从而从外部供给的空气可穿过主体601喷 射到基板SUB。清除部602形成在除空气供给表面和空气喷射表面之外的 主体601的其他外表面上。这里，清除部602由金属形成，上部灰尘清除单元200a的主体601包括从基板SUB的上表面抽取空气的多个抽吸孔666。 尽管没有示出，但下部灰尘清除单元200b也与如图2中所示的上部灰 尘清除单元200a相同的方式构成。换句话说，下部灰尘清除单元200b包 括含有一些抽吸孔的主体和清除部。
上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元的抽吸孔将基板保持在浮动状 态中。
上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元200a和200b是振动的，从而 通过振动可更有效地从基板SUB清除掉灰尘。
如图2中所示，上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元200a和200b 在上下方向上移动。上部灰尘清除单元200a相对于基板SUB的上表面在不 与基板SUB的上表面接触的范围内上下移动。此外，下部灰尘清除单元200b 相对于下表面在不与基板SUB的下表面接触的范围内上下移动。
此外，上部灰尘清除单元200a在向前和向后的方向上或者在与基板 SUB的上表面平行的横向方向上反复移动。此外，下部灰尘清除单元200b 在向前和向后的方向上或者在与基板SUB的下表面平行的横向方向上反复 移动。
灰尘清洗单元
图3是图1中的清洗单元的透视图，图4是图3中所示的上部灰尘清 洗单元的后视图。
参照图l、 3和4，灰尘清洗单元300包括彼此面对的上部灰尘清洗单 元和下部灰尘清洗单元300a和300b，在它们之间保持预定的间隙。在两个 结构300a和300b之间的间隙中形成有基板SUB在其中移动的移动空间36。
上部灰尘清洗单元300a向移动空间36喷射空气并还抽取所喷射的空 气。同样，下部灰尘清洗单元300b向移动空间36喷射空气并抽取所喷射 的空气。因此，进入移动空间36的基板SUB浮动在移动空间36的空间中。 更具体地说，当上部灰尘清洗单元300a向基板SUB的上表面喷射空气并抽 取所喷射的空气时，下部灰尘清洗单元300b向基板SUB的下表面喷射空 气并抽取所喷射的空气，由此将基板SUB保持在浮动状态中。这里，喷射 力大于抽取力。
上部灰尘清洗单元300a向移动空间36喷射清洗剂并用喷射的清洗剂和空气产生泡沫，由此清除在穿过移动空间36的基板SUB上表面形成的 灰尘。下部灰尘清洗单元300b向移动空间36喷射清洗剂并产生泡沫，由 此清除在穿过移动空间36的基板SUB下表面形成的灰尘。此外，上部灰 尘清洗单元和下部灰尘清洗单元300a和300b使用抽取的空气将清洗剂释 放到外部。可采用去离子水作为清洗剂。
上部灰尘清洗单元和下部灰尘清洗单元300a和300b由多孔材料形成， 从而穿透上部灰尘清洗单元和下部灰尘清洗单元300a和300b将外部空气 喷射到移动空间36。更具体地说，从外部喷向上部灰尘清洗单元300a的上 表面的空气通过穿过上部灰尘清洗单元300a供给到移动空间36。喷射到下 部灰尘清洗单元300b的下表面的外部空气通过穿过下部灰尘清洗单元300b 供给到移动空间36。
上部灰尘清洗单元300a和下部灰尘清洗单元300b每个都包括用于抽 取空气的多个抽吸孔103。上部灰尘清洗单元300a的抽吸孔103形成为穿 透上部灰尘清洗单元300a并指向移动空间36。下部灰尘清洗单元300b的 抽吸孔103指向移动空间36，穿透下部灰尘清洗单元300b。
上部灰尘清洗单元300a进一步包括多个喷射孔113和多个沟槽123。 所述多个抽吸孔103与任意一个沟槽123连接，从而通过沟槽123抽取空 气和清洗剂。此外，所述多个喷射孔113与另一个沟槽123连接，从而通 过该另一个沟槽123喷射清洗剂。
每个沟槽123具有在与基板SUB的前进方向垂直的方向上的长度。沟 槽123沿基板SUB的前进方向排列。通过用清洗剂填充沟槽123，可提高 基板SUB的清洗效率。
上部灰尘清洗单元300a与基板SUB的上表面之间的间隔大约为20li m，下部灰尘清洗单元300b与基板SUB的下表面之间的间隔大约也为20 u m。可根据基板SUB的厚度改变上部灰尘清洗单元300a与下部灰尘清洗 单元300b之间的间隔。 位置控制单元
位置控制单元400向卸下的基板SUB的下表面喷射空气并同时抽取所 喷射的空气，由此保持基板SUB的浮动状态。通过辊60将基板SUB从位
置控制单元400移动到下一处理设备。
13图5是解释清除形成在基板上的灰尘的原理的示图。 如图5中所示，灰尘900在基板SUB的上表面上形成。可通过与上部 灰尘清除单元200a物理接触清除这种粘附的灰尘900。在上部灰尘清除单 元200a的操作之后仍残留的残余灰尘或通过上部灰尘清除单元200a没有清 除的结块的灰尘通过灰尘清洗单元300来进一步清除。就是说，通过灰尘 清洗单元300喷射的清洗剂888和通过给清洗剂888喷射空气而产生的泡 沬清除残留的灰尘和结块的灰尘。
由上面的描述很清楚根据本发明实施方式的清洗装置具有下面的优占。
第一，因为仅对基板上的灰尘施加冲击，所以可防止损坏基板。 第二，通过将清洗工序数增加为至少两个步骤，提高了清洗效率。 在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在本发明中可进行各种修改 和变化，这对于本领域技术人员来说是显而易见的。因而，本发明意在覆 盖落入所附权利要求及其等价物范围内的本发明的修改和变化。
权利要求
1.一种清洗装置，包括引导从外部供给的基板沿正确方向进入的基板入口引导单元；由所述基板入口引导单元供给所述基板以清除在所述基板上形成的灰尘的灰尘清除单元；由所述灰尘清除单元供给所述基板以清洗掉残留在所述基板上的残余灰尘的灰尘清洗单元；和控制从所述灰尘清洗单元卸下的所述基板的位置的位置控制单元。
2. 根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述基板入口弓I导单元包括入口弓I导通道，所述入口弓I导通道引导从 外部供给的所述基板正确进入所述灰尘清除单元中，且所述入口弓I导通道从外部向所述灰尘清除单元宽度逐渐变窄。
3. 根据权利要求2所述的清洗装置，其中所述基板入口引导单元包括 以预定距离彼此面对以在之间形成所述入口引导通道的上部结构和下部结 构，所述上部基板向所述入口引导通道喷射空气并抽取所喷射的空气，所 述下部基板也向所述入口引导通道喷射空气并抽取所喷射的空气，由此将 进入所述入口弓i导通道的所述基板保持在浮动状态中，每一个所述上部结构和所述下部结构的面队表面中的一个表面是所述 上部结构的倾斜表面，相对于所述基板的上表面倾斜，每一个所述上部结构和所述下部结构的面队表面中的另一个表面是所 述下部结构的倾斜表面，相对于所述基板的下表面倾斜，且所述入口弓I导通道形成在所述倾斜表面之间的空间中。
4. 根据权利要求3所述的清洗装置，其中所述上部结构和所述下部结 构由多孔材料形成，从而穿透所述上部结构和所述下部结构喷射来自外部 的空气。
5. 根据权利要求4所述的清洗装置，其中所述上部结构和所述下部结 构每个都包括抽取所述空气的多个抽吸孔，所述上部结构的所述抽吸孔形成为穿过所述上部结构并指向所述入口 引导通道，且所述下部结构的所述抽吸孔形成为穿过所述下部结构并指向所述入口 引导通道。
6. 根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述灰尘清除单元包括以预定距离彼此面对以形成供所述基板穿过的 移动空间的上部灰尘清除单元和下部灰尘清除单元，所述上部灰尘清除单元通过物理接触清除在所述基板的上表面上形成 的灰尘，所述下部灰尘清除单元通过物理接触清除在所述基板的下表面上形成 的灰尘。
7. 根据权利要求6所述的清洗装置，其中所述上部灰尘清除单元和所 述下部灰尘清除单元由金属形成。
8. 根据权利要求6所述的清洗装置，其中所述上部灰尘清除单元和所述下部灰尘清除单元每个都包括主体和形 成在所述主体外表面上的清除部，所述主体由多孔材料形成，从而从外部供给的空气穿过所述主体喷射 到所述基板，所述清除部形成在除空气供给表面和空气喷射表面之外的所述主体的 外表面上，所述清除部由金属形成，所述上部灰尘清除单元的所述主体包括从所述基板的上表面抽取空气 的多个抽吸孔，且所述下部灰尘清除单元的所述主体包括从所述基板的下表面抽取空气 的多个抽吸孔。
9. 根据权利要求6所述的清洗装置，其中所述上部灰尘清除单元和所 述下部灰尘清除单元是振动的。
10. 根据权利要求9所述的清洗装置，其中所述上部灰尘清除单元相对于所述基板的上表面在不与所述上表面接 触的范围内沿上下方向上移动，且所述下部灰尘清除单元相对于所述基板的下表面在不与所述下表面接 触的范围内沿上下方向上移动。
11. 根据权利要求9所述的清洗装置，其中所述上部灰尘清除单元在向前和向后的方向上或者在与所述基板的上 表面平行的横向方向上反复移动，且所述下部灰尘清除单元在向前和向后的方向上或者在与所述基板的下 表面平行的横向方向上反复移动。
12. 根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述灰尘清洗单元包括以预定间隙彼此面对并由此形成供所述基板穿 过的移动空间的上部灰尘清洗单元和下部灰尘清洗单元，所述上部灰尘清洗单元向所述移动空间喷射空气并还抽取所喷射的空 气，所述下部灰尘清洗单元向所述移动空间喷射空气并抽取所喷射的空气，所述上部灰尘清洗单元向所述移动空间喷射清洗剂并用喷射的清洗剂 和空气产生泡沫，由此清除在穿过所述移动空间的所述基板的上表面上形 成的灰尘，所述下部灰尘清洗单元向所述移动空间喷射清洗剂并产生泡沫，由此 清除在穿过所述移动空间的所述基板的下表面上形成的灰尘，且所述上部灰尘清洗单元和所述下部灰尘清洗单元使用抽取的空气将所 述清洗剂释放到外部。
13. 根据权利要求12所述的清洗装置，其中所述上部灰尘清洗单元和所述下部灰尘清洗单元由多孔材料形成，从而穿透所述上部灰尘清洗单元 和所述下部灰尘清洗单元将外部空气喷射到所述移动空间。
14. 根据权利要求13所述的清洗装置，其中所述上部灰尘清洗单元和下部灰尘清洗单元每个都包括抽取空气的多 个抽吸孔和喷射所述清洗剂的多个喷射孔，所述上部灰尘清洗单元的所述抽吸孔形成为穿透所述上部灰尘清洗单 元并指向所述移动空间，且所述下部灰尘清洗单元的所述抽吸孔指向所述移动空间，穿透所述下 部灰尘清洗单元。
15. 根据权利要求14所述的清洗装置，其中 所述上部灰尘清洗单元进一步包括多个沟槽，所述多个抽吸孔与任意一个沟槽连接，从而通过所述沟槽抽取所述空气或所述清洗剂，且所述多个喷射孔与另一个沟槽连接，从而通过该沟槽喷射所述清洗剂。
16.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述位置控制单元通过给 所述基板的下表面喷射空气并同时抽取所喷射的空气来保持卸下的所述基 板的浮动状态。
全文摘要
公开了一种稳定地清洗基板的清洗装置。该清洗装置包括引导从外部供给的基板沿正确方向进入的基板入口引导单元；由所述基板入口引导单元供给所述基板以清除在所述基板上形成的灰尘的灰尘清除单元；由所述灰尘清除单元供给所述基板以清洗掉残留在所述基板上的残余灰尘的灰尘清洗单元；和控制从所述灰尘清洗单元卸下的所述基板的位置的位置控制单元。
文档编号B08B11/00GK101664748SQ200810186209
公开日2010年3月10日 申请日期2008年12月17日 优先权日2008年9月4日
发明者吴泰英, 李殷河, 李辉宰, 金健勇 申请人:乐金显示有限公司