专利名称：：微电子设备清洗剂的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种清洗剂，具体地说，涉及一种水基型的微电子设备清洗剂。
背景技术：
：微电子设备部件的清洗是该设备在进行加工、装配、储存和维修等过程中不可缺少的工艺环节。由于微电子设备的电子精密元器件的用量相当丸因此对这类电子部件清洗的工作量和清洗剂的使用量也肯定会相应的增大。目前，对微电子部件的清洗方法，主要有浸洗法、喷洗法以及超声波清洗法等，无论采取哪种清洗方法，都需要使用清洗剂。典型地程序是先在低pH值范围的情况下进行清洗，去除矿物质垢污染物，然后再进行高PH值清洗，去除有机物。有些清洗溶液中加入了洗涤剂以帮助去除严重的生物和有机碎片垢物，同时，可用螯合物来辅助去除胶体、有机物、微生物及硫酸盐垢。现有用于无线电设备清洗剂多为溶剂型，这些清洗剂存在的缺点，首先是清洗效果不很理想，清洗后的电子部件料容易出现黑色的表层，给后续加工带来麻烦，特别对精密元器件的加工造成困惑；其次是对设备腐蚀性较强，增加设备成本；再者，清洗温度和清洗时间很难同时达到理想条件，在清洗效果不变的情况下，往往是在高温下清洗，可以縮短清洗时间，清洗温度降低至室温的情况下，清洗时间就需要延长，一般在室温条件下清洗时间需要10到30分钟。因此有待研制一种水基型的微电子清洗齐丄可在室温条件下提高清洗效果，还能降低对设备的腐蚀性。
发明内容本发明的主要目的在于克服现有产品存在的上述缺点，提供一种微电子设备清洗剂，能够彻底清洗无线电设备表面油污和锈斑，并能够防止无线电设备表面再次形成锈斑，还能缩短清洗时间，提高工作效率。本发明的微电子设备清洗剂，按照重量百分比包括如下组份无机盐310表面活性剂510渗透剂510缓蚀剂15PH调节剂16去离子水余量，其中，所说的无机盐为磷酸钠、磷酸二钠、硫酸钠、硫酸三钾或氯化钾；所说的表面活性剂是非离子型表面活性剂，为脂肪醇聚氧乙稀醚或垸基醇酰胺；所说的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或者乙二醇醚类化合物；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠或钨酸钠；所说的PH调节剂是无机碱、有机碱或者其组合；无机碱是氢氧化钠或氢氧化钾；有机碱是多羟多胺和胺中的一种或多种。优选地，本发明的微电子设备清洗剂，按照重量百分比包括如下组份:无机盐510表面活性剂58渗透剂58缓蚀剂35PH调节剂26去离子水余量，其中，所说的无机盐为磷酸钠；所说的表面活性剂和渗透剂脂肪醇聚氧乙烯醚为聚合度为15的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为35的脂肪醇聚氧乙烯醚或者聚合度为40的脂肪醇聚氧乙烯醚；所说的表面活性剂垸基醇酰胺为月桂酰单乙醇胺；所说的渗透剂剂乙二醇醚类化合物为是乙二醇乙醚和乙二醇丁醚中的一种或者两种；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠；所说的PH调节剂多羟多胺为三乙醇胺、四羟基乙二胺、六羟基丙基丙二胺、乙二胺或四甲基氢氧化铵。更优选地，本发明的微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份磷酸钠3聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚5乙二醇乙醚10苯骈三氮唑钠1氢氧化钾2去离子水79。本发明的清洗剂的PH值为11至12，颜色为微黄，无剌激性气味，比重为1.01.1。本发明的微电子设备清洗剂，具有如下技术效果1)本发明配方科学合理，生产工艺简单，不需要特殊设备；2)清洗能力强，清洗时间短节省人力和工时，提高工作效率且具有除锈和防锈功效；3)为水溶性清洗剂，对设备的腐蚀性低，使用安全可靠。具体实施例方式本发明的实施例所使用的原料及设备，均为市售产品。实施例1本实施例中，微电子设备清洗剂各组分的重量百分比如下:组分重量百分比％磷酸钠3聚合度为20的脂肪醇聚氧乙,5乙二醇乙醚10苯骈三氮唑钠1氢氧化钾2去离子水79制备方法按照上述比例准备各组分，在室温下将上述组分依次溶于去离子水中，搅拌混合均匀，即成为本发明之清洗剂成品。实施例2本实施例中，微电子设备清洗剂各组分的重量百分比如下<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>制备方法按照上述比例准备各组分，在室温下将上述组分依次溶于去离子水中，搅拌混合均匀，即成为本发明之清洗剂成品。实施例3本实施例中，微电子设备清洗剂各组分的重量百分比如下<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>制备方法按照上述比例准备各组分，在室温下将上述组分依次溶于去离子水中，搅拌混合均匀，即成为本发明之清洗剂成品。实施例4:效果分析选用实施例1至3中任意一种配方的微电子设备清洗剂，清洗微电子设备清洗时采用28khz的超声波清洗设备，将微电子设备放置在超声波清洗设备中，加入清洗剂和20倍体积的纯水混合的液体，控制清洗温度为4(TC，清洗6分钟，取出。清洗后，采用光学显微镜放大100倍的方法检测，微电子设备表面无油污残留，表面光亮，清洗后24小时内无线电设备表面仍无发乌以及锈斑现象。以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。权利要求1、一种微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份无机盐3～10表面活性剂5～10渗透剂5～10缓蚀剂1～5PH调节剂1～6去离子水余量，其中，所说的无机盐为磷酸钠、磷酸二钠、硫酸钠、硫酸三钾或氯化钾；所说的表面活性剂是非离子型表面活性剂，为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺；所说的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或者乙二醇醚类化合物；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠或钨酸钠；所说的PH调节剂是无机碱、有机碱或者其组合；无机碱是氢氧化钠或氢氧化钾；有机碱是多羟多胺和胺中的一种或多种。2、根据权利要求1所述的微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份无机盐510表面活性剂58渗透剂58缓蚀剂35PH调节剂26去离子水余量，其中，所说的无机盐为磷酸钠；所说的表面活性剂和渗透剂脂肪醇聚氧乙烯醚为聚合度为15的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为35的脂肪醇聚氧乙烯醚或者聚合度为40的脂肪醇聚氧乙烯醚;所说的表面活性剂烷基醇酰胺为月桂酰单乙醇胺；所说的渗透剂剂乙二醇醚类化合物为是乙二醇乙醚和乙二醇丁醚中的一种或者两种；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠；所说的ra调节剂多羟多胺为三乙醇胺、四羟基乙二胺、六羟基丙基丙二胺、乙二胺或四甲基氢氧化铵。3、根据权利要求1或2所说的微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份磷酸钠3聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚5乙二醇乙醚10苯骈三氮唑钠1氢氧化钾2去离子水79。全文摘要本发明涉及一种微电子设备清洗剂，按照重量百分比包括如下组份无机盐为3～10，表面活性剂为5～10，渗透剂为5～10，缓蚀剂为1～5，pH值调节剂为1～6；去离子水余量。本发明的微电子设备清洗剂，具有如下技术效果1)本发明配方科学合理，生产工艺简单，不需要特殊设备；2)清洗能力强，清洗时间短，节省人力和工时，提高工作效率，且具有除锈和防锈功效；3)为水溶性清洗剂，对设备的腐蚀性低，使用安全可靠。文档编号C11D1/72GK101463296SQ20081023555公开日2009年6月24日申请日期2008年11月28日优先权日2008年11月28日发明者仲跻和申请人:江苏海迅实业集团股份有限公司