专利名称：：磁头清洗剂的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种清洗剂，具体地说，涉及一种计算机磁头抛光后使用的水溶性清洗剂。
背景技术：
：随着计算机技术飞速发展，对计算机硬盘和磁头的表面质量要求越来越高。目前，磁盘/磁头间隙己趋近于15nm以下，磁头和磁盘的表面粗糙度、划痕、杂质颗粒等都会对计算机磁盘造成致命危害，为此，要尽量降低这些表面缺陷和污染。其中，对于计算机磁头来说，抛光后的清洗是减少表面杂质污染的有效手段。目前，计算机磁头在抛光过程中大都使用颗粒尺寸在微米量级的固体粉作为磨料，将它们分散于石油蒸馏物中形成磁头抛光液。国际上产品主要由美国Engis公司和日本Cosmos公司等厂家供应。这种抛光液主要以有机物为溶剂，抛光后不易清洗；经这种抛光液抛光的计算机磁头表面在高倍显微镜下存在明显的沾污颗粒，在使用中容易对计算机磁盘造成损伤。为了解决这些问题，CN00133674.6提出在磁头抛光液中加入净洗剂，使得在抛光同时实现抑制磨料颗粒吸附的功能。然而，这种方法对颗粒的去除并不彻底，且容易产生有机溶剂残留。目前，市场上还没有一种磁头抛光后专用的水溶性清洗剂。
发明内容本发明的主要目的在于克服现有产品存在的上述缺点，提供一种计算机磁头的水溶性清洗剂，用于计算机磁头抛光加工后的清洗工艺中，能有效去除磁头抛光后表面残留的有机溶剂以及固体颗粒物，腐蚀性小，而且便于废弃清洗剂的处理排放，符合环境保护的要求，配方设计合理，制备工艺简单，成本较低。本发明的磁头清洗剂，按照重量百分比包括如下组份增溶剂38非离子型表面活性剂310阴离子型表面活性剂310消泡剂152，3—二氢十氟戊烷310去离子水余量，其中，所说的增溶剂为癸烷(CIO)、己烷(C6)、丁烷(C4)或硅垸(SiH4);所说的非离子型表面活性剂选自聚氧乙烯系非离子表面活性剂和多元醇酯类非离子表面活性剂中的一种或多种；所说的阴离子表面活性剂选自直链烷基苯磺酸钠(LAS),脂肪醇硫酸钠(AS)，脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(AES)，a-烯烃磺酸酯(AOS),直链垸基磺酸酯(SAS)，链烷磺酸盐(PS)中的一种或多种；所说的消泡剂是疏水白炭黑。优选地，本发明的磁头清洗剂，按照重量百分比包括如下组份增溶剂5~8非离子型表面活性剂810阴离子型表面活性剂810消泡剂252,3—二氢十氟戊烷35去离子水余量，其中，所说的增溶剂为癸烷；所说的非离子型表面活性剂聚氧乙烯系非离子表面活性剂是聚氧乙烯烷基酚、聚氧乙烯脂肪醇、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯胺或聚氧乙烯酰胺；所说的非离子型表面活性剂多元醇酯类非离子表面活性剂是乙二醇酯、甘油酯或聚氧乙烯多元醇酯；所说的阴离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠。更优选地，本发明的磁头清洗剂，按照重量百分比包括如下组份癸烷5脂肪醇聚氧乙烯(20)醚8十二烷基苯磺酸钠3脂肪醇聚氧乙烯(3)醚硫酸钠5疏水白炭黑22，3—二氢十氟戊烷3去离子水74。本发明磁头清洗剂中含有的有机增溶剂为非极性物质，其结构与残留在磁头表面的石油蒸馏物污染物相近，根据结构相似相溶的原理，可以提高磁头表面有机物的溶解度，达到溶解效果；清洗剂中含有的非离子型表面活性剂，由于其含有亲水基和亲油基，可以起到乳化作用，提高有机物的溶解性，同时具有渗透性，能够渗透到磁头表面和污染物之间，有助于去除固体颗粒污染物；清洗剂中含有的阴离子型表面活性剂，由于带有电荷，具有极性，可以在磁头表面实现优先吸附，形成保护层，也能有效去除颗粒等污染物，同时可防止各种污染物的二次吸附；清洗剂中的消泡剂能够消除或减少表面活性剂产生的大量泡沬。本发明的工作原理在于清洗剂可以完全溶解于水，在超声作用下能够有效去除残留在抛光后磁头上的有机溶剂以及固体颗粒物，然后通过喷淋和烘干使磁头表面洁净，达到无颗粒和有机物粘附的效果。本发明具有如下技术效果(1)针对抛光过程中以石油蒸馏物为溶剂，容易造成有机物残留的问题，本发明的清洗剂加入了增溶剂，能够提高残留的有机物的溶解度；(2)清洗剂中的非离子型和阴离子型表面活性剂均能够增强质量传递，保证清洗的均匀性，降低对磁头表面的损伤，二者配合使用，能够保证在较少的用量下使清洗效果大大增强；(3)清洗剂中合理配置增溶剂、阴离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂，能够很好地降低清洗剂的表面张力，同时具有水溶性好、渗透力强、无污染等优点；(4)清洗剂中选用的化学试剂，不污染环境，不易燃烧，属于非破坏臭氧层物质，清洗后的废液便于处理排放，能够满足环保三废排放要求；(5)制备工艺简单，操作方便，使用安全可靠。具体实施例方式本发明的实施例所使用的原料及设备，均为市售产品。实施例l本实施例中，计算机磁头清洗剂各组分的重量百分比如下组分重量百分比％癸烷5脂肪醇聚氧乙烯(20)醚(商品名为平平加0—20，结构为RQ(CH2CH2O)2oH，R二C12—』25-37)8十二烷基苯磺酸钠3脂肪醇聚氧乙烯(3)醚硫酸钠5<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>制备方法按照上述比例准备各组分，在室温条件下将除疏水白炭黑的其余组分依次溶于去离子水中，搅拌均匀，再加入疏水白炭黑至泡沬消失，即成为本发明之磁头清洗剂。实施例2本实施例中，计算机磁头清洗剂各组分的重量百分比如下<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>制备方法按照上述比例准备各组分，在室温条件下将除疏水白炭黑的其余组分依次溶于去离子水中，搅拌均匀，再加入疏水白炭黑至泡沫消失，即成为本发明之磁头清洗剂。实施例3<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>制备方法按照上述比例准备各组分，在室温条件下将除疏水白炭黑的其余组分依次溶于去离子水中，搅拌均匀，再加入疏水白炭黑至泡沫消失，即成为本发明之磁头清洗剂。实施例4效果分析选用实施例1至3中任意一种配方的计算机磁头清洗剂，与去离子水按1:100稀释，加入到超声清洗机中，在频率为40kHz、功率为80%的条件下，对抛光后的计算机磁头超声10min，然后用去离子水喷淋，烘干，以备检测。利用显微镜(Nikon100D)，在放大100倍的条件下，观察到表面无颗粒物，无水痕、有机物和活性剂残留，利用轮廓仪在550nmX410mn的面积内测得该磁头表面粗糙度为0.2nm。以上所述，仅是本发明的较佳实施例而己，并非对本发明作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。权利要求1、一种磁头清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份增溶剂3～8非离子型表面活性剂3～10阴离子型表面活性剂3～10消泡剂1～52，3—二氢十氟戊烷3～10去离子水余量，其中，所说的增溶剂为癸烷、己烷、丁烷或硅烷；所说的非离子型表面活性剂选自聚氧乙烯系非离子表面活性剂和多元醇酯类非离子表面活性剂中的一种或多种；所说的阴离子表面活性剂选自直链烷基苯磺酸钠、脂肪醇硫酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、α-烯烃磺酸酯、直链烷基磺酸酯和链烷磺酸盐中的一种或多种；所说的消泡剂是疏水白炭黑。2、根据权利要求1所述的磁头清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份增溶剂非离子型表面活性剂阴离子型表面活性剂消泡剂2，3—二氢十氟戊烷去离子水588108102535其中，所说的增溶剂为癸烷；所说的非离子型表面活性剂聚氧乙烯系非离子表面活性剂是聚氧乙烯烷基酚、聚氧乙烯脂肪醇、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯胺或聚氧乙烯酰胺；所说的非离子型表面活性剂多元醇酯类非离子表面活性剂是乙二醇酯、甘油酯或聚氧乙烯多元醇酯；所说的阴离子表面活性剂为直链烷基苯磺酸钠和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠。3、根据权利要求1或2所述磁头清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份癸烷5脂肪醇聚氧乙烯(20)醚8十二烷基苯磺酸钠3脂肪醇聚氧乙烯(3)醚硫酸钠5疏水白炭黑2,2,3—二氢十氟戊烷3去离子水74。全文摘要本发明提供一种计算机磁头清洗剂，按照重量百分比包括如下组份增溶剂3～8；非离子型表面活性剂3～10；阴离子型表面活性剂3～10；消泡剂1～5；2，3-二氢十氟戊烷3～10；去离子水余量。本发明为一种水溶性清洗剂，对磁头抛光后表面残留的有机溶剂以及固体颗粒物的清洗效果理想，腐蚀性小，而且便于废弃清洗剂的处理排放，符合环境保护的要求；配方设计合理，制备工艺简单，不需要特殊生产设备，成本较低。文档编号C11D1/83GK101463300SQ200810235550公开日2009年6月24日申请日期2008年11月28日优先权日2008年11月28日发明者仲跻和申请人:江苏海迅实业集团股份有限公司