专利名称：一种烤盘的制作方法
技术领域：
本实用新型是一种烤盘，特别是一种用于煎烤器等家电产品上的烤盘。
背景技术：
现有市售的煎烤器通常设有烤盘，烤盘的底部外表面与加热器接触或者固定有加 热器，烤盘底部内表面为光滑平面，用于放置食物，上种烤盘存在以下缺点由于烤盘底部 内表面为光滑平面，烤盘放置时稍微有点不平，油就会从烤盘底部的中部位置往周边流，放 置在底部中部位置的食物容易出现粘锅，甚至烧焦，而且烤盘的受热面积小，加热效率低， 食物因缓慢加热而表面难以烤到金黄的效果。
实用新型内容本实用新型的目的在于考虑上述问题而提供一种加热效率高，煎烤食物效果好的 烤盘。本实用新型的技术方案是一种烤盘，包括侧壁及底部，其特征在于所述底部的内 表面上设置有两个以上凹位。所述凹位均勻分布。所述凹位呈球面状。所述凹位为圆形、方形或菱形。所述底部的外表面固定有加热器。本实用新型由于采用在烤盘底部的内表面上设置有两个以上凹位的结构，煎烤 时，将油淋到烤盘底部的内表面上，油会均勻分布在凹位内，煎烤过程中，放置在烤盘中心 位置的食物不会出现粘锅，同时凹位增大了烤盘的受热面积，使食物加热快，容易烤到金 黄，因此，本实用新型不仅煎烤食物效果好，而且大大提高了加热效率。
图1为本实用新型实施例1的立体图；图2为本实用新型实施例1的剖面示意图；图3为图2中A处的局部放大图。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型烤盘作进一步说明。实施例1 本实施例烤盘的结构示意图如图1、2、3所示，包括侧壁1及底部2，所述底部2的 外表面固定有加热器4，内表面上设置有两个以上凹位3。所述凹位3呈球面状，以底部内 表面的中心为中心点，沿径向呈中心辐射状均勻分布。实施例2:
3[0017] 本实施例烤盘与实施例1不同之处在于所述凹位3为方形或菱形。
权利要求一种烤盘，包括侧壁(1)及底部(2)，其特征在于所述底部(2)的内表面上设置有两个以上凹位(3)。
2.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于所述凹位(3)均勻分布。
3.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于所述凹位(3)呈球面状。
4.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于所述凹位(3)为圆形、方形或菱形。
5.根据权利要求1至4任一项所述的烤盘，其特征在于所述底部(2)的外表面固定有 加热器⑷。
专利摘要本实用新型公开一种烤盘，包括侧壁(1)及底部(2)，其特征在于所述底部(2)的内表面上设置有两个以上凹位(3)。本实用新型由于采用在烤盘底部的内表面上设置有两个以上凹位的结构，煎烤时，将油淋到烤盘底部的内表面上，油会均匀分布在凹位内，煎烤过程中，放置在烤盘中心位置的食物不会出现粘锅，同时凹位增大了烤盘的受热面积，使食物加热快，容易烤到金黄，因此，本实用新型不仅煎烤食物效果好，而且大大提高了加热效率。
文档编号A47J37/01GK201743523SQ201020284459
公开日2011年2月16日 申请日期2010年7月30日 优先权日2010年7月30日
发明者吴坚, 杜明辉, 黄杰泉 申请人:美的集团有限公司