专利名称：护发化妆品的制作方法
技术领域：
本发明涉及如头发冲洗剂、头发调理剂和头发护理剂的护发化妆品。
背景技术：
通常的做法是使用有机聚硅氧烷作为基材来赋予头发表面以抗水性或润滑性或者保护头发表面。特別地，利用分子中的氨基，氨基-改性的有机聚硅氧烷因其吸附到头发的能力而众所周知，由此保护头发并赋予头发以柔软性。(參见专利文献1 JP-A H09-110653和专利文献2 =JP-A H01-190619)。令人遗憾地，在这些专利文献中公开的有机聚硅氧烷由于其低吸附性而并不那么有效，这使得有机聚硅氧烷未充分地保留在头发上。已知的做法是使用甲酰胺聚硅氧烷作为护发化妆品来保护头发免受由烫发、 染发、脱色和染色引起的损害。(參见专利文献3 JP-AH10-158150和专利文献4 JP-A 2002-255752)。令人遗憾地，公开的产品在吸附到头发以及赋予头发以光滑和湿润感方面很差。发明ネ既述本发明的目的是提供护发化妆品，由于其高吸附能力，产生如保护头发以及赋予头发光滑性、梳理性、柔软性和光泽的调理效果。作为为了实现上述目的而广泛研究的結果，本发明人发现具有的特定有机基团的有机聚硅氧烷显示出对受损头发的良好吸附和有效的头发保护，所述特定有机基团由仲氨基和羧基组成的、具有酰胺键用作间隔物，或由伯氨基和酰胺羧基組成，更具体地说，赋予湿发以光滑性、柔软性和梳理性，并且赋予干发光滑性、柔软性、梳理性和光泽。该发现产生本发明。本发明包括如下定义的护发化妆品和制备在该护发化妆品中包含的有机聚硅氧烷的方法。[1]包含在以下(i)或(ii)中限定的有机聚硅氧烷的护发化妆品。(i)有机聚硅氧烷，其中构成主链的有机聚硅氧烷链段具有由下式(1)表示的取代基，其与该链段中的至少ー个硅原子连接。
权利要求
1.护发化妆品，其包含在以下(i)或(ii)中限定的有机聚硅氧烷 (i)有机聚硅氧烷，其中构成主链的有机聚硅氧烷链段具有由下式(1)表示的取代基， 其与所述链段中的至少ー个硅原子连接；
2.根据权利要求1的护发化妆品，其中有机聚硅氧烷是段落(i)中限定的ー种，并且其为由以下所示的平均組成式(4)表示的化合物；
3.根据权利要求2的护发化妆品，其中有机聚硅氧烷是在(ii)中限定的有机聚硅氧烷并且是由以下的平均組成式)表示的化合物；
4.制备在以下(i)或(ii)中限定的有机聚硅氧烷的方法，所述方法包括在具有氨基的有机聚硅氧烷和环酸酐之间的反应；(i)有机聚硅氧烷，其中构成主链的有机聚硅氧烷链段具有由下式(1)表示的取代基， 其与所述链段中的至少ー个硅原子连接；
全文摘要
在此公开的是护发化妆品，其包含在以下(i)或(ii)中限定的有机聚硅氧烷(i)有机聚硅氧烷，其中构成主链的有机聚硅氧烷链段具有由下式(1)表示的取代基，其与所述链段中的至少一个硅原子连接；其中Z是由下式(2)表示的有机基团；(ii)有机聚硅氧烷，其中构成主链的有机聚硅氧烷链段具有由下式(1′)表示的取代基和由下式(3)表示的取代基，它们与所述链段中的分离的硅原子连接；-X-NH-Z(1′)其中Z是由下式(2)表示的有机基团。
文档编号A61Q5/12GK102525845SQ201110415090
公开日2012年7月4日 申请日期2011年12月13日 优先权日2010年12月13日
发明者森谷浩幸 申请人:信越化学工业株式会社