下降料道结构和用于胶合颗粒的装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种下降料道结构，该下降料道结构特别是用于胶合颗粒的装置，颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，该下降料道结构具有下降料道，该下降料道结构还具有用于使下降料道和/或下降料道元件在工作位置和清洁位置之间运动的装置。本实用新型还涉及一种具有上述下降料道结构的用于胶合颗粒的装置。该下降料道结构允许更容易的清洁，并且可以容易地集成到已设置的设备中。
【专利说明】下降料道结构和用于胶合颗粒的装置
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种下降料道结构，该下降料道结构特别是用于胶合颗粒的装 置，这些颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中，该下降料道结构 具有下降料道用于胶合颗粒的装置。本实用新型还涉及一种具有该下降料道结构的用于胶 合颗粒的装置。
【背景技术】
[0002] 由例如碎屑或中密度纤维或其它可流动的材料生产材料板至今是自动化过程，并 且多年来在许多国家已得到应用。如已知地，对经预加工的碎屑或纤维的压制要么以循环 方式进行，要么连续地进行。在此，除了位于压力机之前和之后的许多设备部件外，借助散 布机来生产散布料垫起到了突出的作用，然而，除了原材料的质量外，生产出的散布料垫的 质量也是重要因素。对用天然原材料和人造粘结剂来制造价格便宜的材料板的迫切希望迫 使生产者去开发更加高效的制造方法。在此，特别的重点是特别少的停工时间和较少的磨 损。
[0003] 本实用新型涉及借助粘结剂来胶合颗粒的领域。基本上将粘结剂理解为所谓的胶 粘漂浮液（Klebstoffflotte)，其主要成分由胶粘材料组成。另外根据需要还添加了乳化 齐U、硬化剂、甲醛吸附剂、染料、除虫剂、防霉剂以及其它添加剂等。通常也可使用没有添加 剂的胶粘材料。
[0004] 作为粘结剂，不求完全，以下材料当属考虑之列：异氰酸酯、MDI、三聚氰胺尿素甲 醛（MUF)、尿素甲醛（UF)、MUPF或PF。
[0005] 胶合通常以如下方式进行，即，散布料或颗粒借助定量装置送入下降料道，并且借 助设置在下降料道内或设置在下降料道之前的喷嘴来加载有粘结剂。胶合好的散布料多半 在位于下降料道之后的滚筒内借助旋转的运送工具（机械混合器）进行处理和/或进一步 胶合，随后散布成散布料，并且随后在时间上在胶合剂硬化之前进行压制。或者，该散布料 在不通过机械混合器的情况下直接送入散布装置内，以对散布料垫进行散布，并且随后进 行压制。
[0006] 例如由DE102010064339A1已知这样一种装置。
[0007] 在这些装置中会产生如下问题：粘结剂以及用粘结剂胶合的颗粒沉积于下降料道 的内壁上，因而，下降料道易于随着时间而弄脏。这使得有必要定期清洁下降料道。
[0008] 为了清洁，在多半是大型工业设备的这种装置中，通常设有入口或装货口，操作人 员能通过该入口或装货口登入下降料道内，以清洁下降料道。清洁大多通过高压清洁剂和/ 或蒸汽进行，其中，可使用水或者掺有溶剂或其它添加剂的清洁剂。通常，需要机械地去除 胶水块或材料-胶水-凝结物的附着物。
[0009] 在此存在的缺点是很难触及下降料道，并且在许多情况下多半仅为操作人员提供 较小的空间，这使得困难地、耗时地并且不符合人机工程学地进行清洁。
[0010] 此外，水或者清洁剂连同已溶解的颗粒残余物通过出口到达下游的混合器或者之 后的其它设备部件内。因此需要在清洁下降料道之后清洁混合器或这些设备部件；大多数 情况下不能同时清洁，或者这样做没有意义。
[0011] 简单地移入塞件作为用于清洁剂和/或清洁残余物的捕获装置尽管在此有些帮 助，但不能减轻在狭窄的下降料道内的清洁工作。 实用新型内容
[0012] 因此，本实用新型的任务是提出一种下降料道结构，该下降料道结构允许更容易 的清洁。
[0013] 此外，本实用新型的任务是提出一种下降料道结构，该下降料道结构可以容易地 集成到已设置的设备中。
[0014] 本实用新型的这些和其它任务通过如下所述的下降料道结构来解决。其它较佳的 实施方式在从属权利要求中示出。
[0015] 作为解决方案提出一种特别是用于胶合颗粒的装置的下降料道结构，这些颗粒 至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中，下降料道结构具有下降料道 以及用于使下降料道和/或下降料道元件在工作位置和清洁位置之间运动的装置。
[0016] 在清洁位置中，至下降料道或下降料道元件的通路不被胶合装置的其它单元、例 如特别是混合器或出料和/或定量装置阻挡或妨碍。因此，易于触及下降料道或下降料道 元件，这使清洁变得容易。在该清洁位置中也不存在如下风险：在清洁过程中清洁流体使去 除的沉积物或其它废物从下降料道内部到达混合器内并且弄脏该混合器。
[0017] 可设置有用于运动的装置，用以实施下降料道和/或下降料道元件绕摆动轴线的 摆动。摆动轴线可以特别是大致垂直或水平的轴线。
[0018] 或者，可设置有用于运动的装置，用以实施下降料道和/或下降料道元件沿移动 轴线的移位。移动轴线可以特别是大致水平的轴线。
[0019] 较佳地，设有用于捕获清洁剂的捕获装置，其中，捕获装置于下降料道或下降料道 元件下方设置在清洁位置中。或者，该捕获装置也可实施成下降料道或下游设备部件的塞 件，以避免清洁剂从脏水或溶解的异物侵入这些设备部件内。
[0020] 用于胶合至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成的颗粒的装置可 具有对应的下降料道结构。
[0021] 较佳地，该装置还可具有用于馈送颗粒的馈送装置和用于送出胶合剂的多个喷 嘴，其中，这些喷嘴设置在下降料道内的区域中和/或下降料道的入口上方。
[0022] 较佳地，该装置还具有位于下降料道结构之后的混合装置。
[0023] 换言之，用于使下降料道和/或下降料道元件运动的装置设置成使下降料道和/ 或下降料道元件绕摆动轴线摆动。用于使下降料道和/或下降料道元件运动的装置设置成 使下降料道和/或下降料道元件沿移动轴线移位。用于使下降料道或至少一个下降料道元 件运动的装置包括滑块、滑轨和/或接纳部。
[0024]由此，以简单的方式来如下清洁下降料道：使下降料道或下降料道元件从工作位 置运动到清洁位置，并且在该清洁位置中清洁下降料道或下降料道元件。此外还存在借助 捕获装置来捕获在清洁位置中从下降料道或下降料道元件流出的清洁剂的可能性。在此， 可以有利的方式在运动步骤中使下降料道和/或下降料道元件绕摆动轴线摆动或者使下 降料道和/或下降料道元件沿移动轴线移动。在另一方面，上述本实用新型的特征也可通 过如下来实现：通过使下降料道的一部分移位或移动来进行部分打开。较佳地，在此情况下 使下降料道的出口与下游的设备部件脱开，或者至少借助合适的装置进行密封。
[0025] 本实用新型还提出一种用于胶合颗粒的装置，颗粒至少部分地由适于生产材料板 的纤维和/或碎屑构成，该装置具有如前所述的下降料道结构。
【专利附图】
【附图说明】
[0026] 接下来根据附图来示出本实用新型的实施例。
[0027] 图1示意性地示出用于胶合颗粒的装置；
[0028] 图2以示意性俯视图示出根据本实用新型的实施方式的下降料道结构；
[0029] 图3以示意性俯视图示出根据本实用新型的另一实施方式的下降料道结构；以及
[0030] 图4以示意性俯视图示出根据本实用新型的又一实施方式的下降料道结构。
【具体实施方式】
[0031] 在图1中以示意图示出开头有定量装置2并且结尾有混合装置7的、用于胶合颗 粒1的装置的总体图。在定量装置和混合装置之间设置有下降料道10。在此，通常借助出 料装置将作为颗粒流1的颗粒从颗粒料仓加入到定量装置2内，在那里称重，并经由用于定 量的常见的带调节装置（未示出）进入下降料道10的第一或上部下降料道段内。在下降 料道内，颗粒流1或颗粒分散和/或分布到分散装置3上，并在此分散和/或分布成颗粒帘 5 〇
[0032] 分散装置3可具有特别是耙和/或挡板、辐条辊（该辐条辊由至少两个盘构成，这 些盘与（带有或不带有贯穿的轴的）转动轴线径向间隔开地具有与转动轴线平行设置的 杆、管或类似物）和/或较佳地构造成钉状辊的分散辊。
[0033] 随后，经分散的颗粒帘5借助合适的喷嘴6用粘合剂喷涂并胶合。
[0034] 在此后的过程中，颗粒帘5下落通过下降料道10的第二或下部下降料道段12,随 后到达位于下游的混合装置7,在该混合装置内，混合工具8借助旋转驱动的轴9使已胶合 的颗粒再次机械混匀，并最终作为经混匀的颗粒流（出料箭头）输出。
[0035] 随后，已胶合的颗粒流临时储存在定量料仓内或者直接引入用于形成散布料垫的 散布装置内，该散布料垫在后续过程中在压力机中可压制成材料板和/或可硬化。
[0036] 如图1中所示，下降料道10可由若干部段或区段或元件构成，如分别构成下降料 道10的一区段的下降料道元件11和下降料道元件12。然而，这不是限制性的，并且根据应 用情况，下降料道10还可以仅具有一个下降料道区段、例如下降料道元件12作为下降料道 10。
[0037] 图1示出处于运行位置或工作位置中的装置，其中由纤维或碎屑构成的颗粒在该 装置内进行胶合。
[0038] 为了清洁下降料道10,可规定，下降料道10或下降料道元件11、12从工作位置运 动到清洁位置，如接下来参照图2所描述的。
[0039] 图2以实线示意性地示出处于工作位置中的下降料道或下降料道元件12,其中下 降料道区段的出口区域与混合装置7的入口相连。
[0040] 为了清洁下降料道或下降料道元件12,该下降料道或下降料道元件被推到清洁位 置，该位置在图2中用虚线表示。在清洁位置中，下降料道或下降料道元件12相对于工作 位置侧向移位，以使下降料道或下降料道元件12从上方和/或从下方容易触及，这使得清 洁变得非常容易。
[0041] 在该清洁位置中也不存在如下风险：在清洁过程中清洁流体使去除的沉积物或其 它废物从下降料道内部到达混合装置7内并且弄脏它们。在此情况下，有意义的是：混合装 置7通常由于在其内发生的高摩擦而是自清洁的。
[0042] 较佳地，用如捕获盆之类的捕获装置15来捕获清洁流体和/或废物，以例如馈送 到分类清除装置和/或再加工装置。
[0043] 为了使下降料道或下降料道元件12能运动，设有用于运动的相应装置，该装置与 下降料道或下降料道元件12 -起构成下降料道结构20。
[0044] 在图2的实施例中，用于运动的装置实施成滑轨14,滑块13滑动支承地设置在该 滑轨14上。下降料道或下降料道元件12支承地设置在滑块13处。经由（未示出的）驱 动装置，滑块13以及由此下降料道或下降料道元件12沿大致水平的轴线从工作位置移动 到清洁位置，并再移回工作位置。
[0045] 较佳地，设有两个滑轨14,这些滑轨设置在下降料道或下降料道元件12两侧。
[0046] 同样，下降料道或下降料道元件12也可借助设置在一侧或两侧的门架结构来运 动。
[0047] 如前参照图1所示，下降料道元件12可构成组合而成的下降料道10的元件。同 样，下降料道元件12本身可作为下降料道。
[0048] 也可设想部分方案，其中下降料道沿较佳为垂直的分离线打开。
[0049] 图3示意性地示出下降料道结构20的另一实施例。
[0050] 在图3中，下降料道12由两个下降料道元件12a，12b组合而成。类似于图2的实 施例可设有呈滑轨14形式的用于运动的装置，而滑块13滑动支承地设置在该滑轨14上。 下降料道元件12b支承于滑块13处。经由（未示出的）驱动装置，滑块13以及由此下降 料道元件12b (虚线示出）沿大致水平的轴线从工作位置移动到清洁位置，并再移回工作位 置。
[0051] 以此方式，下降料道可被打开，并且从侧面容易地触及两个下降料道元件 12a，12b，以及可容易地清洁它们。
[0052] 还可规定：首先下降料道元件12a，12b中的一个移动到在图3中所示的清洁位置、 在那里进行清洁并且接下来又移回。然后，下降料道可转过相应的角度，因而，下降料道元 件12a接下来借助用于运动的装置可移动到清洁位置。在清洁位置中，因此，现在清洁下降 料道元件12a，以随后又使下降料道元件12a移回到下降料道的运行位置，以再次着手胶合 装置的运行。
[0053] 由此可以在清洁位置中相继地清洁下降料道的各个元件。
[0054] 这在装置和下降料道内是特别有利的，其中，在下降料道内设有如刮刀装置之类 的其它装置，它们例如固定在设置在中央的转动轴线处，并绕其转动。通过如图3的实施例 中那样使下降料道分元件地移动到清洁位置并且在那里被清洁，不必分离刮刀装置的转动 轴线，并且在偏移位置或者在清洁位置处清洁下降料道，以避免弄脏混合器。
[0055] 图4示意性地示出下降料道结构20的又一实施例。
[0056] 在图4中，下降料道元件12绕大致水平的转动轴线可转动地承载于接纳部16处。 下降料道元件12因此可在图4中虚线所示的对应于大致垂直定向的运行位置与图4中用 实线所示的对应于与该垂直定向成角度倾斜的定向的清洁位置之间移动。
[0057] 在对应于清洁位置的倾斜定向下，下降料道元件12的入口和出口同样不被胶合 装置的其它单元、如特别是混合器或出料和/或定量装置阻挡或妨碍。因此易于触及下降 料道元件12,这使清洁变得容易。
[0058] 尽管之前描述了各种实施方式和实施例，但它们都不是限制性的。
[0059] 因此，下降料道可具有两个以上元件，作为下降料道的环形段或者例如分别作为 多个侧面元件中的一个，作为多边形下降料道的壁元件。
[0060] 此外，还可组合地或者相继地应用各种所述的构思。
[0061] 因此，例如下降料道元件可直线推入清洁位置，而另一下降料道元件绕轴线摆动。
[0062] 同样，下降料道或下降料道元件既直线移动又绕摆动轴线摆动，以运动到清洁位 置。
[0063] 较佳地，下降料道构造成沿颗粒的下落方向从上到下横截面逐渐缩小。
[0064] 下降料道可构造成圆柱形、圆锥形、立方体形、规则或不规则多边形或者楔形。
[0065] 下降料道在入口和出口的区域内具有不同形状的横截面。
[0066] 可将塞件4分配给出口（参照图1)。这用于相对于下游的设备部件来密封可分开 的下降料道元件或者总体地在清洁时避免异物落入下游的设备部件、特别是落入混合装置 7内。
[0067] 不同形状的横截面可由如下选择：圆形、椭圆形、方形、矩形、规则或不规则多边 形的形状以及由组合的弧段构成的形状。
[0068] 下降料道可构造成多部分，具有多个壁，这些壁分别形成下降料道的内壁。特别 是，在这方面也可实现冷却装置。
[0069] 本实用新型也可设想润湿其它可溶解或可流动的颗粒，例如具有水的面粉或淀粉 等。
[0070] 附图标记列表：
[0071] 1 颗粒流
[0072] 2 定量装置
[0073] 3 分散装置
[0074] 4 塞件
[0075] 5 颗粒帘
[0076] 6 喷嘴
[0077] 7 混合帘
[0078] 8 混合工具
[0079] 9 轴
[0080] 10 下降料道结构
[0081] 11 下降料道元件
[0082] 12 下降料道元件
[0083] 12a, 12b下降料道元件
[0084] 13 滑块
[0085] 14 滑轨
[0086] 15 捕获装置
[0087] 16 接纳部
[0088] 20 下降料道结构
【权利要求】
1. 一种下降料道结构，所述下降料道结构用于胶合颗粒的装置，所述颗粒至少部分地 由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中，所述下降料道结构具有下降料道（10)，其 特征在于，所述下降料道结构（20)还具有用于使所述下降料道（10)和/或下降料道元件 (11，12)在工作位置和清洁位置之间运动的装置。
2. 如权利要求1所述的下降料道结构，其特征在于，所述用于使所述下降料道（10)和 /或下降料道元件（11，12)运动的装置设置成使所述下降料道（10)和/或下降料道元件 (11，12)绕摆动轴线摆动。
3. 如权利要求1所述的下降料道结构，其特征在于，所述用于使所述下降料道（10)和 /或下降料道元件（11，12)运动的装置（13,14)设置成使所述下降料道（10)和/或下降料 道元件（11，12)沿移动轴线移位。
4. 如权利要求1所述的下降料道结构，其特征在于，用于使所述下降料道（10)或至少 一个下降料道元件（11，12)运动的装置包括滑块（13)、滑轨（14)和/或接纳部（16)。
5. 如权利要求1所述的下降料道结构，其特征在于，还具有用于捕获的捕获装置（15)， 其中所述捕获装置（15)于所述下降料道（10)或下降料道元件（11，12)下方设置在所述清 洁位置。
6. -种用于胶合颗粒的装置，所述颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎 屑构成，其特征在于，所述装置具有如前述权利要求中任一项所述的下降料道结构（20)。
7. 如权利要求6所述的装置，其特征在于，还具有 用于馈送颗粒（1)的馈送装置；以及 用于输出粘结剂的多个喷嘴（6)，其中，所述喷嘴设置在所述下降料道（10)内的区域 中和/或所述下降料道（10)的进入开口上方。
8. 如权利要求6或7所述的装置，其特征在于，还具有位于所述下降料道（10)或者所 述下降料道结构（20)下游的混合装置（7)。
【文档编号】B27N1/02GK203831536SQ201320744090
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2013年11月21日 优先权日:2012年11月22日
【发明者】R·施威 申请人:迪芬巴赫机械工程有限公司