专利名称：具有冲击射流安装系统的将液体流束受控施用到基底的设备的制作方法
技术领域：
本发明总体涉及形成一个或多个具有相对小的、边界清晰(well defined)的横截面区域的液体流束的设备和方法，该液体流束通常指向目标基底，并且通过施加横向于液体流束的正常流动方向的气态流体冲击射流，选择性地打断和重新定向这些液体流束的流向。更具体地，本发明涉及提供精确性以及基本上在(i)正常施用模式(在此模式下液体流束被施用于基底)和(ii)转向模式(在此模式下液体流束被重新定向成离开基底)之间即时转换的设备和方法。这样的转换是响应于命令来执行的，以在基底上制作预期的精密标度的处理图案。
背景技术：
通过打断施加的液体流束在目标基底上提供标度相对精细的液体处理图案的系统是被广泛熟知的。在现有的系统中，多个液体流束在压力下从被布置成紧密并排排列的喷孔开口被喷射出。这些喷孔开口由限定出这些开口的壁外周地环绕。加压液体流束在正常情况下射向目标基底，但是通过施加横向气体射流而被间歇性地打断，该横向气体射流将液体流束重新定向成离开目标基底，并进入收集池以被再利用。在气体射流的施加被中断情况下，液体流束恢复沿着初始的路径行进。这样的系统一般被用于将染料或其它液体的复杂图案施加到纺织品基底上，但是，如果需要，也可同样地处理其它的基底。虽然现有的系统工作十分良好，但是，在基底上施加图案方面提供改善的清晰度，同时仍然要将大量的染料或其它液体传递到基底上以提供完整的处理，这是持续性的挑战。在系统装配方面提供降低的复杂性以及在收集未使用的液体方面增强功能性同样也是持续性的挑战。
发明内容
本发明通过提供用于将液体流束施加到基底的改进系统，提供了超越现有构造和实践的优点和替代方案。本发明的系统在沿无限制的流动路径排放前结合了开放面的流动通路。本发明进一步提供了改进的自对准模块化组件，用于将冲击流束传送给液体流束。本申请进一步提供经改进的装置，用于收集响应于冲击流束的施加而转向的流动路径中的液体流束，而不会有过量残留物堆积。依据一个示范性的方面，本发明提供了用于将一个或多个液体流束间歇性地施加到目标基底上的设备。该设备包括歧管形式用于容纳液体的液体供给源，和与液体供给源流体连通的多个液体输送通路。这些液体输送通路适用于携带液体离开歧管并向目标基底输送。液体输送通路中的至少一个包括限定出基本完全封闭的液体通路的第一路段，以及在该第一路段下游的第二路段。该第二路段具有开放面液槽配置。该第二路段的端部限定了朝向目标基底的侧开放液体出口(open sided liquid outlet),使得离开第二路段的液体流束沿基本对准液体输送通路的正常流动路径被射向目标基底。多个冲击射流指向通道被定位成在液体输送通路和目标基底之间的一高度处。这些冲击射流指向通道中的至少一个具有中心轴线，其被定向成与从相应的液体输送通路射出的相应液体流束的未中断流动路径成相交关系。冲击射流指向通道适用于选择性地发出冲击流束，以将相应的液体流束转向成远离未中断流动路径，进入转向后流动路径。液体收集组件捕获在转向的正常流动路径中的液体流束。依据另一个示范性方面，本发明提供了用于将一个或多个液体流束间歇地施加到目标基底上的设备。该设备包括歧管形式用于容纳液体的液体供给源，和具有与歧管流体连通的多个液体输送通路的通路模块。这些液体输送通路适于携带液体离开歧管并向目标基底输送。该液体输送通路的端部限定出射向目标基底的液体出口，使得离开液体输送通路的液体流束沿与液体输送通路基本对准的正常流动路径被射向目标基底。在该液体出口下面，通道模块具有平台(landing)。该平台具有冲击射流定位孔径，孔径的中心轴线与相应的液体输送通路的中心轴线相对准。该设备还包括冲击射流模块，其具有被安装在冲击射流本体上的可单独激活的多个冲击射流管。冲击射流管包括从冲击射流本体延伸的远端，这些远端被布置成图案，以适于同轴插入通路模块的平台中的相应的冲击射流定位孔径中。这些冲击射流管适于选择性地传递冲击流束，以使相应的液体流束转向成远离未中断流动路径，进入转向后流动路径。液体收集模块捕获从正常流动路径转向的液体。依据又另一个示范性方面，本发明提供了用于将一个或多个液体流束间歇地施加到目标基底上的设备。该设备包括歧管形式用于容纳液体的液体供给源，和具有与歧管流体连通的多个液体输送通路的通路模块。这些液体输送通路适于携带液体离开歧管并向目标基底输送。液体输送通路的端部限定了朝向目标基底的液体出口，使得离开液体输送通路的液体流束沿着基本上与液体输送通路对准的正常流动路径射向目标基底。多个冲击射流指向通道被布置成在液体输送通路和目标基底之间的一高度处。这些冲击射流指向通道中的至少一个具有中心轴线，其被定向成与从相应的液体输送通路射出的相应的液体流束的未中断流动路径成相交关系。这些冲击射流指向通道适于选择性地传送冲击流束，以使相应的液体流束转向为远离未中断流动路径，进入转向后的流动路径。液体收集模块捕获从正常流动路径转向的液体。液体收集模块具有入口、漏斗部，以及出口。入口被定位成用于接收转向后流动路径中的液体流束，漏斗部与入口流体连通，并且随着它远离入口延伸而横截面缩小，而出口允许通过液体收集模块的流体离开该收集模块。
被结合在本说明书中并构成本说明书一部分的附图示出了本发明的可能优选的实施例，并且与以上的一般性说明以及以下的详细说明一起，起到揭示本发明的原理的作用，其中图1是示出依照本发明的示范性设备的示意性剖视图，其示出向地毯基底投射单个加压液流的液体射流组件；图2是与图1类似的视图，示出了来自冲击射流组件的冲击气态偏离射流的施加，其重新引导液体流束离开基底并进入收集盘组件；图3是示出歧管部件、通路部件，以及投射到地毯基底上的液体流束的液体射流模块的示意性剖视图4是大体上沿着图3中的线4-4截取的示意图,示出了在通路本体中的通路液体通路，以及从歧管腔到地毯基底的液体流束的流动；图5是大体上沿图4中的线5-5截取的示意图，以虚线示出了对接通路本体盖；图6是大体上沿图5中的线6-6截取的示意图，示出了在液体射流模块的通路本体中的凹槽；图7是示出处于液体射流模块的通路本体适当位置处的冲击射流模块的示意图；图8是与图7类似的视图，其示出与通路本体分离的冲击射流传送模块；图9是示意性剖视图，示出了来自图1和图2的用于捕获在转向后的流动路径中的液体流束的收集模块；以及图10是大体上沿图9中的线10-10截取的视图。在详细解释本发明的实施例之前，应该理解本发明在其应用上决非限于以下说明所阐述的或附图所示出的构造细节和/或部件的布置。而是，本发明能够具有其它实施例，并以不同的方式被实现或执行。而且，应该理解的是，在此所使用的措辞和术语仅为了说明的目的，而不应该被认为构成限制。在此对于“包括”、“包含”，及其变体的使用意在涵盖了在其后所列出的事项和等同物，以及额外的事项及其等同物。
具体实施例方式现在参考附图，其中在尽可能的范围内，在全部视图中，相同的参考数字指代相同的特征。现在参考图1和图2，示出了示范性液体射流施加系统10的横截面视图。正如所示出的，该液体射流施加系统10大体上包括液体射流模块100、冲击射流模块200和收集模块300。容纳液体(诸如油墨、染料，或类似物)的加压液体供给装置90在压力下将液体提供给液体射流模块100。加压的液体通过液体射流模块100并被射出，形成加压的、一致的(coherent)液体流束11。如图1所示，液体流束11可被施加，作为打在目标基底20表面的未中断流动路径15。在所示出的布置中，基底20为纺织品，诸如地毯、绒头织物(pilefabric)，或类似物。但是，同样可以设想，基底实质上可以是可施加液体图案的任何材料。当不期望液体流束11到达基底20时，冲击射流模块200提供冲击流束19，冲击流束19与液体流束11接合，并形成转向的流动路径16，用于使液体流束11进入收集模块300，如图2所示。如图1和图2中的方向箭头所示，基底20可相对于液体射流施加系统10移动，使得液体流束11的未中断流动路径15将液体的处理图案施加成大体上平行于基底20行进方向的直线或线段。在冲击射流模块200射出形成转向的流动路径16的冲击流束19期间，液体流束11从基底20被转向，并且基底20从液体射流模块100底部通过的部分未经液体流束11处理。仅作为示例而非限制性，在基底20为地毯织物且液体流束11为染料的情况下，液体流束11的未中断流动路径15将地毯基底20染上大体上平行于地毯基底20的行进方向的直线或线段。当冲击射流模块200射出冲击流束19时，液体流束11将具有转向的流动路径16，其导致液体流束11转向进入收集模块300，并且地毯基底20通过液体流束11下面的部分将保持未被染色。通过具有一系列垂直于地毯基底20行进方向的液体射流施加系统10，可在地毯基底20的宽度上施用染料。通过在基底20的行进方向上并排具有多个液体射流施加系统10，每一个液体射流施用系统10可在基底20表面上施加不同液体的液体流束11，诸如不同的染料颜色，以在基底20上获得不同液体(诸如不同颜色)的不同图案。现在参考图3，液体射流模块100大体上包括歧管部件120和液体通路部件130。在所示的实施例中，液体通路部件130包括液体通路112，其与在歧管部件120中的歧管腔111流体连通。在歧管部件120的相反侧，液体通路112各具有液体排放端部116，液体流束从液体排放端部116流出通路部件130。液体通路112由在通路本体140和通路块盖150中的凹槽141形成。在所示的实施例中，歧管腔111主要由歧管体120形成，其被通道本体120和通路本体盖150封闭起来。加压液体供给装置90与歧管腔111流体连通，并且歧管腔111提供进给液体的供给源，液体通过液体通路112阵列中的液体排放端部116，以形成液体流束11，液体流束11被射向基底20。可以设想，每一个液体流束11将具有相对小的横截面区域，以在基底20上施加液体流束11时提供更精细的图案控制。正如在图4中能理解和示出的，这种细直径的流束可以彼此并排的布置方式来布置，以限定出基本上连续的液体帘，该液体帘被定向成横向于基底20的行进方向。这样的布置允许通过选择性使单独的液体流束11和/或成组的液体流束11不连续，在目标基底20上施加复杂的液体施用图案。仅作为举例而非限制，液体流束11的直径可小于约150mil,并更优选地小于约IOOmil,并且最优选地在约3至约30mil,但同样地也可采用更大或更小的有效直径。为了在基底20上提供精密标度的图案，希望沿在液体射流模块100和基底20之间的行进路径上保持的液体流束11的横截面完整性(integrity)。本发明提供了多阶段(stage)液体行进路径，用于将液体流束11从歧管腔
111传送到基底20，这被认为是改善了从液体射流模块100到基底20的液体流束11的横截面的完整性。如图3和图4所示，在封闭的第一阶段12，液体流束11从歧管腔111行进到液体通路112中，并且然后通过开放导向的第二阶段13，然后通过与单独的液体通路112相关联的液体排放端部116排出液体通路112，沿着无限制的第三阶段14到达基底20。在封闭的第一阶段12中，形成液体流束11的液体经过液体通路112的封闭的第一路段114，液体通路112由在通路本体140中被通路本体盖150封闭的凹槽141形成。如图6所示，在通路本体140中的凹槽141具有基本上成矩形的横截面，但是如果期望，也可使用其它的几何形状，诸如基本上成圆形或“U”形的横截面。在所示出的实施例中封闭凹槽141的通路本体盖150的表面基本上是平坦的，但是其也可包括互补凹槽，用于与在通路本体140的表面的凹槽141对准。在开放指向的第二阶段13中，形成液体流束11的液体穿过由在通路块140中的凹槽141形成的开放液槽第二路段113，其不被通路本体盖150封闭。也就是说，液体流束11并不是在所有的侧面被限定边界，例如仅在两个或三个侧面上被限定边界。在通路本体140的该区域中，通路本体盖150并不延伸以覆盖凹槽141，从而形成了开放液槽状的配置。因此，在第二路段115内的液体流束11具有外部面，其不具有相对限制边界表面，并且沿液体通路112行进的液体从在第一阶段12中封闭的第一路段114过渡到第二阶段13的开放面的第二路段115。在由开放面的第二路段113形成的第二阶段13之后，液体流束11通过相关液体排放端部116排出液体通路112，沿着液体输送路径的无限制的第三阶段14，在其中液体流束11通常基本上与液体通路112对准，但不再由液体通路112限制或导向。在该第三阶段14中，液体流束11不受外部边界表面的限制并且不由其导向。
可以认为，在排放到无限制的第三阶段14的无边界空间中之前，从封闭的第一阶段12过渡到开放面的第二阶段13在提高液体流束11的一致性和总体稳定性方面是有益的。虽然并不意味着拘泥于特定的理论，但是可以认为在被释放成无限制或无导向液流之前，第二阶段13的开放面使得液体流束11消耗静压力。可以认为，从完全封闭液流到完全无封闭液流的突然骤变可导致液体流束中静压力的膨胀，以形成截面间断，这将使流束的横截面大小不可预计地扩张，或在被基底20接收之前在流束中形成不均匀的横截面。在实践中，第二阶段13的长度优选地为液体通路112的最大横截面尺寸的至少四倍，这改善了液体流束的过渡和导向，使得这些间断最小化。仅作为示例而非限制性，依据一种实现方式，在第二路段115中液体通路112的宽度尺寸为约14mil。据此，在示范性布置中，第二阶段13的长度优选地为约56mil或更大。当然，如果期望，同样可采用更大的和更小的有效直径。如图5所示，第二路段115的终端部限定出投射向目标基底20的侧开放出口。液体流束11将作为基本一致且稳定的单元(units)从液体通路112行进至基底20。但是，同样可期望具有基本瞬间阻止液体流束11被施加到基底20上的能力，随后根据要求基本瞬间重新将液体流束11施加到基底20，以至于以一定程度的清晰度和精确度控制将液体施加到基底20的图案。为此，可通过施加来自冲击射流模块200的气态冲击流束19操纵液体流束11，以在基底20上操纵液体流束11的图案形成，如前面在图2中说明和示出的。冲击射流模块200包括冲击流束指向通道211，其射出冲击流束19并引导冲击流束19的方向。每一个冲击流束指向通道211具有中心指向轴线，其在液体射流模块100下游在液体流束11的无限制第三阶段14中，与液体射流模块100中的相关联的液体通路112的中心指向轴线相交。在所示出的实施例中，冲击流束指向通道211向液体流束11的某位置射出冲击流束19，该位置在液体流束11的开放指向的第二阶段13的无限制位置的相反侧。现在参考图2、图3、图4、图5、图7和图8，通路部件130的通路本体140在凹槽141的末端包括凹进的平台(landing)142，其与离开液体通路112的液体流束11间隔开一较短的距离。在该凹陷平台142上设置有一系列冲击射流定位孔径143，并且每一个冲击射流定位孔径143的中心轴线在该液体通路112的液体排放端部116下面与相应的液体通路112的中心轴线相交。如图所示，冲击射流定位孔径143可被布置成并排关系，使得冲击流束19被布置成沿基本同一个平面发射。但是，如果期望，也可使用其它布置。在凹进平台142的液体流束11从凹槽141中排出的相反侧为冲击射流安装表面144。现在参考图2、图7和图8，冲击射流系统200包括容纳并排的气体管阵列230的冲击射流模块体220。每一个气体管230以与通路本体140中的冲击射流定位置孔径143的同样的间隔和布局隔被间隔开并被定位在模块本体220中。模块体220具有安装表面221，并且每一个气体管230包括从安装表面221延伸的远端231。在安装冲击射流模块200时，冲击射流传送系统200的冲击射流模块安装表面221接合通路本体140的冲击射流安装表面144，并且气体管230的远端231伸入通路本体140的冲击射流定位孔径143中。气体管230的外径优选地基本对应于通路本体140的冲击射流定位孔径143的内径，以便在插入远端231时实现牢固的插入关系。为了接纳气体管230的远端231，在通路本体140中的冲击射流定位孔径133为锥形，其在冲击射流安装表面143附近具有较宽的端部，而在平台142附近为较窄端部。可选地或额外地，气体管230的远端231可以是锥形的，其在冲击射流本体220附近为较大端部，而在近端233附近为较窄端部。同样还发现，在优选布置中，气体管230的远端231终止处与紧靠液体流束11的平台142的表面齐平，从而避免凹陷和拐角，来自液体流束11的过喷液体可能积聚在凹陷和拐角上并产生失控性滴落。气体管230内部形成冲击流束指向通道211。正如将体会到的，由于气体管230插入相应的冲击射流定位孔径143中，不需要也不能调节气体管230的定位。而是，该定位是预先设定的，并通过射流定位孔径143的定位来保持。冲击流体指向通道211的定位将具有中心轴线，其在液体通路112的液体排放端部116的下面与相应的液体通路112的中心轴线相交，并优选地形成垂直关系。依据可能优选的实现方式，在冲击射流系统200中的气体指向通道211的直径大于在液体射流模块100中相应的液体通路112以及产生的液体流束11的宽度直径。最为优选地，气体指向通道211的横截面直径将可能大，同时保持相对于相应的液体流束11基本居中关系，并且不允许来自其中的液体流束19干扰相邻的液体流束11或相邻的冲击流束19。在这点上，理想地，气体指向通道211的直径至少和进给到气体管230的管线的直径一样大，使得气体指向通道211不会在系统中产生流动约束。仅作为示例，已经发现，当使用具有约14mil的横截面的液体通路112时，气体指向通道211的直径为约43mil可以提供良好的性能，但是，如果需要，可使用更大或更小的直径。冲击射流系统200可作为单独的模块被安装到液体射流模块100中，也可以从其被移除。当然，在实际的实现方式中，冲击射流模块100可以是在一排液体流束11上的多个这样的模块，其中的每一个可结合单独的多个气体管230。在一个或多个气体管230被损坏的情况下，可简单地移除和更换包含气体管的单独模块，使中断最小化。气体管230各自可被可操作地连接至与分立的供给管线(未示出)流体连通，供给管线将加压空气或其它气态流体选择性地输送到气体管230。这种加压汽态流体到单独的气体管230的选择性输送是通过阀门启动的，该阀门基于来自计算机或其它命令装置的指令而打开和关闭。应理解，在加压气体没有供给到气体管230期间，与该气体管230相关联的液体流束11沿未中断流动路径15到达基底20。相反地，在加压气体供给到气体管230期间，产生的冲击流束19接合液体流束11，其然后被转向成远离基底20，进入转向后的流体路径16，并且基底20在液体流束11的正常定位下方通过的部分未经处理。如图2所示，该转向力的施加是在液体流束11中开放指向的第二阶段13下游的无限制的第三阶段14中。如图1和图2所示，该施用系统10包括收集模块，其总体地被指代为300。来自图1和图3的收集模块300在图9和图10中被进一步详细地示出。该收集系统300包括角本体(angle body) 320和相对的偏斜托板(blade) 330。该角本体320被安装到液体射流模块100的通路盖块140，并具有偏斜表面321，其被定位成接近从液体射流模块100离开的液体流束11。该角本体320的偏斜表面321被定向成，从液体流束11的下游位置测量时与液体流束11成锐角。偏斜表面321的位置和角度被选择成使得阻止液体流束11的任何烟雾或过喷液体以漩涡状流循环返回离开收集模块300。偏斜托板330通过支座323被安装到角本体320，从而形成用于使液体流束11通过的排放通道310。支座323沿收集组件300的横向机器长度间歇地被间隔开。这种布置使得偏转液体流束11穿过排放通道310并进入回收池(未示出)用于再利用。仅作为示例而非限制，在支座323之间的槽开口可具有约90mi I的高度尺寸，但是，如果期望，也可使用更大的或更小的高度。如所示出的，排放通道310具有收集部311、漏斗部314，和出口部315。收集部311被定位成在液体流束11离开液体射流模块100时与液体流束11相邻，并且在施加冲击流束19时使得液体流束11的转向流动路径16将进入收集部311。收集部311被示出为在到达漏斗部314之前具有短的长度，但也可仅是漏斗部314的开口。相反地，出口部315被示出为离开漏斗部314的开口，但是可具有离开漏斗部314延伸的短的长度。如所示出的，液体射流施用系统10被定位成使得液体流束11垂直于基底20行进。在该定位下，可优选的是，可在排放通道310的出口 315施用真空，以确保正确移除转向后的流动路径16中的液体流束11。但是，液体射流施用系统10可以被定位成与竖直方向成一角度，使得重力辅助转向流动路径16中的液体流束11从排放通道310前行,而不使用真空。如所示出的，偏斜托板330包括前沿331、导向表面332和收缩表面333。偏斜托板330相对薄，仅作为示例，在一个可能的优选实施例中，偏斜托板330可具有约20mil的厚度，但是，如果需要，也可以使用更厚或更薄的托板。前沿331被定位在与液体流束11的未中断流动路径15相邻的入口 311的较低侧，且前沿331的表面是平坦的，并且基本上平行于液体流束11的未中断流动路径15。导向表面332延伸远离前沿331，并且在前沿331和导向表面332之间的角度形成了与液体流束11的未中断流动路径15相邻的刀刃。由于前沿331与液体流束11接近，该刀刃将“切去”当液体流束11从未中断流动路径15过渡到转向流动路径16，或过渡回时在液体流束11中形成的任何钩形。依据一个可能的优选实现方式，液体流束18和前沿331之间的间隔被设定为约5至约15mil，但是如果需要，也可以使用更大的或更小的间隔水平。导向表面332引导离开前沿314，并且优选地基本平行于在角本体320上的偏斜表面321。导向表面332基本上平行于偏斜表面321的该部分形成了收集排放通道310的收集部311。在偏斜托板330的导向表面331的后部,偏斜托板330远离导向表面331,并且向角本体320的偏斜表面321倾斜。偏斜托板330朝向角本体320的偏斜表面321倾斜的部分为收缩表面333。在偏斜表面321和收缩表面333之间的间隔形成了排放通道310的漏斗部314。仅作为示例而非限制性，已经发现在导向表面332和收缩表面333之间约150°至155°的角度对于偏斜托板330来说是尤其优选的。这个角度相对于角度本体320的偏斜表面321形成的漏斗部的约25°至30°的收缩。在施用来自冲击射流模块200的气体指向通道211的冲击流束19时，形成液体流束11的转向流动路径16，其穿过排放通道310。液体流束11的被打断的液流通过收集部311进入排放通道310，并被路线引导向漏斗部314。在进入收集部311时，偏斜托板330的刀刃切去可能没有沿着完全偏斜液流16进入排放通道310的相同路径的任何液体流束11。角本体320的偏斜表面321保持到偏斜托板330的导向表面332的距离，这有助于防止由于在设备的零件上的旋转流(circling currents)引起来自液体流束11的喷派回流到排放通道310外，这可能使得积聚液体冷凝和滴落到下面的基底20上。漏斗部314的逐渐减少的横截面区域导致液体流束11的被打断的流动路径16和冲击流束19加速，并排出排放通道310的出口部315，在那里其可被液体回收系统(未示出)收集。当冲击流束19停止时，液体流束11恢复其正常未打断流动路径15去往基底20 (图1)。应理解，本发明提供了一种具有高度功能性的施用系统，并且其可相对简单地进行装配和维护。尤其是，由于冲击射流传送系统200的插入关系，接合时不需要冲击射流与对应的液体流束11的复杂对准。而且，沿流动路径结合开放面过渡的流动阶段被认为充分促进了一致和稳定的液体流束，这在基底20上提供了精密标度的绘图。而且，将基本平行间隔开的挡板与偏斜托板装置结合起来促进了对偏转的液体流束材料的高效且有效的回收。这些特征，单独地以及组合起来地，充分促进了对基底20进行喷绘施用的加强的功能性和精确性。当然，前述的变形和变体是在本发明的范围之内的。因此，将理解的是，在此所揭示和限定的本发明延伸到本文和/或附图所提及的以及明显示出的两个或更多个独立特征的所有备选组合。所有这些不同组合组成本发明的不同的替代方面。在此所描述的这些实施例解释了实现本发明的已知的最佳模式，并将使本领域其他技术人员能够利用本发明。权利要求应被解释为包括现有技术允许范围内的替换性实施例和等价实施例。术语“约”在参考距离被使用时意味着±10%。在随附的权利要求书中阐述了本发明的各种特征。
权利要求
1.一种用于将液体从加压源以液体流束的形式间歇性地施加到目标基底上的设备，所述设备包括 歧管腔，其用于从所述加压源接收所述液体； 通路部件，其具有与所述歧管腔流体连通的多个液体通路，每个液体通路具有朝向所述目标基底的液体排放端部，从而来自所述歧管腔的所述液体通过所述液体通路，形成指向所述基底的所述液体流束，每个通路部件还具有被布置成与所述液体通路的所述液体排放端部相邻的平台，所述平台具有从其延伸穿过的多个冲击射流定位孔径，每个冲击射流定位孔径与特定液体通路相关联并具有中心轴线，该中心轴线被定向成与相应的液体通路的中心轴线成相交关系； 冲击射流模块，其具有被安装在冲击射流本体中的多个冲击射流管，所述冲击射流管具有从其延伸的管远端，每个冲击射流管具有射流管开口，其中每个冲击射流管与相关联的冲击射流定位孔径相对准，并且其中所述冲击气体管的所述管远端还被插入相应的冲击射流定位孔径中，从而通过所述冲击射流管去往相关联的液体流束的冲击流体将在相关联的液体流束中形成改向后流动路径；和 液体收集模块，其适于捕获沿所述改向后流动路径的所述液体流束。
2.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流定位孔径的所述中心轴线大体垂直于相关联的液体通路的所述中心轴线。
3.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流管的内直径大于相关联的液体通路中的所述液体排放端部的相应横截面宽度。
4.如权利要求1所述的设备，其中所述平台被定位成从所述液体通路和来自所述液体通路的所述液体流束的路径凹进。
5.如权利要求1所述的设备，其中所述射流管开口与相应的液体流束的未中断流动路径间隔开一距离。
6.如权利要求5所述的设备，其中所述射流管开口与相应的液体流束的未中断流动路径间隔开约10至约25mil的距离。
7.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流管的所述射流管开口与所述平台的与所述液体流束的位置最接近的表面大体在同一平面上。
8.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流管的所述射流管开口2从所述平台的表面延伸向所述液体流束的位置。
9.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流管基本在共同平面内以并排关系被布置成直线图案。
10.如权利要求9所述的设备，其中一个或多个所述冲击射流管包括与所述管远端相反的近端，所述近端从所述共同平面弯曲离开，以适应连接到气体供给装置。
11.如权利要求1所述的设备，其中所述通路部件包括在所述平台相反侧的冲击射流安装表面，并且其中所述冲击射流模块包括冲击射流模块安装表面，所述冲击射流管的所述远端从所述冲击射流模块安装表面延伸，并且其中所述多个管远端延伸进入到所述冲击射流定位孔径中，并且所述冲击射流模块安装表面接合所述通路部件的所述冲击射流安装表面。
12.如权利要求11所述的设备，其中所述冲击射流定位孔径为锥形，在所述冲击射流模块的所述冲击射流模块安装表面附近具有较宽的端部，并且在所述通路部件的所述平台附近具有较窄的端部。
13.如权利要求11所述的设备，其中所述气体管的所述远端为锥形，在所述冲击射流本体附近具有较大的端部，并且在所述近端附近具有较窄的端部。
14.如权利要求1所述的设备，其中所述设备包括多个冲击射流模块，每个所述冲击射流模块具有冲击射流管，所述冲击射流管的管远端被插入到相关联的冲击射流定位孔径中，并且其中每个所述管远端具有与来自相关联的液体通路的液体流束相对准的射流管开□。
全文摘要
一种用于将液体流束施加到基底的改进的系统。该系统包括开放面流动通路，用于在沿无限制流动路径排放之前携带液体离开完全封闭的流动路段。本发明进一步提供了一种将冲击射流传送到液体流束的改进的、自对准模块化组件，用于使液体流束的方向改向。本发明进一步提供了一种改进的装置，用于收集响应于对冲击射流的施加而被偏转的液体，而不会有过量残留物堆积。
文档编号D06B1/02GK103052743SQ201180038361
公开日2013年4月17日 申请日期2011年7月14日 优先权日2010年8月4日
发明者F.S.拉弗, J.E.拉姆勒, M.A.霍农, J.C.布赖恩特, S.E.科-费勒特 申请人:美利肯公司