用于生产具有高折射指数的光学层的蒸汽沉积材料的制作方法

专利名称：用于生产具有高折射指数的光学层的蒸汽沉积材料的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于高折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料，它包括二氧化钛(titanium oxide)与氧化钆和/或氧化镝的混合物。
光学组件通常提供有薄涂层，它为了表面保护目的被施涂或为了获得某些光学性质被施涂。
这一类型的这些光学组件包括，例如，光学透镜，柔性焦距透镜组，照相机的透镜，双目望远镜或对于其它光学仪器，光束分离器，棱镜，反光镜，窗户窗格玻璃等等。
这些涂层能够首先通过硬化和/或提高耐化学性而用于表面的处理，以便减少或防止由机械、化学品或环境影响的损害作用，而且常常还用于实现减低的反射率，这对于柔性焦距透镜组和摄影镜头尤其是这种情况。通过选择合适的涂料，不同层厚度以及包括(若合适的话)具有不同折射指数的不同材料的单层-或多层结构，有可能实现在整个可见辐射谱中反射率的减少幅度低于1％。通过各种材料在合适层厚度上的合适结合，也能够生产出干涉镜，光束分离器，起偏振镜，滤热器或冷光镜。
为了生产上述涂层，各种的，尤其氧化物材料是已知的，例如，SiO2，TiO2，ZrO2，MgO，Al2O3，而且包括氟化物，如MgF2，以及这些物质的混合物。
涂料在这里根据目标光学性质和根据材料的加工性能来选择。
光学基材的涂敷通常通过使用高真空蒸汽沉积方法来进行。在这一方法中，首先将基材和含有蒸汽沉积物质的烧瓶放置于合适的高真空蒸汽沉积装置中，该装置随后被抽空，和该蒸汽沉积物质通过加热和/或电子束轰击而蒸发，其中蒸汽沉积材料以薄层形式沉淀在基材表面上。相应的装置和方法是普通的先有技术。
适合于高折射指数(即具有2或2以上的折射指数)的层的生产中的起始原料的选择是相对受限的。在这里合适的基本上是钛，锆，铪和钽的氧化物和它们的混合氧化物。最常常使用的是二氧化钛。从其生产的层在约380nm到5μm的可见和近红外光谱范围中是透明的，并且与起始原料一样，没有明显的吸收。用二氧化钛在约500nm的波长下实现的折射指数是约2.4。然而，在紫外线辐射中观察到吸收。
尤其对于纯钛(IV)氧化物，也会遇到风险在蒸发过程中发生氧的损失，引起了亚化学计量的二氧化钛层的沉积和因此导致形成在可见光谱区有吸收的层。这能够在蒸发过程中通过合适的措施来防止，例如氧残余压力的形成，或另外通过某些物质的添加，例如根据德国专利12 28 489，通过稀土元素族的元素或氧化物的添加来防止。在这里尤其提及二氧化钛与镨和/或氧化镨的混合物或二氧化钛与铈和/或二氧化铈的混合物。
然而，这些已知混合物的相对无吸收只限于可见光谱区。相反，德国专利12 28 489未提到该紫外线或近红外光谱区。
纯氧化物的附加缺点在于它们一般具有高熔点和沸点，它们另外也是致密的。然而由于加工方面的理由，建议在主要的蒸发开始之前让蒸汽沉积材料完全地熔化。仅仅以这一方式有可能获得均匀的和足够的蒸发速度，这是均匀厚度的均匀层的形成所需要的。然而在常见的工作条件，熔化是困难的，尤其对于锆和铪的氧化物而言，以及对于钛/锆混合氧化物而言。
所形成的层常常是光学不均匀的和，对于通常的多重应用而言，导致在折射指数的可再现性上遇到困难。
因此之故，希望降低金属氧化物的熔点和还尤其用于折射指数的特定变化的材料也被添加到纯金属氧化物中。然而，这些材料应该进行选择，这样在所形成的层中在可见光谱区中不会有显著的吸收。
然而，已证明不利的是，上述金属氧化物的混合物随熔点降低添加剂不均匀地蒸发，即在蒸发过程中它们改变自身的组成和所沉积的层的组成也会相应地改变。
为了解决这一问题，已提出了混合氧化物，例如La2Ti2O7。然而，这些在蒸发过程中放出氧，与钛(IV)氧化物相似，导致了沉积层的亚化学计量的组成和因此导致了吸附现象。
除了适合于高折射指数的层的生产的早已提及的金属氧化物之外，其它出版物也早已提到稀土金属的氧化物。
因此，例如，氧化镨和二氧化钛(titanium dioxide)的混合物是已知的。这些在低于400nm的光谱区中具有强吸收和由于镨离子的吸收而在可见光谱区中具有弱吸收。
氧化镧和二氧化钛的混合物也早已被人多次提出，例如在DE 4208 811和在DE 100 65 647中。然而，氧化镧包含会导致了在用其生产的层中提高了的对水分的敏感性。另外，镧的天然放射性同位素会由于它的放射性辐射而损害敏感光学组件。
US4,794,607描述了氧化钆层与氧化铝层的交替使用，用作光学放大器的抗反射涂层。这一材料的研究已表明，取决于施涂方法，具有1.75或1.80的折射指数的均质层能够通过用氧化钆的汽相淀积法来获得(K.Truszkowska，C.Wesolowska，“Optical properties ofevaporated gadolinium oxide films in the region 0.2-5μm”，Thin Solid Films(1976)，34(2)，391-4)。
所生产的层因此远离2或2以上的靶折射指数。
DE-A 3335557公开了使用二氧化钛和氧化镱的交替层或氧化铝和氧化镱的层序列来生产在光学透镜上的抗反射涂层。
已知的是，氧化镱能够达到从1.75到1.9的折射指数，取决于所施涂的层的厚度和取决于该施涂方法。这些折射指数同样地不在该高折射指数范围内。
也已知的是二氧化钛与氧化镝和/或氧化镱的混合物，但这些，根据WO95/05670，被施涂于光生伏打电池上，以便以溶胶/凝胶方法生产半导电的金属氧化物层。
对于所生产的层的能实现的折射指数没有相关信息。
本发明的目的因此是提供用于具有至少2.0的高折射指数的层的生产中的蒸汽沉积材料，它具有高耐久性，对水分、酸和碱不敏感，具有低放射性，在宽的光谱范围中是透明的和不吸收的，在熔化和蒸发过程中不改变它的最初组成，而且它适合于具有相同性能的高折射指数的层的生产。
这一目的根据本发明可通过用于高折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料来实现，后者包括二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝。
根据本发明的目的进一步可通过用于高折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料的制备方法来实现，其中二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝进行混合，混合物被压缩或悬浮，成型和随后烧结。
本发明另外涉及包括二氧化钛和氧化钆和/或氧化镝的蒸汽沉积材料用于高折射指数的光学层的生产中的用途。
在根据本发明的一个实施方案中，该蒸汽沉积材料包括二氧化钛和氧化钆(Gd2O3)和/或氧化镝(Dy2O3)。这些材料是以4∶1到1∶4的摩尔比率存在，在每一种情况下最后的数字涉及到氧化钆或氧化镝的摩尔比率或涉及氧化钆和氧化镝的摩尔比率的总和。
这些材料优选是以2.6∶1到1∶1.3的摩尔比率存在，其中再次最后的数字涉及到氧化钆或氧化镝的摩尔比率或涉及氧化钆和氧化镝的摩尔比率的总和。
如果使用氧化钆和氧化镝的混合物，则各物质彼此之间的相对比率本身不是关键的。它能够在宽的比率内，尤其按99∶1到1∶99的比率来设定。
如果考虑能够通过用各组分的涂敷所能够达到的折射指数，这些对于用二氧化钛的涂敷的情况是约2.3到2.4，同时，用纯氧化钆层和用纯氧化镝层能够达到约1.75到1.9的折射指数。
一般说来，具有在两种个体价值之间的折射指数的层，取决于该组分的摩尔比率，能够用双组分的混合物来实现。较高摩尔比率的具有相当低折射指数的组分因此会导致混合物的折射指数更接近于低折射指数的组分的折射指数，而不接近于较高折射指数的组分的折射指数。
因此令人吃惊地发现，包括二氧化钛和氧化钆和/或氧化镝(优选按上述摩尔比率)的混合物能够生产出某些涂层，后者的折射指数显著地高于所预期的混合值和尤其接近于纯二氧化钛的折射指数。具体地说，能够用这些混合物生产具有显著高于2.0即在约2.20到约2.30范围内的折射指数的层。在各情况下想望的所确定的折射指数能够利用氧化钆和/或氧化镝的摩尔比率来具体地设定在这一范围内。较高比率的这些组分中的一种或两种会导致所获得的折射指数的轻微降低。
如果氧化钆和氧化镝均用于混合物，则这两种物质的各自摩尔比率，相反地，对于用含有二氧化钛的总混合物所获得的折射指数没有显著影响。如果混合物的摩尔比率的总和是在上述范围内，则这一情况尤其适用。
此外，理想地发现，根据本发明的蒸汽沉积材料几乎均匀地蒸发，即它们的组成在蒸发过程中基本上不变化。以这一方法，能够生产具有n≥2.0，尤其n≥2.20的稳定的高折射指数的均质层。
另外，所获得的光学层在宽的光谱范围内，即约380nm到5μm，具有高透明度。尤其，在可见和近红外光谱区中能够实现完全透明度。
与现有技术中已知用于高折射指数的层的生产中的蒸汽沉积材料相比，从根据本发明的蒸汽沉积材料生产的层具有改进的耐久性。这在潮湿-温暖环境中尤其是这种情况，因为根据本发明的蒸汽沉积材料不倾向于吸收水分。这一性能证明早在蒸汽沉积材料的制备过程中是非常有利的，因为用于该混合物的处置和进一步加工的特殊措施是不必要的。然而，在合适的基材上沉积之后所形成的高折射指数的层在潮湿-温暖环境中也是特别稳定的。改进的对酸和碱的耐久性能够同样地观察到。
本发明的蒸汽沉积材料的附加优点在于所使用的物质不具有放射性同位素。蒸汽沉积材料本身或用其生产的层因此都不发出放射线，意味着安全措施是不必要的并且预计在这方面对于与该层接触的光学组件或检测器没有损坏。
在本发明的附加实施方案中，用于高折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料包括二氧化钛，钛和氧化钆(Gd2O3)和/或氧化镝(Dy2O3)。
由于金属钛的添加，在这种情况下设定混合物就氧而言的亚化学计量的比率。在混合物的熔化和蒸发过程中氧的释放因此得以避免。这也会改进蒸汽沉积材料的处置，因为在熔化和蒸发过程中常常发生的喷溅能够得到预防。以这一方法，混合物达到特别稳定的组成，在整个后续加工中都不改变。
这里同样地，二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝的摩尔比率能够是4∶1到1∶4，其中在每一种情况下最后的数字涉及到氧化钆或氧化镝的摩尔比率或涉及氧化钆和/或氧化镝的摩尔比率的总和。
对于使用氧化钆和氧化镝的混合物的情况，各物质相对彼此之间的比率能够在两种物质的摩尔比率内按照99∶1到1∶99的比率变化。
二氧化钛，钛和氧化镝的混合物已证明是特别理想的。
就重量份而言，理想地设定下列比率50-92重量份的氧化钆和/或氧化镝，7-42重量份的二氧化钛和0-8重量份的钛，基于混合物的总重量。
优选的是使用67-76重量份的氧化钆和/或氧化镝，15-27重量份的二氧化钛和2-5重量份的钛，基于混合物的总重量。
对用该材料获得的光学层的能实现的折射指数，金属钛的添加没有不利的影响。这里同样地，能够达到大于2.0和尤其2.20到2.30的折射指数。
以上对于没有添加钛的本发明蒸汽沉积材料早已描述的全部优点也适用于除了二氧化钛和氧化钆和/或氧化镝之外还包括金属钛的混合物。
这意味着混合物能够很好地加工，并用它能够获得具有稳定的高折射指数的均质层，后者在宽的光谱范围中是不吸收的和透明的和另外在潮湿-温暖环境中是稳定的并不发出放射性辐射。
根据本发明的蒸汽沉积材料通过一种方法制备的，其中二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝混合，混合物被压缩或悬浮，成型和随后烧结。
二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝理想地彼此按照4∶1到1∶4的摩尔比率和尤其按照2.6∶1到1∶1.3的摩尔比率来彻底混合，其中在每一种情况下最后的数字涉及到氧化钆或氧化镝的摩尔比率或涉及氧化钆和/或氧化镝的摩尔比率的总和。
混合物利用本身已知的合适压缩措施来压缩和成型。然而，也有可能在合适的载体中制备混合组分的悬浮液，它被成型和随后干燥。合适的载体是，例如，水，如果需要，可以在其中添加粘结剂如聚乙烯醇，甲基纤维素或聚乙二醇，和，如果需要，添加助剂，例如润湿剂或防沫剂。在悬浮操作之后是成型。在这种情况下，各种已知的技术，如挤出、注塑或喷雾干燥，都能使用。所获得的成型体进行干燥和脱除粘结剂(例如通过烧除)。这是为了混合物的更好处置和计量来进行的。混合物所转化成的成型体因此没有限制。合适的成型体是促进简单处置和良好计量的全部那些成型体，它们在采用根据本发明蒸汽沉积材料的基材的连续涂敷中和在为此目的所需的补给过程(replenishment process)中起着特殊作用。优选的成型体因此是各种片状成型体，丸，盘形，截头圆锥体，晶粒或微粒，棒条体或珠粒。
成型的混合物随后烧结。在这里烧结过程能够在各种条件下进行例如，烧结能够在空气中在1200-1600℃的温度下，在惰性气体例如氩气中在1200-1600℃的温度下，或在减压下在1300-1700℃的温度下和低于1Pa的剩余压力下来进行。在这里理想的是烧结过程，正如另外一般所常见的，不一定在减压下进行。这同时减少设备复杂性又节省时间。
所形成的成型的烧结产品在贮存、运输和引入到蒸发装置中的过程中保持了它们的形状，并且在整个后续的熔化和蒸发过程中在它们的组成上是稳定的。
然而，如果二氧化钛与钛、氧化钆和/或氧化镝混合，混合物被压缩或悬浮，成型和随后烧结，则获得特别稳定的蒸汽沉积材料。
考虑到摩尔混合比，模制品的性质和烧结条件，对于没有添加金属钛的本发明蒸汽沉积材料所述的细节不作改变。
在混合过程中，优选设定下列重量比50-92重量份的氧化钆和/或氧化镝，7-42重量份的二氧化钛和0-8重量份的钛，基于混合物的总重量。特别优选的是包括67-76重量份的氧化钆和/或氧化镝，15-27重量份的二氧化钛和2-5重量份的钛的混合物的制备，基于混合物的总重量。
当维持上述混合比时，氧化镝、二氧化钛和钛的混合物被证明是特别理想的。
在烧结和冷却之后，根据本发明的蒸汽沉积材料即可用于具有n≥2.0，尤其n≥2.20的折射指数的高折射指数光学层的生产。
根据本发明的蒸汽沉积材料能够用于涂敷所有合适基材，尤其窗格玻璃，棱镜，片，成型基材如光学透镜、柔性焦距透镜组和摄影镜头等等，它们能够由已知的合适材料如各种玻璃或塑料组成。考虑到所要涂敷的基材的性质，尺寸，形状，材料和表面质量，根据本发明的蒸汽沉积材料的使用因此根本不受任何限制，只要基材能够被引入到真空装置中和在主要的温度和压力条件下保持稳定就行。然而，为了提高所施涂的层的密度，已证明理想的是在涂敷操作之前和过程中加热该基材，因此蒸汽沉积材料接触到预热基材。取决于所使用的基材的性质，它们被加热到至多300℃的温度。然而，这一措施本身是已知的。
所使用的蒸汽沉积过程通常是高真空的蒸汽沉积过程，其中在合适烧瓶(它已知为蒸发坩锅或蒸发舟皿)中的蒸汽沉积材料与所要涂敷的基材一起被引入到真空装置中。
该装置随后被抽空，并且该蒸汽沉积材料通过加热和/或电子束轰击来引起蒸发。该蒸汽沉积材料是以薄层形式沉淀在基材上。
在蒸发过程中，理想地添加氧以便确保各层的完全氧化。为了改进所施涂的层对于尤其未受热的基材的粘合性，该基材能够在涂敷操作中进行离子轰击(离子辅助的沉积，等离子体辅助的沉积)。
一般说来，多个层，有利地具有交替的高的和低的(n≤1.80)折射指数，交替地一个在另一个之上地沉积。以这一方式，形成了多层排列，它能够提供用其涂敷的基材，具有尤其大大降低的反射率。然而，在光学基材上这一类型的多层排列在一段时间以来本身是已知的并且广泛地使用。
根据本发明的蒸汽沉积材料可用于在合适基材上生产粘附的高折射指数的光学层，后者在宽的光谱范围中是非吸收的，是透明和均匀的，具有尤其n≥2.20的高折射指数，在潮湿-温暖环境中是稳定的和对酸和碱是稳定的以及不发出放射性辐射。
本发明在下面利用多个实施例来解释，但本发明不限于实施例。
实施例1Dy2O3和TiO2的混合物68.3wt％的Dy2O3和31.7wt％的二氧化钛彼此彻底混合和随后成形为片。这些在空气中在大约1500℃下锻烧4小时。该片随后被引入到具有电子束蒸发器的蒸汽沉积设备中，例如Leybold A700Q型，并在约2000℃的温度和2×10-2Pa的氧气压力下蒸发。在位于该装置中的作为基材的石英玻璃上沉积薄层，它在汽相沉积之前已加热至约300℃。这一层的厚度被设定至约340nm。在冷却和从蒸发装置中取出之后，使用分光光度计测量有涂层的玻璃的透射和反射光谱。层的折射指数从该谱测定。获得均质层，它在500nm的波长下具有2.28的折射指数。
该层在400nm到约5μm的光谱范围内是透明的并且在这一范围中没有吸收。该层在潮湿-温暖气氛中，例如在80％相对大气湿度和50℃下是耐久的，并且具有良好的硬度和粘合强度。
涂敷基材在去离子水中沸煮10分钟并在室温下在去离子水中所形成的4.5wt％盐溶液中贮存6小时和在室温下在0.01M盐酸溶液中贮存6小时。在各自试验之后在任何样品玻璃中没有观察到施涂层的脱离。斑点和/或雾化不是明显的。
实施例2Dy2O3、TiO2和Ti从71.03wt％的Dy2O3，26.20wt％的二氧化钛和2.77wt％的钛的均匀混合物生产片和随后在约1600℃下在1×10-1Pa的压力下减压锻烧10小时。
该片随后被引入到Leybold A700Q型的具有电子束蒸发器的蒸汽沉积设备中，并在约2000℃的温度和2×10-2Pa的氧气压力下蒸发。在位于该装置中的作为基材的石英玻璃上沉积薄层，它在汽相沉积之前已加热至约300℃。这一层的厚度被设定至约340nm。在冷却和从蒸发装置中取出之后，使用分光光度计测量有涂层的玻璃的透射和反射光谱。层的折射指数从该谱测定。获得均质层，它在500nm的波长下具有2.25的折射指数。
该层在400nm到约5μm的光谱范围内是透明的并且在这一范围中没有吸收。该层在潮湿-温暖气氛中是耐久的，并且具有良好的硬度和粘合强度。
实施例3Dy2O3、Gd2O3和TiO2的混合物25mol％的Dy2O3，25mol％的Gd2O3和50mol％的二氧化钛彼此彻底混合和随后成形为片。这些在空气中在大约1500℃下锻烧6小时。
该片随后被引入到Leybold L560型的具有电子束蒸发器的蒸汽沉积设备中，并在约2000℃的温度和2×10-2Pa的氧气压力下蒸发。在位于该装置中的作为基材的石英玻璃上沉积薄层，它在汽相沉积之前已加热至约300℃。这一层的厚度被设定至约240nm。在冷却和从蒸发装置中取出之后，使用分光光度计测量有涂层的玻璃的透射和反射光谱。层的折射指数从该谱测定。获得均质层，它在500nm的波长下具有2.2的折射指数。
该层在400nm到约5μm的光谱范围内是透明的并且在这一范围中没有吸收。该层在潮湿-温暖气氛中是耐久的，并且具有良好的硬度和粘合强度。
实施例4Gd2O3、TiO2和Ti的混合物从83.45wt％的Gd2O3,13.79wt％的二氧化钛和2.76wt％的钛的均匀混合物生产片和随后在约1600℃下在1×10-1Pa的压力下减压锻烧10小时。
该片随后被引入到Leybold L560型的具有电子束蒸发器的蒸汽沉积设备中，并在约1800℃的温度和2×10-2Pa的氧气压力下蒸发。在位于该装置中的作为基材的石英玻璃上沉积薄层，它在汽相沉积之前已加热至约300℃。这一层的厚度被设定至约220nm。在冷却和从蒸发装置中取出之后，使用分光光度计测量有涂层的玻璃的透射和反射光谱。层的折射指数从该谱测定。获得均质层，它在500nm的波长下具有2.2的折射指数。
该层在400nm到约5μm的光谱范围内是透明的并且在这一范围中没有吸收。该层在潮湿-温暖气氛中是耐久的，并且具有良好的硬度和粘合强度。
权利要求
1.用于高折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料，它包括二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝。
2.根据权利要求1的蒸汽沉积材料，它包括二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝。
3.根据权利要求1或2的蒸汽沉积材料，它包括按照4∶1到1∶4的摩尔比率的二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝，其中在每一种情况下最后的数字涉及到氧化钆或氧化镝的摩尔比例或涉及氧化钆和氧化镝的摩尔比例的总和。
4.根据权利要求3的蒸汽沉积材料，它包括按照2.6∶1到1∶1.3的摩尔比率的二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝，其中在每一种情况下最后的数字涉及到氧化钆或氧化镝的摩尔比例或涉及氧化钆和氧化镝的摩尔比例的总和。
5.根据权利要求1到4中一项或多项的蒸汽沉积材料，它包括按照1∶99到99∶1的比率的氧化钆和氧化镝的混合物。
6.根据权利要求1到4中一项或多项的蒸汽沉积材料，它包括二氧化钛、钛以及氧化钆和/或氧化镝。
7.根据权利要求6的蒸汽沉积材料，它包括按照1∶99到99∶1的比率的氧化钆和氧化镝。
8.根据权利要求1到7中一项或多项的蒸汽沉积材料，它包括50-92重量份的氧化钆和/或氧化镝，7-42重量份的二氧化钛和0-8重量份的钛，基于混合物的总重量。
9.根据权利要求8的蒸汽沉积材料，它包括50-92重量份的氧化镝，7-42重量份的二氧化钛和0-8重量份的钛，基于混合物的总重量。
10.根据权利要求1到8中一项或多项的蒸汽沉积材料，它包括67-76重量份的氧化钆和/或氧化镝，15-27重量份的二氧化钛和2-5重量份的钛，基于混合物的总重量。
11.根据权利要求10的蒸汽沉积材料，它包括67-76重量份的氧化镝，15-27重量份的二氧化钛和2-5重量份的钛，基于混合物的总重量。
12.根据权利要求1到11中一项或多项的蒸汽沉积材料的制备方法，其中二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝混合，混合物被压缩或悬浮，成型和随后烧结。
13.根据权利要求12的方法，其中钛另外被加到混合物中。
14.根据权利要求12或13的方法，其中烧结是在有空气流入的情况下进行的。
15.根据权利要求12或13的方法，其中烧结是在减压下进行的。
16.根据权利要求12或13的方法，其中烧结是在惰性气体下进行的。
17.根据权利要求12或13的方法，其中混合物被成型为片，窗格形，丸，截头圆锥体，晶粒，微粒，棒条体或珠粒。
18.根据权利要求1到11中一项或多项的蒸汽沉积材料用于高折射指数的光学层的生产中的用途。
19.具有n≥2.0的折射指数的高折射指数光学层，它包括根据权利要求1到11中一项或多项的蒸汽沉积材料。
20.包括折射指数n≥2.0的高折射指数的至少一个光学层的多层光学系统，该光学层包括根据权利要求1到11中一项或多项的蒸汽沉积材料。
全文摘要
本发明涉及用于生产高折射指数的光学层的蒸发材料，该材料包括二氧化钛与氧化钆和/或氧化镝。本发明还涉及生产它的方法和它的用途。
文档编号C04B35/50GK1751136SQ200480004750
公开日2006年3月22日 申请日期2004年1月23日 优先权日2003年2月19日
发明者M·福里兹, R·多姆布罗斯克, U·安瑟斯 申请人:默克专利股份有限公司