有机led元件的散射层用玻璃以及使用该玻璃的有机led元件的制作方法

专利名称：有机led元件的散射层用玻璃以及使用该玻璃的有机led元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及有机LED元件的散射层用玻璃以及使用该玻璃的有机LED元件。
背景技术：
以往，已知为了提高有机LED元件的光提取效率而在有机LED元件内设置散射层的技术(例如，参考专利文献1)。专利文献1记载的散射层，在基材中分散有散射材料。作为基材，例示了不含碱金属的玻璃。另外，已知含有&0531203和&10，并且具有高折射率、低温软化性和低热膨胀率的光学玻璃(例如，参考专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1 国际公开第09/017035号小册子专利文献2 日本专利第4059695号公报

发明内容
但是，专利文献1的表12中记载的散射层用玻璃含有大量铅(I^b3O4)。因此，不能应对尽可能减少铅使用量的用户需求。另外，在专利文献2中，未记载作为有机LED元件的散射层用玻璃使用。此外，专利文献2中记载的玻璃，在以玻璃粉形式进行煅烧时，存在容易结晶化的问题。发生结晶化时，光透射率下降，并且损害玻璃表面的平滑性，因此有可能导致有机LED元件的电极间短路。另外，以下说明中，“结晶化”是指以玻璃粉形式进行煅烧时的结晶化。本发明鉴于上述问题而创立，其目的在于提供难以结晶化、并且能够应对尽可能减少铅使用量的用户需求的有机LED元件的散射层用玻璃、以及使用该玻璃的有机LED元件。为了解决上述目的，本发明的有机LED元件的散射层用玻璃，以氧化物为基准用摩尔％表示，含有O 20%的 P205、15 60%的化03、15 沘％的 Bi2O3 和 20 50%的 SiO，P2O5的含量除以ZnO的含量所得到的值小于0. 48，P2O5和化03的含量的合计量为30 60%，P2O5 ^P B2O3的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10%以下，并且除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅(PbO或Pb3O4)、Li2O, Na2O和 K2O。另外，本发明的另一种有机LED元件的散射层用玻璃，以氧化物为基准用摩尔％ 表不，
含有0 20%的 P205、15 60%的 B2O3UO 37%的 Bi203、5 50%的 ZnO,0 20% 的 Si02、0 10% 的 Al2O3、 5%的&02、0 10% 的 Gd203、0 15% 的 11 以及合计 0 10 % 的 MgO、CaO、SrO 禾口 BaO,P2O5的含量除以SiO的含量所得到的值小于0. 48，P2O5和化03的含量的合计量为30 60%，P2O5和化03的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10%以下，并且除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅(PbO或Pb3O4)、Li2O, Na2O和 K2O。另外，本发明的有机LED元件，其依次具有基板、散射层、第一电极、有机层和第二电极，其中，所述散射层含有基材以及分散在所述基材中并且具有与所述基材不同的折射率的一种以上的散射材料，所述基材包含玻璃，以氧化物为基准用摩尔％表示，所述玻璃含有0 20%的 P205、15 60%的B203、15 28%的Bi203、20 50%的ZnO5P2O5的含量除以ZnO的含量所得到的值小于0. 48，P2O5和B2O3的含量的合计量为30 60%，P2O5和B2O3的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10%以下，除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅 (PbO 或 Pb3O4)、Li2O, Na2O 和 K2O0另外，本发明的另一种有机LED元件，其依次具有基板、散射层、第一电极、有机层和第二电极，其中，所述散射层含有基材以及分散在所述基材中并且具有与所述基材不同的折射率的一种以上的散射材料，以氧化物为基准用摩尔％表示，所述基材含有0 20%的P2O5、15 60%的B2O3、 10 37% 的 Bi203、5 50% 的 &ι0、0 20% 的 SiO2、 10% 的 Al2O3、 5% 的 、 10%的Gd203、0 15%的TiO2以及合计0 10%的MgO、CaO、SrO禾口 BaO，P2O5的含量除以 ZnO的含量所得到的值小于0. 48，P2O5和B2O3的含量的合计量为30 60%, P2O5和B2O3的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10%以下，除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅(PbO 或 Pb3O4)、Li2O, Na2O 和 K2O0发明效果根据本发明，可以提供难以结晶化、并且能够应对尽可能减少铅使用量的用户需求的有机LED元件的散射层用玻璃、以及使用该玻璃的有机LED元件。


图1是表示本发明的有机LED元件的一例的剖视图。
具体实施例方式以下，参考附图对本发明的实施方式进行说明。另外，以下的实施方式是示例，在不脱离本发明的目的的范围内可以实施各种变形。图1是表示本发明的有机LED元件的一例的剖视图。图1所示的例子中，有机LED元件为底部发光型有机LED元件，依次具有基板110、散射层120、第一电极130、有机层140和第二电极150。第一电极130为透明电极(阳极)， 具有用于将从有机层140发射的光传递到散射层120的透明性。另一方面，第二电极150 为反射电极(阴极)，具有用于将从有机层140发射的光反射而使其返回到有机层140的反射性。另外，图1所示的例子中，将第一电极130设定为阳极、将第二电极150设定为阴极，但是，也可以将第一电极130设定为阴极、将第二电极150设定为阳极。(基板)基板110具有透光性。基板110(以下称为“透光性基板110”)由对可见光的透射率高的材料构成，例如，由玻璃或塑料构成。作为构成透光性基板110的玻璃，有含碱玻璃、无碱玻璃和石英玻璃等。一般而言，使用钠钙玻璃。一般的钠钙玻璃其50°C 300°C下的平均线性膨胀系数(以下也简称为“平均线性膨胀系数”)为约87X10_7°C，退火点为约550°C。由这样的钠钙玻璃构成的透光性基板110，在550°C以上的温度下热处理时有可能变形，因此优选在低于550°C的温度下形成散射层120等。透光性基板110由塑料基板构成时，塑料基板与玻璃基板相比耐湿性低，因此可以设计为具有阻挡性的构成。例如，透光性基板110可以设计为在塑料基板上的与散射层 120侧相反的一侧还形成有其它玻璃层的构成。透光性基板110的厚度通常为0. Imm 2. Omm0作为透光性基板110的玻璃基板薄的情况下有可能强度不充分。作为透光性基板110的玻璃基板的厚度特别优选为0. 5mm 1. Omm0在透光性基板110上形成有散射层120。作为透光性基板110的玻璃基板上的散射层形成面可以实施二氧化硅涂布等表面处理。即，在作为透光性基板110的玻璃基板与散射层120之间，可以形成二氧化硅膜等保护层。(第一电极)为了将由有机层140产生的光提取到外部，要求第一电极(阳极)130具有80%以上的透光性。另外，为了注入大量空穴，要求功函数高。具体而言，可以使用ITO(铟锡氧化物)、SnO2, ZnO, IZO (铟锌氧化物)、AZO (ZnO-Al2O3 掺铝的氧化锌)、GZO (ZnO-Ga2O3 掺镓的氧化锌)、掺Nb的TiO2、掺Ta的TW2等材料。第一电极130的厚度优选为IOOnm以上。低于IOOnm时，电阻变高。第一电极130的折射率通常为1. 9 2. 2。为了降低作为第一电极130的ITO的折射率，可以增加ITO的载流子浓度。具体而言，通过增加ITO的Sn浓度，可以降低ITO的折射率。但是，增加Sn浓度时，迁移率和透射率下降，因此需要考虑它们的平衡来确定Sn量。另外，不用说，第一电极130可以为单层也可以为多层。在第一电极130上形成有有机层140。(有机层)有机层140为具有发光功能的层，例如由空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层和电子注入层构成。为了降低从阳极注入空穴的势垒，要求空穴注入层的电离电位的差小。提高空穴注入层中从电极界面注入电荷的效率，可以在降低元件的驱动电压的同时提高电荷的注入效率。在高分子中，广泛使用掺杂聚苯乙烯磺酸(PSS)的聚亚乙基二氧基噻吩(PED0T: PSS)，在低分子中，广泛使用酞菁系的铜酞菁(CuPc)。空穴输送层起到将从空穴注入层注入的空穴输送到发光层的作用。需要具有适当的电离电位和空穴迁移率。空穴输送层具体地可以使用三苯胺衍生物、N，N’ -双(1-萘基)-N，N，- 二苯基-1，1，-联苯-4，4，-二胺(NPD)、N，N，- 二苯基-N，N，-双[N-苯基-N42-萘基)-4，-氨基联苯-4-基]_1，1，-联苯 _4，4，- 二胺(NPTE)、1，1，-双 [(二 -4-甲苯基氨基)苯基]环己烷(ΗΤΜ2)和N，N，- 二苯基-N，N，-双(3-甲基苯基)_1， 1，-联苯-4，4，_ 二胺(TPD)等。空穴输送层的厚度优选为IOnm 150nm。厚度越薄则越可以实现低电压化，但是，考虑到电极间短路的问题，特别优选IOnm 150nm。发光层提供所注入的电子与空穴再结合的场所，并且使用发光效率高的材料。详细地来说明，发光层中使用的发光基质材料和发光色素掺杂材料，作为从阳极和阴极注入的空穴和电子的再结合中心起作用，另外，发光层中发光色素向基质材料中的掺杂，在得到高发光效率的同时使发光波长发生转换。要求这些材料具有用于注入电荷的适当能级、化学稳定性和耐热性优良、并且形成均质的非晶薄膜等。另外，要求发光色的种类和色纯度优良、发光效率高。作为有机材料的发光材料中，有低分子系和高分子系材料。并且，根据发光机理，分为荧光材料、磷光材料。发光层具体而言可以列举三(8-羟基喹啉)铝络合物 (ΑΙ。、双(8-羟基)喹哪啶铝苯氧化物(Alq’20Ph)、双(8-羟基)喹哪啶铝_2，5_ 二甲基苯氧化物(BAlq)、单(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮)锂络合物(Liq)、单(8_羟基喹啉) 钠络合物(Naq)、单(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮)锂络合物、单(2，2，6，6_四甲基_3， 5-庚二酮)钠络合物和双(8-羟基喹啉)钙络合物(Caq2)等喹啉衍生物的金属络合物、四苯基丁二烯、苯基喹吖酮(QD)、蒽、茈和蔻等荧光性物质。作为基质材料，优选羟基喹啉络合物，特别优选以8-羟基喹啉及其衍生物为配体的铝络合物。电子输送层起到输送从电极注入的电子的作用。电子输送层具体而言可以使用羟基喹啉铝络合物(Alq3) J恶二唑衍生物(例如，2，5_双(1-萘基)-l，3，4-H恶二唑(BND)和 2-(4-叔丁基苯基)-5-(4-联苯基)-1，3，4-卩恶二唑(PBD)等)、三唑衍生物、红菲绕啉衍生物、噻咯(Silole)衍生物等。电子注入层要求提高电子的注入效率的材料。电子注入层具体而言是在阴极界面上设置掺杂有锂(Li)、铯(Cs)等碱金属的层。有机层140的折射率通常为1. 7 1. 8。在有机层140上形成有第二电极150。(第二电极)第二电极(阴极)150要求具有反射性，因此使用功函数小的金属或其合金。第二电极150具体地可以列举碱金属、碱土金属及周期表第3族的金属等。其中，考虑价格便宜且化学稳定性好的材料，优选使用铝(Al)、镁(Mg)、银(Ag)或它们的合金等。另外，可以使用在Al、MgAg的共蒸镀膜、LiF或Li2O的薄膜蒸镀膜上蒸镀Al而得到的层叠电极等。另外，在高分子系中，可以使用钙(Ca)或钡(Ba)与铝(Al)的层叠等。(散射层)散射层120设置在透光性基板110与第一电极130之间。
在不夹设散射层120而在透光性基板110上形成第一电极130的情况下，一般而言透光性基板Iio的折射率比第一电极130的折射率低，因此欲以浅角度进入到透光性基板110的光根据斯涅尔定律被全反射到有机层140侧。全反射的光在作为第二电极150的反射电极上被再次反射，并再次到达透光性基板110。此时，向透光性基板110的再入射角度不变，因此不能将光提取到有机LED元件的外部。与此相对，本实施方式中，在透光性基板110与第一电极130之间设置有散射层 120，因此可以改变向透光性基板110的再入射角度，可以提高有机LED元件的光提取效率。散射层120，如图1所示，是在基材121中分散有具有与基材121不同的折射率的一种以上的散射材料122的层。基材121的折射率优选与第一电极130的折射率同等或更高。这是因为基材121 的折射率低的情况下，在散射层120与第一电极130的界面处，产生由全反射引起的损失， 因此光提取效率下降。基材121的折射率只要至少在有机层140的发光光谱范围的一部分 (例如，红、蓝、绿等)超过即可，但是，优选在发光光谱的全范围G30nm 650nm)超过，更优选在可见光的全波长范围(360nm 830nm)超过。另外，下文中，如果没有特别说明，“折射率”是指以He灯d线(波长587. 6nm)在25°C测定的折射率。基材121与散射材料122的折射率之差，优选至少在发光层的发光光谱的范围的一部分中为0. 05以上。为了得到充分的散射特性，折射率之差更优选在发光光谱的全范围 (430nm 650nmm)或在可见光的全波长范围(360nm 830nm)为0. 05以上。散射材料122在散射层120中所占的比例优选为1 85体积％。这是因为低于 1体积％时，得不到充分的散射效果，光提取效率的提高效果也小。更优选20体积％以上。 另一方面，比85体积％过多时，有可能光提取效率下降。更优选80体积％以下。进一步优选30体积％以下。在此，在散射层120中分散有多种散射材料的情况下，散射材料122在散射层120 中所占的比例是指全部散射材料的比例的合计。散射材料122的形状没有特别限制，在散射材料122为球形的情况下，其直径的平均值优选为0. Ιμπι ΙΟμπι。小于0. Ιμπι时，不能充分地作为光散射材料起作用。另一方面，超过10 μ m时，难以均勻地存在于整个散射层120中，从而产生光提取效率的不均勻。 另外，在散射材料122数量相对少的部分，散射性下降。另外，得不到涂布煅烧膜的表面平滑性。散射材料122中，更优选最大长度为ΙΟμπι以上的材料的比例为15体积％以下。进一步优选10体积％以下。在散射层120上形成有第一电极130。散射层120上的第一电极形成面的表面粗糙度Ra优选为30nm以下，更优选为IOnm以下，特别优选为Inm以下。超过30nm时，有可能损害第一电极130或有机层140的平滑性，在第一电极130和第二电极150之间产生短络。在此，表面粗糙度Ra是指显微观察的表面粗糙度，是将JIS B 0601-2001规定的轮廓曲线滤波器的长波长截止值λ c设定为ΙΟμπι时的值，例如利用原子力显微镜(AFM)等测定。为了提高平坦性，散射层120上的第一电极形成面可以实施涂布。(散射层的散射材料)作为散射材料122，可以使用气泡、具有与基材121不同的折射率的材料的粒子。在此，粒子是指固体的小物质，例如，有玻璃、以及陶瓷。另外，气泡是指空气或者气态的物体。另外，散射材料122为气泡的情况下，散射材料122的直径是指空隙的长度。(散射层的基材)作为基材121，使用玻璃。基材121由玻璃构成，因此可以在提高散射层120的散射特性的同时保持散射层120的表面平滑性和透明性。用于基材121的玻璃(以下也称为“基材玻璃”)，以氧化物为基准用摩尔％表示含有 0 20% 的 P205、15 60% 的 B2O3UO 37 % 的 Bi203、5 50% 的 Ζη0、0 20 % 的 SiO2、 10% 的 Al2O3、 5% 的 ZrO2、 10% 的 Gd2O3、 15% 的 11 以及合计 0 10%的MgO,CaO, SrO和BaO, P2O5的含量除以ZnO的含量所得到的值小于0. 48，P2O5和B2O3 的含量的合计量为30 60% ,P2O5和化03的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10% 以下，并且除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅(PbO或此304)、Li20、Na2O和 K2O。以下，对该基材玻璃的玻璃组成进行说明。另外，单位“ ％，，是指摩尔％。Bi2O3是提高折射率、降低粘性的成分，含量低于10%时，散射层120的折射率过度降低。另一方面，Bi2O3含量超过37%时，平均线性膨胀系数过度变大，并且在煅烧工序中容易结晶化。Bi2O3含量优选为15 观％。化03是成为玻璃的骨架的成分，含量低于15%时，在玻璃成形时容易失透，在制成玻璃粉后的煅烧时容易结晶化。B2O3含量超过60%时，防水性下降。ZnO是稳定玻璃的成分，含量低于5%时，在玻璃成形时容易失透，并且玻璃化转变点升高，得不到玻璃粉煅烧膜的平滑性。另外，折射率下降，因此不优选。ZnO含量超过 50%时，平均线性膨胀系数增大，并且在玻璃成形时容易失透。有可能耐候性下降。ZnO含量优选为20% 50%。SiO2是提高玻璃的稳定性并且减小平均线性膨胀系数的可选成分。S^2含量优选为0 20%。超过20%时，有可能折射率过度下降。Al2O3是提高玻璃的稳定性的可选成分。Al2O3的含量优选为0 10%。超过10% 时，有可能液相温度上升，发生失透。P2O5为成为玻璃的骨架的成分，是提高耐酸性的可选成分。P2O5含量优选为0 20%。超过20%时，有可能在玻璃成形时容易失透，在制成玻璃粉后的煅烧时容易结晶化。 另外，折射率下降。P2O5的含量为0%时，特别地可以抑制结晶化，可以在更广泛的温度范围中在不伴随结晶化的情况下进行玻璃粉的煅烧，因此优选。另外，期待耐酸性提高效果的情况下，更优选含有2%以上，进一步优选含有5%以上。ZrO2是提高玻璃的耐候性的可选成分。^O2的含量优选为0 5%。超过5%时， 有可能容易结晶化并且玻璃化转变点过度升高。Gd2O3是在压低平均线性膨胀系数的同时提高折射率、并且抑制软化点附近的结晶化的可选成分。Gd2O3的含量优选为0 10%。超过10%时，有可能容易结晶化，玻璃化转变点和软化点上升。特别地，在想同时实现低膨胀和高折射率时，更优选含有2%以上。TiO2并非必要成分，是提高折射率的成分，可以含有15%以下。但是，过量含有时， 有可能容易结晶化，玻璃化转变点和软化点上升。另外，也可以使用WO3代替TiO2(或者同时添加)。TiA和WO3的含量的合计量更优选为0 12%。
碱土金属氧化物(Mg0、Ca0、Sr0和BaO)是降低玻璃的粘性的可选成分。碱土金属氧化物的含量优选为0 10%。超过10%时，有可能平均线性膨胀系数增大，折射率下降。 碱土金属氧化物的含量更优选为7%以下。Li20、Na20*K20实质上不含有。含有这些碱金属氧化物时，有可能在热处理工序中该碱性成分产生扩散。而且，该碱性成分有时对元件产生电气方面的不利影响。在此，“实质上不含有”是指除了以杂质形式含有的情况以外，不主动地含有的情况。PbO和Pb3O4实质上不含有。P2O5的含量除以SiO的含量所得到的值小于0.48。为0. 48以上时，有可能容易失透，容易结晶化。另外，为0.48以上时，有可能折射率下降，玻璃化转变点和软化点上升。P2O5和化03的含量的合计量为30 60%。低于30%时，有可能容易失透，容易结晶化，损害稳定性。另一方面，超过60%时，有可能容易失透，容易结晶化，折射率下降。在此，P2O5和化03的含量的合计量超过50%时，P2O5的含量为10%以下。超过10%时，容易失透，容易结晶化。在不丧失发明效果的范围内，基材玻璃中除了上述成分以外还可以含有例如 GeO2, Nb2O5, Y2O3> Ce2O3> CeO2, La203> TeO2, SnO、SnO2, Sb2O3> Ta2O5 等。但是，优选它们的合计为5%以下。另外，为了调节色调，可以含有微量的着色剂。作为着色剂，可以使用过渡金属氧化物、稀土金属氧化物、金属胶体等公知的着色剂。这些着色剂可以单独使用或者组合使用。以下，对该基材玻璃的特性进行说明。基材玻璃的折射率nd优选为1. 75以上，更优选为1. 80以上，特别优选为1. 85以上。低于1. 75时，在散射层120与第一电极130的界面处，全反射引起的损失大，光提取效率容易下降。基材玻璃的玻璃软化点Ts优选为600°C以下，更优选为595°C以下，特别优选为 590°C以下。在透光性基板110由钠钙玻璃构成的情况下，为了抑制透光性基板110的热变形， 基材玻璃的玻璃化转变点Tg优选为500°C以下，更优选为495°C以下，特别优选为485°C以下。从抑制结晶化的观点考虑，基材玻璃的结晶化峰值温度Tc优选为600°C以上，更优选为650°C以上，特别优选为700°C以上。从抑制结晶化的观点考虑，基材玻璃的结晶化峰值温度Tc与玻璃软化温度Ts之差(Tc-Ts)优选为55°C以上，更优选为70°C以上，特别优选为90°C以上。在透光性基板110由钠钙玻璃构成的情况下，为了防止钠钙玻璃的破损或翘曲，基材玻璃的50 300°C下的平均线性膨胀系数α优选为60X10_7°C以上，更优选为65X10_7°C以上。另外，基材玻璃的50 300°C下的平均线性膨胀系数α优选为 100 X 10_7°c以下，更优选为90 X 10_7°c以下。该基材玻璃，可以通过称量氧化物、磷酸盐、偏磷酸盐、碳酸盐、硝酸盐、氢氧化物等原料，将它们混合后使用钼等制成的坩锅在900 1400°C的温度下熔融并冷却来得到。 然后，根据需要有时进行退火以除去应变。将所得到的基材玻璃用研钵、球磨机、喷射式粉碎机等粉碎，并根据需要进行分级，由此可以得到基材玻璃的粉末。可以将基材玻璃的粉末的表面用表面活性剂或硅烷偶联剂进行改性后使用。(散射层的制造方法)散射层120可以通过将玻璃粉涂布到透光性基板110上并煅烧来制造。(1)玻璃粉玻璃粉是含有上述基材玻璃的粉末的物质。从涂布性的观点考虑，基材玻璃的粉末的粒径优选为1 10 μ m。基材玻璃的粉末的表面可以利用表面活性剂或硅烷偶联剂进行改性。玻璃粉中除了基材玻璃的粉末以外，还可以含有具有比基材玻璃低的折射率的玻璃的粉末作为散射材料122。从涂布性的观点考虑，优选将玻璃粉以与树脂或溶剂等捏合而得到的玻璃粉浆料的形式涂布到透光性基板110上。(2)玻璃粉浆料玻璃粉浆料可以通过用行星式混合机等将玻璃粉与载体(Ε t々 > )混合，并用三辊磨机(3本α — > )等使其均勻地分散来得到。为了调节粘度，可以进一步使用捏合机进行捏合。通常，玻璃粉以70 80质量％、载体以20 30质量％的比例混合。在此，所谓载体是指混合有树脂、溶剂的物质，可以还混合有表面活性剂。具体而言，通过将树脂、表面活性剂等投入到加热到50 80°C的溶剂中，然后静置约4小时 约 12小时，然后过滤来得到。树脂是用于保持涂布后的玻璃粉浆料膜的形状的物质。作为具体例子，可以使用乙基纤维素、硝基纤维素、丙烯酸类树脂、乙酸乙烯酯、缩丁醛树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、松香树脂等。作为主剂使用的有乙基纤维素和硝基纤维素。另外，缩丁醛树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、松香树脂作为用于提高涂膜强度的添加剂使用。煅烧时的脱粘合剂温度对于乙基纤维素而言为350 400°C，对于硝基纤维素而言为200 300°C。溶剂是用于溶解树脂并且调节玻璃粉浆料的粘度的物质。溶剂优选在涂布过程中不干燥，而在干燥过程中迅速干燥的溶剂，优选使用沸点200°C 230°C的溶剂。作为具体例子，有醚类溶剂(丁基卡必醇(BC)、丁基卡必醇乙酸酯(BCA)、二乙二醇二正丁醚、二丙二醇丁醚、三丙二醇丁醚、丁基溶纤剂乙酸酯)、醇类溶剂(α -松油醇、松油、^ 7 7 —;)、酯类溶剂(2，2，4_三甲基-1，3-戊二醇单异丁酸酯)、邻苯二甲酸酯类溶剂(DBP (邻苯二甲酸二丁酯)、DMP(邻苯二甲酸二甲酯)、D0P(邻苯二甲酸二辛酯))。这些溶剂可以单独使用， 为了调节粘度、固体成分比、干燥速度，也可以组合使用。主要使用的溶剂有α-松油醇、2， 2，4-三甲基-1，3-戊二醇单异丁酸酯。另外，DBP (邻苯二甲酸二丁酯)、DMP (邻苯二甲酸二甲酯)、DOP (邻苯二甲酸二辛酯)也作为增塑剂起使用。(3)涂布作为将玻璃粉浆料涂布到透光性基板110上的方法，可以使用丝网印刷、刮刀印刷、缝模印刷等。另外，可以将玻璃粉浆料涂布到PET薄膜等上然后干燥而得到生片，并将生片热压接到透光性基板110上。使用丝网印刷时，可以通过调节网板的网眼大小、乳剂的厚度、印刷时的挤出压力、刮板压入量等来控制涂布后的玻璃粉浆料膜的膜厚。
使用刮刀印刷、缝模印刷时，与使用丝网印刷的情况相比，可以增加涂布后的玻璃粉浆料膜的膜厚。另外，也可以通过重复进行涂布、干燥来使玻璃粉浆料膜变厚。(4)煅烧对涂布到透光性基板110上的玻璃粉浆料进行煅烧。煅烧包括使玻璃粉浆料中的树脂分解、消失的脱粘合剂处理、和将该脱粘合剂处理后的玻璃粉浆料烧结、软化的煅烧处理。脱粘合剂温度对于乙基纤维素而言为350 400°C，对于硝基纤维素而言为200 300°C，在大气气氛中加热30分钟 1小时。煅烧温度(煅烧处理温度)，以基材玻璃的玻璃软化点Ts为基准设定在-40°C +30°C的范围内，或者以基材玻璃的玻璃化转变点Tg为基准设定在+50°C +120°C的范围内。煅烧后，冷却到室温，由此在透光性基板110上形成散射层120。通过调节煅烧温度、煅烧气氛、玻璃粉的粒度分布等，可以调节残留在散射层120 的内部的气泡的形状、大小。另外，作为散射材料122，使用具有与基材121不同的折射率的材料的粒子代替气泡(或者与气泡同时使用)时，将该材料粒子混合到玻璃粉中后涂布到透光性基板110上并进行煅烧。实施例以下，通过实施例具体地说明本发明，但是，本发明不受以下实施例的限制。(实验1)关于例1 例 44，将 H3BO3> ZnO, Bi203、TiO2, WO3> Zn (PO3)2、Li2C03、Na2C03> K2CO3> MgO, CaCO3> SrCO3> BaCO3> ZrO2,Gd2O3> SiO2,A1203 的各粉末原料合计称量 200g 以得到表 1 表6中的组成的玻璃，将其混合后，使用钼坩锅，对于例1 例25在1050°C、对于例沈 例44在1250°C熔融1小时，接着对于例1 例25在950°C、对于例沈 例44在1100°C熔融1小时，将该熔融液的一半量注入到碳铸模中得到块状的玻璃，将其余的熔融液注入双辊的间隙进行骤冷而得到薄片状的玻璃。另外，将块状玻璃放入500°C的电炉中，以每1小时100°C的速度将温度降至室温，由此除去应变。在此，例1 例22和例26 例44为实施例，例23 例25为比较例。对于所得到的玻璃，通过以下的测定法测定玻璃块制作时有无失透、玻璃薄片制作时有无失透、玻璃粉煅烧时有无结晶化、折射率nd、玻璃化转变点Tg(单位V )、50 300°C下的平均线性膨胀系数α (单位10_7°C )、玻璃软化点Ts (单位V )、结晶化峰值温度Tc (单位V )、结晶化峰值温度的峰高(单位μ V)。1.玻璃块制作时的失透将玻璃注入到碳模中，在直到固化为止的期间，肉眼不能确认到玻璃内部的结晶析出或分相的情况评价为〇，可以确认到局部的结晶析出或分相的情况评价为Δ，整体产生结晶析出或分相的情况评价为X。2.玻璃薄片制作时的失透将玻璃注入到双辊的间隙进行骤冷、固化后，肉眼不能确认到玻璃内部的结晶析出或分相的情况评价为〇，可以确认到局部的结晶析出或分相的情况评价为X。3.折射率(nd)
将块状玻璃研磨后，使用力^二 ^ 一公司制造的精密折射率计KPR-2000通过V型块法以测定波长587. 6nm在25°C进行测定。4.玻璃化转变点Tg (单位°C )将块状玻璃加工为直径5mm、长200mm的圆棒后，使用H V力一*工λ工”卞 ^ ^公司制造的热膨胀计TD5000SA，以5°C /分钟的升温速度进行测定。5. 50 300°C下的平均线性膨胀系数(α 50_300)将玻璃加工为直径5_、长200_的圆棒后，使用力一 工4工7夕7工7 公司制造的热膨胀计TD5000SA，以5°C /分钟的升温速度进行测定。设50°C下的玻璃棒的长度为L5(1、300°C下的玻璃棒的长度为L3tltl时，50 300°C下的平均线性膨胀系数(α 5(1_3J 通过 α = {(L300/L50)-11/(300-50)来求出。6.玻璃软化点(Ts)用玛瑙研钵将薄片状玻璃粉碎后，筛分出粒径74μπι 106 μ m的玻璃粉末，将 120mg该粉末放入钼盘中，使用工大了 4 了4·于乂子夕乂口夕一公司制造的热TG/DTA EXSTAR6000将升温速度调节为10°C /分钟进行测定，将在比玻璃化转变点Tg高温的一侧出现的伴随软化流动的DTA曲线的弯曲点处的温度作为玻璃软化点Ts。7.结晶化峰值温度Tc (单位°C )用玛瑙研钵将薄片状玻璃粉碎后，筛分出粒径74μπι 106 μ m的玻璃粉末，将 120mg该粉末放入钼盘中，使用工大了 4 了4·于乂子夕乂口夕一公司制造的热TG/DTA EXSTAR6000将升温速度调节为10°C /分钟进行测定，将伴随结晶化的DTA曲线的放热峰的温度作为Tc。没有结晶化峰或者结晶化峰非常低而不能检测时，记作“_”。8.结晶化峰值温度的峰高(单位μ V)用玛瑙研钵将薄片状玻璃粉碎后，筛分出粒径74μπι 106 μ m的玻璃粉末，将 120mg该粉末放入钼盘中，使用工大了 4 了4·于乂子夕乂口夕一公司制造的热TG/DTA EXSTAR6000将升温速度调节为10°C /分钟进行测定，读取伴随结晶化的DTA曲线的放热峰的高度。没有结晶化峰或者结晶化峰非常低而不能检测时，记作“_”。9.玻璃粉煅烧时的结晶化用玛瑙研钵将薄片状玻璃粉碎后，筛分出粒径74μπι 106 μ m的玻璃粉末，将 120mg该粉末放入钼盘中，用电炉加热以升温速度10°C /分钟从室温升温到600°C时，将肉眼不能确认到玻璃内部的结晶析出的情况评价为〇，将结晶析出变得不透明的情况评价为X。结果如表1 表6所示。另外，由于失透而不能制作用于测定物性值的试样时，记作 “N/A”。表1
例1例2例3例4例5例6例7P2O5 (摩尔 ％ )17. 017. 718115. 97. 411. 412. 2B2O3 (摩尔 ％ )16. 216. 917. 321. 925. 820. 230. 权利要求
1.一种有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 以氧化物为基准用摩尔％表示，含有0 20%的P205、15 60%的化03、15 沘％的Bi2O3和20 50%的SiO, P2O5的含量除以ZnO的含量所得到的值小于0. 48， P2O5和化03的含量的合计量为30 60%，P2O5和化03的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10%以下，并且除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅(PbO或Pb3O4)、Li2O, Na2O和K20。
2.如权利要求1所述的有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 以氧化物为基准用摩尔％表示，TiO2和WO3的含量的合计量为0 12%，&02的含量为0 5%，并且MgO、CaO、SrO和BaO的含量的合计量为0 10%。
3.如权利要求1或2所述的有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 以He灯d线(波长587. 6nm)在25°C测定的折射率为1. 85以上。
4.如权利要求1至3中任一项所述的有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 50°C 300°C下的平均线性膨胀系数为60X10-7 100X1(T7°C。
5.如权利要求1至4中任一项所述的有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 以氧化物为基准用摩尔％表示，P2O5的含量为5 20%。
6.如权利要求1至4中任一项所述的有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有P205。
7.一种有机LED元件，其依次具有基板、散射层、第一电极、有机层和第二电极，其中， 所述散射层含有基材以及分散在所述基材中并且具有与所述基材不同的折射率的一种以上的散射材料，所述基材包含玻璃，以氧化物为基准用摩尔％表示，所述玻璃含有0 20 %的P205、 15 60%的B203、15 28%的Bi203、20 50%的ZnO5P2O5的含量除以ZnO的含量所得到的值小于0. 48，P2O5和B2O3的含量的合计量为30 60%，P2O5和B2O3的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10%以下，并且除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅 (PbO 或 Pb3O4)、Li2O, Na2O 和 K2O0
8.一种有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 以氧化物为基准用摩尔％表示，含有 0 20%的 P205、15 60%的化03、10 37%的 Bi203、5 50%的 Ζη0、0 20% 的Si02、0 10%的A1203、0 5%的&02、0 10%的Gd203、0 15%的TiA以及合计 10 % 的 MgO、CaO、SrO 禾口 BaO，P2O5的含量除以ZnO的含量所得到的值小于0. 48， P2O5和化03的含量的合计量为30 60%，P2O5和化03的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10%以下，并且除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅(PbO或Pb3O4)、Li2O, Na2O和K20。
9.如权利要求8所述的有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 以氧化物为基准用摩尔％表示，P2O5的含量为2 20%。
10.如权利要求8或9所述的有机LED元件的散射层用玻璃，其中， 以氧化物为基准用摩尔％表示，Gd2O3的含量为2 10%。
11.一种有机LED元件，其依次具有基板、散射层、第一电极、有机层和第二电极，其中， 所述散射层含有基材以及分散在所述基材中并且具有与所述基材不同的折射率的一种以上的散射材料，以氧化物为基准用摩尔％表示，所述基材含有0 20 %的P2O5、15 60 %的B2O3、10 37% 的 Bi203、5 50% 的 Ζη0、0 20% 的 SiO2、 10% 的 A1203、0 5% 的 Zr02、0 10% 的Gd203、0 15%的TiO2以及合计0 10%的MgO, CaO, SrO和BaO, P2O5的含量除以ZnO 的含量所得到的值小于0. 48,P2O5和化03的含量的合计量为30 60%，P205和化03的含量的合计量超过50%时P2O5的含量为10%以下，并且除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅(PbO 或 Pb3O4)、Li2O, Na2O 和 K2O0
全文摘要
本发明涉及有机LED元件的散射层用玻璃，其中，以氧化物为基准用摩尔％表示，所述有机LED元件的散射层用玻璃含有0～20％的P2O5、15～60％的B2O3、15～28％的Bi2O3和20～50％的ZnO，P2O5的含量除以ZnO的含量所得到的值小于0.48，P2O5和B2O3的含量的合计量为30～60％，P2O5和B2O3的含量的合计量超过50％时P2O5的含量为10％以下，除了以杂质形式含有的情况以外，实质上不含有铅(PbO或Pb3O4)、Li2O、Na2O和K2O。
文档编号C03C3/21GK102574727SQ20108004637
公开日2012年7月11日 申请日期2010年10月13日 优先权日2009年10月15日
发明者中村伸宏, 和田直哉 申请人:旭硝子株式会社