专利名称：玻璃基板的涂布设备的制作方法
技术领域：
玻璃基板的涂布设备
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种玻璃基板的涂布设备。背景技术：
现有技术的玻璃基板的涂布机中，一般为双喷嘴结构，请参阅图1，包括左喷嘴11 和右喷嘴12，左喷嘴11和右喷嘴12分别位于涂布机的两侧，左喷嘴11对应左滚轴13，右喷嘴12对应右滚轴14。在对玻璃基板进行涂布时，为了满足涂布过程各参数的要求，各喷嘴需首先到各自对应的滚轴处进行预喷。由于需要在涂布机的两侧分别安装滚轴，使得涂布机的成本提高，占用空间增大。 而且，为满足涂布过程各参数的要求，滚轴需长时间的漂洗浸泡以及滚动，无形中造成资源的浪费。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种玻璃基板的涂布设备，以解决现有技术中由于涂布机两侧均需安装滚轴，造成成本提高，占用空间增大，以及资源浪费的技术问题。为解决上述问题，本实用新型构造了一种玻璃基板的涂布设备，包括设备主体，所述设备主体上设置有用于放置玻璃基板的移动基台，所述设备还包括一滚轴，以及用于沿预设轨迹移动至所述滚轴处进行预喷的第一喷嘴；所述第一喷嘴与所述滚轴分别位于所述设备主体的两侧。在本实用新型的玻璃基板的涂布设备中，所述第一喷嘴设置于预设位置处，所述预设位置与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。在本实用新型的玻璃基板的涂布设备中，所述移动基台包括有涂布开始区和涂布结束区，其中，相对于所述设备主体的中轴线，所述涂布开始区靠近所述滚轴，所述涂布结束区靠近所述预设位置。在本实用新型的玻璃基板的涂布设备中，所述设备还包括用于移动至所述滚轴处进行预喷的第二喷嘴，所述第二喷嘴与所述滚轴设置于所述设备主体的同侧。在本实用新型的玻璃基板的涂布设备中，所述设备还包括用于固定所述移动基台的定位器，所述定位器设置在所述设备主体上。在本实用新型的玻璃基板的涂布设备中，所述设备还包括用于保持或者关闭设备主体内的真空状态的真空管，所述真空管连接所述设备主体。本实用新型相对于现有技术，解决了现有技术中由于涂布机两侧均需安装滚轴， 造成成本提高，占用空间增大的技术问题，极大地节省了资源。为让本实用新型的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下
图1为现有技术中涂布机的结构图；图2为本实用新型中玻璃基板的涂布设备的较佳实施例的结构图；图3为基于图2中玻璃基板的涂布设备的涂布过程示意图之一；图4为基于图2中玻璃基板的涂布设备的涂布过程示意图之二 ；图5为基于图2中玻璃基板的涂布设备的涂布过程示意图之三；图6为基于图2中玻璃基板的涂布设备的涂布过程示意图之四；图7为基于图2中玻璃基板的涂布设备的涂布流程示意图。
具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本实用新型可用以实施的特定实施例。图2为本实用新型中玻璃基板的涂布设备的较佳实施例的结构图。请参阅图2，所述设备包括设备主体21，还包括第一喷嘴22和第二喷嘴23，其中， 第一喷嘴22和第二喷嘴23分别位于设备主体21的两侧。请参阅图2，所述设备还包括滚轴对，滚轴M与第一喷嘴22分别位于设备主体21 的两侧，滚轴M与第二喷嘴23位于设备主体21的同侧。请参阅图2，设备主体21上设置有移动基台25，移动基台25用于放置待涂布的玻璃基板。在具体实施过程中，移动基台25沿预设方向B移动，预设方向B垂直于设备主体 21的水平面。在本实施例中，相对于设备主体21的水平面，移动基台25沿预设方向B移动预设距离D1，以便于将待涂布的玻璃基板放置在移动基台25上。在具体实施过程中，在将待涂布的玻璃基板放置在移动基台25上以后，移动基台 25沿与预设方向B相反的方向返回至初始位置，与此同时，第一喷嘴22沿预设轨迹L移动至滚轴M处。其中，预设轨迹L与设备主体21的水平面的距离D2大于预设距离D1，以保证第一喷嘴22在沿预设轨迹L移动过程中不会受到移动基台25的阻碍。在具体实施过程中，在未进入预设轨迹L前，第一喷嘴22位于预设位置Ml处。其中，预设位置Ml与设备主体21的水平面的距离D3大于预设距离Dl，以保证第一喷嘴22从预设位置Ml移动到预设轨迹L时，不会受到移动基台25的阻碍。请参阅图2，所述移动基台25包括有涂布开始区M2和涂布结束区M3，相对于设备主体21的中轴线N，涂布开始区M2靠近滚轴24，以保证第一喷嘴22在滚轴M处进行预喷后，可就近对移动基台25的玻璃基板进行涂布；相对于设备主体21的中轴线N，涂布结束区M3靠近预设位置Ml，以保证第一喷嘴22在对玻璃基板涂布完成后，可就近返回至预设位置Ml。请参阅图2，所述设备还包括定位器沈以及真空管27，定位器沈用于固定移动基台25，真空管27用于保持或者关闭设备主体21内的真空状态。图2所示的玻璃基板的涂布设备的工作原理为请参阅图3，在有需要涂布的玻璃基板时，第一喷嘴22位于预设位置Ml处，定位器 26打开，移动基台25沿预设方向B移动预设距离D1，将待涂布的玻璃基板放置在移动基台 25上，同时将真空管27打开。[0033]之后，请参阅图4，移动基台25沿与预设方向B相反的方向返回至起始位置，定位器沈关闭。其中，在移动基台25返回的过程中，第一喷嘴22从预设位置Ml处进入预设轨迹L，沿预设轨迹L移动至滚轴M处进行预喷。请参阅图5，在完成预喷后，第一喷嘴22进入移动基台25的涂布开始区M2。此时， 定位器沈打开，真空管27关闭，第一喷嘴22开始对移动基台25的玻璃基板进行涂布。在对玻璃基板完成涂布后，请参阅图6，第一喷嘴22位于移动基台25的涂布结束区M3。此时，打开真空管27，将第一喷嘴22提升至预设轨迹L上，并控制第一喷嘴22沿预设轨迹L返回至预设位置Ml。最后，移动基台25沿预设方向B移动预设距离D1，将已涂布完成的玻璃基板取走。在具体实施过程中，在第一喷嘴22沿预设轨迹L移动前，或者在第一喷嘴22完成对玻璃基板的涂布后，第二喷嘴23还可以移动至滚轴M处进行预喷，此处不再详述。本实用新型中玻璃基板的涂布设备具有以下有益效果1)，由于减少了滚轴的数量，因此降低了设备制造成本；2)，由于减少了滚轴的数量，因此缩短了涂布设备的长度，进而减少了设备的占用空间；3)，由于减少了滚轴的数量，因而节省了漂洗浸泡液，减少滚动时间，节省了资源。图7为基于图2中玻璃基板的涂布设备的涂布的流程图。在步骤S701中，将第一喷嘴设置于预设位置处。在步骤S702中，控制移动基台沿预设方向，且相对设备主体的水平面移动预设距
1 O其中，预设方向垂直于设备主体的水平面，预设位置与设备主体的水平面的距离大于预设距离。在步骤S703中，将玻璃基板放置在移动基台上，控制移动基台沿与预设方向相反的方向返回至初始位置。在步骤S704中，控制第一喷嘴从第一喷嘴所在的一侧沿预设轨迹移动至滚轴处。其中，预设轨迹与设备主体的水平面的距离大于预设距离。滚轴与第一喷嘴分别位于涂布设备主体的两侧，移动基台设置在设备主体上。在步骤S705中，控制第一喷嘴进行预喷，并开始对玻璃基板进行涂布。在步骤S706中，在第一喷嘴完成对玻璃基板的涂布后，控制第一喷嘴从涂布结束区返回到预设轨迹上，并沿预设轨迹返回至预设位置。在具体实施过程中，移动基台包括有涂布开始区和涂布结束区，相对于设备主体的中轴线，涂布开始区靠近滚轴，涂布结束区靠近预设位置。第一喷嘴从涂布开始区对移动基台的玻璃基板进行涂布，在对玻璃基板涂布完成后，第一喷嘴位于涂布结束区。在具体实施过程中，所述设备还包括第二喷嘴，第二喷嘴与滚轴设置于设备主体的同侧。在第一喷嘴沿预设轨迹移动前，或者在第一喷嘴完成对玻璃基板的涂布后，第二喷嘴移动至滚轴处进行预喷。综上所述，虽然本实用新型已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本实用新型，本领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本实用新型的保护范围以权利要求界定的范围为准。
权利要求1.一种玻璃基板的涂布设备，包括设备主体，所述设备主体上设置有用于放置玻璃基板的移动基台，其特征在于，所述设备还包括一滚轴，以及用于沿预设轨迹移动至所述滚轴处进行预喷的第一喷嘴；所述第一喷嘴与所述滚轴分别位于所述设备主体的两侧。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的涂布设备，其特征在于所述第一喷嘴设置于预设位置处，所述预设位置与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板的涂布设备，其特征在于，所述移动基台包括有涂布开始区和涂布结束区，其中，相对于所述设备主体的中轴线， 所述涂布开始区靠近所述滚轴，所述涂布结束区靠近所述预设位置。
4.根据权利要求1所述的玻璃基板的涂布设备，其特征在于，所述设备还包括用于移动至所述滚轴处进行预喷的第二喷嘴，所述第二喷嘴与所述滚轴设置于所述设备主体的同侧。
5.根据权利要求1所述的玻璃基板的涂布设备，其特征在于，所述设备还包括用于固定所述移动基台的定位器，所述定位器设置在所述设备主体上。
6.根据权利要求1所述的玻璃基板的涂布设备，其特征在于，所述设备还包括用于保持或者关闭设备主体内的真空状态的真空管，所述真空管连接所述设备主体。
专利摘要本实用新型公开了一种玻璃基板的涂布设备，包括设备主体，所述设备主体上设置有移动基台，所述移动基台用于放置玻璃基板，所述设备还包括第一喷嘴以及一滚轴，所述第一喷嘴与所述滚轴分别位于所述设备主体的两侧；所述第一喷嘴用于从所述第一喷嘴所在的一侧沿预设轨迹移动至所述滚轴处进行预喷。本实用新型还公开了一种玻璃基板的涂布设备的涂布方法。
文档编号C03C17/00GK202164232SQ201120287960
公开日2012年3月14日 申请日期2011年8月9日 优先权日2011年8月9日
发明者简月圆 申请人:深圳市华星光电技术有限公司