专利名称：用于生产光学玻璃的坩埚的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光学领域制造领域，具体是一种用于制造光学玻璃的坩埚。
背景技术：
坩埚是一种熔制光学玻璃的装置，光学玻璃的熔制温度一般均在1000度以上高温，所以坩埚需要采用耐高温的材质制成，一般采用钼金。但钼金材质价格昂贵，要求投资大，难易承受。
发明内容本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，而提供一种成本低的用于生产光学玻璃的坩埚。为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是一种用于生产光学玻璃的坩埚，包括金属基体，其特征在于在所述的金属基体内设置有耐高温套，在该耐高温套与基体之间为真空腔体。所述的耐高温套的厚度为6 15mm。所述的基体与耐高温套一体成型。与现有技术相比，本实用新型坩埚在基体内设置耐高温套，并在基体与耐高温套之间采用真空隔离，使得坩埚既能满足耐高温要求，而且降低了材料成本，耐热性能也得到提尚。
图1是本实用新型坩埚结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图，对本实用新型作详细说明如图1所示，一种用于生产光学玻璃的坩埚，包括一体成型的金属基体1和设置金属基体内耐高温套2，在该耐高温套2与基体1 之间为真空腔体3，耐高温套2 —般由石英砂、粘土、菱镁矿、白云石等作原料而制，厚度一般为6 15mm。
权利要求1.一种用于生产光学玻璃的坩埚，包括金属基体，其特征在于在所述的金属基体内设置有耐高温套，在该耐高温套与基体之间为真空腔体。
2.根据权利要求1所述的用于生产光学玻璃的坩埚，其特征在于所述的耐高温套的厚度为6 15mm。
3.根据权利要求1所述的用于生产光学玻璃的坩埚，其特征在于所述的基体与耐高温套一体成型。
专利摘要本实用新型公开一种用于生产光学玻璃的坩埚，包括金属基体，其特征在于在所述的金属基体内设置有耐高温套，在该耐高温套与基体之间为真空腔体；所述的耐高温套的厚度为6～15mm；所述的基体与耐高温套一体成型。与现有技术相比，本实用新型坩埚在基体内设置耐高温套，并在基体与耐高温套之间采用真空隔离，使得坩埚既能满足耐高温要求，而且降低了材料成本，耐热性能也得到提高。
文档编号C03B5/08GK202201795SQ20112031484
公开日2012年4月25日 申请日期2011年8月26日 优先权日2011年8月26日
发明者汤志平 申请人:南通晶鑫光学玻璃有限公司