间壁糊料、具有间壁的构件的制造方法和具有间壁的构件的制作方法
【专利摘要】本发明的目的在于提供烧成时的有机成分的热分解性优异，能够形成烧成后的间壁中的碳残渣少、反射率高的间壁的间壁糊料。此外，本发明的目的还在于提供具有碳残渣少、反射率高的间壁，亮度等显示特性优异，可靠性高的平面显示器用面板和闪烁体面板等具有间壁的构件。本发明提供含有氧化硅、氧化铝、碱金属氧化物和24～37摩尔%的氧化硼，并且含有碱土类金属氧化物的含有率为4摩尔%以下和氧化锌的含有率为10摩尔%以下的低软化点玻璃粉末、与有机成分的间壁糊料。
【专利说明】间壁糊料、具有间壁的构件的制造方法和具有间壁的构件
【技术领域】
[0001] 本发明涉及间壁糊料、具有间壁的构件的制造方法和具有间壁的构件。
【背景技术】
[0002] 近年来，等离子体显示器、场致发射显示器、荧光显示管、液晶显示装置、电致发光 显示器、发光二极管等平面显示器的开发急速发展。这些平面显示器中，等离子体显示器是 在前面玻璃基板和背面玻璃基板之间所设置的放电空间内，在对置的阳极电极和阴极电极 之间产生等离子体放电，并将由封入放电空间内的放电气体产生的紫外线照射至设置于放 电空间内的荧光体，藉此进行显示的显示器。等离子体显示器、荧光显示管等气体放电类型 的平面显示器需要用于隔开放电空间的绝缘性的间壁。此外，场致发射显示器等电场发射 类型的平面显示器需要用于隔绝门电极和阴极电极的绝缘性的间壁。
[0003] 此外，在医疗领域中，具有间壁的构件正不断受到关注。以往，在医疗现场，使用 膜的模拟方式的放射线成像装置受到了广泛使用，近年来，开发了计算机放射成像或平板X 射线检测装置等数字方式的放射线成像装置。平板X射线检测装置中，使用了将放射线通 过X射线荧光体转变为可见光的闪烁体面板，但由于X射线荧光体发出的光的散射，因而具 有S/N比低的问题。因此，提出了用间壁隔开X射线荧光体来抑制光散射的方法。
[0004] 作为形成这些间壁的方法，已知：将间壁糊料通过丝网印刷版重复涂布成图案状 并干燥，然后进行烧成的丝网印刷法；在进行了干燥的间壁材料的层上用抗蚀剂进行掩蔽， 通过喷砂处理磨削后，进行烧成的喷砂法；将具有图案的模具按压于间壁糊料的涂布膜而 形成间壁图案，然后进行烧成的模转印法(压印法）；涂布包含感光性糊料材料的间壁材料 并进行干燥，进行曝光、显影处理后，进行烧成的感光性糊料法(光刻法）等。这些间壁形成 法均是使用含有低软化点玻璃粉末和有机成分的糊料来形成间壁图案，并通过进行烧成将 有机成分除去而形成含有低软化点玻璃的绝缘性图案即间壁的方法。其中，感光性糊料法 是高精细且可以应对大面积化的方法，此外，还是成本效益高的方法。
[0005] 以往的间壁形成方法中，使用含有低软化点玻璃粉末和有机成分的间壁糊料来形 成间壁图案，然后进行烧成而形成间壁，因而碳残渣残留于烧成后的间壁中。若该碳残渣大 量残留，则间壁会着色而使反射率降低，因此具有对亮度等显示特性和可靠性造成影响的 问题。
[0006] 因此，为了制造亮度等显示特性优异、可靠性高的平面显示器用面板和闪烁体面 板等具有间壁的构件，提出了各种降低烧成后的碳残渣的方法(专利文献1?3)。专利文 献1的特征在于下述方面：作为间壁糊料中的有机成分，使用含有羟基和聚合性不饱和基 团的树脂，例如，高温时的热分解性优异的多元醇。专利文献2的特征在于下述方面：为了 提高有机成分的热分解性，使用具有氧原子含有率高的聚环氧烷链段的丙烯酸系共聚物来 作为有机成分。专利文献3的特征在于下述方面：以使有机成分分解物不残留于玻璃中的 方式，使用玻璃化转变温度较有机成分的减量率达到80%的温度高KTC以上的低软化点玻 3? 〇
[0007] 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2001-305729号公报 专利文献2 :日本特开2008-50594号公报 专利文献3 :日本特开平11-52561号公报。
【发明内容】
[0008] 发明要解决的技术问题 然而，上述以往的方法中，在间壁糊料中或间壁图案形成工序中，无法降低由于有机成 分与玻璃中的成分发生反应而形成热分解性不良所造成的碳残渣，因此间壁中的碳残渣的 降低不充分。所以，本发明的目的在于提供一种间壁糊料，其烧成时的有机成分的热分解性 优异、烧成后的间壁中的碳残渣少、且可形成反射率高的间壁。此外，本发明的目的还在于 提供具有碳残渣少、反射率高的间壁，亮度等显示特性优异，可靠性高的平面显示器用面板 和闪烁体面板等具有间壁的构件。
[0009] 用于解决技术问题的方法 为了解决上述课题，本发明具有以下（1)?（6)的构成。
[0010] (1)间壁糊料，其含有氧化硅、氧化铝、碱金属氧化物和24?37摩尔％的氧化硼， 并且含有碱土类金属氧化物的含有率为4摩尔％以下和氧化锌的含有率为10摩尔％以下 的低软化点玻璃粉末、与有机成分。
[0011] (2) (1)所述的间壁糊料，其中，所述低软化点玻璃粉末中的氧化硼的含有率为 24?34摩尔％，所述低软化点玻璃粉末中的氧化钠的含有率为3. 5摩尔％以下。
[0012] (3) (1)或（2)所述的间壁糊料，其含有感光性有机成分作为所述有机成分。
[0013] (4)具有间壁的构件的制造方法，其中，在基板上涂布（1)?（3)中任一项所述的 间壁糊料，进行烧成而形成间壁。
[0014] (5)具有间壁的构件的制造方法，其中，在基板上涂布（3)所述的间壁糊料，进行曝 光、显影、烧成而形成间壁。
[0015] (6)具有间壁的构件，其是以低软化点玻璃为主成分的具有间壁的构件，上述低软 化点玻璃含有氧化硅、氧化铝、碱金属氧化物和24?37摩尔％的氧化硼，并且碱土类金属 氧化物的含有率为4摩尔％以下和氧化锌的含有率为10摩尔％以下。
[0016] (7 )等离子体显示器，其具备（6 )所述的构件。
[0017] (8)放射线成像装置，其具备（6)所述的构件。
[0018] 发明效果 根据本发明，可以提供间壁糊料，其烧成时的有机成分的热分解性优异、碳残渣少、且 可形成反射率高的间壁。此外，还可稳定地提供具有碳残渣少、反射率高的间壁，亮度等显 示特性优异，可靠性高的平面显示器用面板和闪烁体面板等具有间壁的构件。
【具体实施方式】
[0019] 间壁糊料是指可通过丝网印刷法、喷砂法、蚀刻法、模转印法(压印法）或感光性糊 料法(光刻法）等方法进行间壁形成的无机成分与有机成分的混合物。
[0020] 本发明的间壁糊料的特征在于，含有氧化硅、氧化铝、碱金属氧化物和24?37摩 尔％的氧化硼，并且含有碱土类金属氧化物的含有率为4摩尔％以下和氧化锌的含有率为 10摩尔％以下的低软化点玻璃粉末、与有机成分。
[0021] 作为无机成分的低软化点玻璃粉末是指软化点为570?620°C的玻璃、即低软化 点玻璃的粉末。通过软化点在该范围内，烧成工序中的熔融性变得适当。此外，特别是在玻 璃基板上形成间壁时，以使玻璃基板的变形等问题不发生的方式以较低温进行烧结的情形 中也会引起充分软化，因而可得到表面粗糙度小的间壁。
[0022] 对于软化点，可以使用示差热分析装置（以下，记为"DTA"）进行测定，并由测定玻 璃粉末而得的DTA曲线，通过切线法而外推求出吸热峰的吸热结束温度。
[0023] 间壁糊料为感光性间壁糊料时，低软化点玻璃粉末的折射率优选为1. 45?1. 65。 通过整合无机成分与有机成分的折射率、并抑制光散射，高精度的间壁图案加工变得容易。 这里，折射率是指通过贝克线检测法测定的25°C下的波长436nm(汞灯的g射线)的折射率。
[0024] 低软化点玻璃粉末的粒径也取决于要制作的间壁的形状，重量分布曲线的50%粒 径（以下，记为"平均粒径"）d 5Q优选为0. 1?3. 0 μ m，最大粒径dmax优选为20 μ m以下。
[0025] 以下，对构成低软化点玻璃粉末的各成分进行说明。
[0026] 氧化硅是形成玻璃骨架的成分。具有提高玻璃的致密性、强度或化学稳定性的效 果，进而还具有降低玻璃的折射率的效果。此外，在使用玻璃基板作为基材时，通过控制热 膨胀系数，还可以防止与玻璃基板的不匹配所致的间壁的剥离等。氧化硅在低软化点玻璃 粉末中所占的含有率优选为30?48摩尔％、更优选为33?42摩尔％。通过使氧化硅的含 有率为30摩尔％以上，可以将热膨胀系数抑制为小，并使烧结于玻璃基板时难以产生裂缝。 进而，还可以使折射率降低。此外，通过为48摩尔％以下，可以使玻璃的软化点降低，而使 烧结于玻璃基板的温度降低。
[0027] 氧化铝具有使玻璃的化学稳定性提高的效果。为了提高玻璃的化学稳定性，氧化 铝在低软化点玻璃粉末中所占的含有率优选为2?15摩尔％、更优选为9?15摩尔％。
[0028] 碱金属氧化物不仅使玻璃的热膨胀系数的控制变得容易，而且还具有使软化点降 低的效果。这里，碱金属氧化物是指氧化锂、氧化钠、和氧化钾，含有碱金属氧化物是指含有 它们中的一者以上。在低软化点玻璃粉末中所占的三种碱金属氧化物的含有率的总计值优 选为7?17摩尔％、更优选为10?17摩尔％。通过为7摩尔％以上，可以使玻璃的软化点 降低。此外，通过为17摩尔％以下，可以维持玻璃的化学稳定性，同时将热膨胀系数抑制为 小，并使折射率降低。此外，从可以降低银离子的迁移所致的黄变的观点出发，氧化钠在低 软化点玻璃粉末中所占的含有率优选为3. 5摩尔％以下。
[0029] 氧化硼是形成玻璃骨架的成分，具有降低玻璃的软化点和折射率的效果。为了适 宜地维持玻璃组成的平衡和化学稳定性，氧化硼在低软化点玻璃粉末中所占的含有率需要 为24?37摩尔％。为了提高玻璃的化学稳定性、降低软化点而使对玻璃基板的烧结温度降 低，并进一步降低折射率，优选为24?34摩尔％、更优选为29?34摩尔％。
[0030] 碱土类金属氧化物是指氧化镁、氧化钙、氧化锶和氧化钡。碱土类金属氧化物不仅 使热膨胀系数的控制变得容易，而且还具有使软化点降低的效果。然而另一方面，在间壁糊 料中或间壁图案形成工序中，其为与有机成分反应，成为有机成分的热分解性不良、进而起 因于此的碳残渣的主要原因的成分。有机成分与碱土类金属元素的反应，更具体地是指有 机成分中的羟基或羧基等官能团与碱土类金属离子的盐或离子交联形成反应。碱土类金属 离子为2价离子，可以与有机成分形成牢固的离子交联，因而推测与玻璃中的其它成分相 t匕，对于有机成分的热分解性的影响大。因此，四种碱土类金属元素氧化物在玻璃粉末中所 占的含有率的总计值需要为4摩尔％以下，优选为2. 9摩尔％以下、更优选为2摩尔％以下。
[0031] 氧化锌不会使玻璃的热膨胀系数变大且具有使软化点降低的效果。然而另一方 面，由于会使糊料粘度稳定性变差，因此氧化锌在低软化点玻璃粉末中所占的含有率需要 为10摩尔％以下，优选为5摩尔％以下。
[0032] 作为低软化点玻璃粉末的其它成分，还可以含有具有提高玻璃的化学稳定性的效 果的氧化钛或氧化锆等，或含有具有降低软化点的效果的氧化铋或氧化铅。
[0033] 作为低软化点玻璃粉末的制作方法，可举出例如下述方法：将作为构成成分的氧 化锂、氧化钾、氧化硅、氧化硼、氧化锌、氧化钡、氧化镁和氧化铝等原料以达到规定含有率 的方式进行混合，在900?1200°C烙融后,进行冷却,制为玻璃料（Glass frit)后,进行粉 碎、分级，制为20 μ m以下的微细的粉末。原料可使用高纯度的碳酸盐、氧化物或氢氧化物 等。此外，根据玻璃粉末的种类或组成，使用99. 99%以上的超高纯度的醇盐或有机金属的 原料，并使用以溶胶凝胶法均质地制作的粉末时，可以获得高电阻且致密、气孔少的高纯度 的烧成膜，故优选。
[0034] 本发明中，低软化点玻璃粉末的构成成分及其含有率可以根据制作低软化点玻璃 粉末时的各原料及其含有率进行特定和计算，也可以根据低软化点玻璃粉末、间壁糊料或 间壁的样品分析来进行特定和计算。样品为玻璃粉末时，可通过进行原子吸光分析或感应 耦合等离子体（以下、"ICP"）发光分光分析来定量地确定。样品为间壁时，可通过俄歇电子 能谱分析来定量地确定。更具体地，可以通过扫描型电子显微镜（以下、"SEM"）观察间壁截 面，以SEM图像的浓淡差异来区别低软化点玻璃，并通过俄歇电子能谱进行元素分析来定 量地确定。此外，样品为间壁时，也可以辅助性地使用例如由间壁选择性地削出低软化点玻 璃，并进行原子吸光分析或ICP发光分光分析的其它公知分析手段。样品为间壁糊料时，可 将间壁糊料供于过滤、洗涤等操作将玻璃粉末分离后进行与玻璃粉末相同的分析，或者对 间壁糊料进行涂布和烧成而形成间壁后进行与间壁相同的分析。
[0035] 根据元素分析结果算出各构成成分的含有率的方法如下所述。元素分析中，可得 到低软化点玻璃粉末中所含的元素的质量比的信息，因而可基于原子量、构成成分的式量、 构成成分的组成式中的阳离子数来计算氧化物换算的质量比，即，构成成分的质量比。所得 的构成成分的质量比设为Ri :构成成分i的质量％^1 :构成成分i的式量、Σ :全部成分之 和时，可以基于下式1换算为摩尔比。 (Ri/Fi)/2 (Ri/Fi) XlOO (摩尔 ％) 式 1。
[0036] 本发明的间壁糊料中还可以添加填料作为低软化点玻璃粉末以外的无机成分。这 里，填料是为了改善间壁的强度而添加的物质，是指即使在烧成温度下也难以熔融流动的 无机粉末。更具体地，是指软化点、熔点和分解温度为650°C以上，在650°C以固体形式存在 的无机粉末。作为填料，可举出例如：软化点为650?1200°C的高软化点玻璃粉末或堇青 石、氧化铝、二氧化硅、氧化镁或氧化锆等陶瓷粉末，从平均粒径d 5(l或折射率的控制容易性 的观点出发，优选为高软化点玻璃粉末。考虑到填料在间壁糊料中的分散性或填充性、曝光 时的光散射的抑制，填料的平均粒径d 5(l优选为0. 1?3. 0 μ m、填料的最大粒径dmax优选为 20 μ m以下。
[0037] 添加填料作为无机成分时，低软化点玻璃粉末在无机成分中所占的含有率优选为 50?98体积％。低软化点玻璃粉末在无机成分中所占的含有率为50体积％以上时，烧成 时的烧结变得容易，且可维持烧成后的间壁的空隙率为小。此外，低软化点玻璃粉末在无机 成分中所占的含有率若为98体积％以下，则具有下述优点：可以控制烧成时的无机成分整 体的流动性，可以防止间壁形状的变形，可以改善烧成后间壁的机械强度、形成难以因冲击 而破损的间壁等，故优选。
[0038] 低软化点玻璃粉末和填料在无机成分中所占的含有率可根据制作间壁糊料时的 各原料的含有率来计算。或者，可以通过SEM对涂布并干燥间壁糊料而得的间壁糊料干燥 膜或烧成干燥膜而得的间壁糊料烧成膜的垂直于膜面的截面进行观察，以SEM图像的浓淡 差异来区别无机成分的种类，进行图像解析。SEM图像的浓淡与无机成分的关系可通过利 用X射线的元素分析来特定。作为SEM的评价区域，可以将20 μ mX 100 μ m左右的面积作 为对象，以1000?3000倍左右进行观察。
[0039] 可优选使用的高软化点玻璃粉末是例如以氧化物表示具有下述组成者。
[0040] 氧化锂、氧化钠 和氧化钾的总量 0?5摩尔％ 氧化硅 30?70摩尔％ 氧化硼 5?25摩尔％ 氧化锌 0?10摩尔％ 氧化错 5?25摩尔％ 氧化钛 0?5摩尔％ 氧化镁和氧化I丐的总量 1?20摩尔％ 氧化钡和氧化锶的总量 0?10摩尔％ 间壁糊料为感光性间壁糊料时，填料的折射率优选为1. 45?1. 65。通过整合填料与低 软化点玻璃以及有机成分的折射率，并抑制光散射，高精度的间壁图案加工变得容易。
[0041] 无机成分在间壁糊料的固体成分中所占的含有率总计优选为35?80体积％、更优 选为40?70体积％。这里，固体成分是指间壁糊料中所含的除了溶剂之外的有机成分和无 机成分。无机成分在间壁糊料的固体成分中所占的含有率若小于35体积％，则烧成所致的 间壁图案的收缩变大。此外，若超过80体积％，则难以均匀地涂布。
[0042] 在间壁糊料制作时，可以考虑无机成分和有机成分的密度，以添加率(质量％)来 控制无机成分在固体成分中所占的含有率(体积％)。此外，之外分析无机成分的含有率的 方法，可举出：通过热重量测定（以下，记为"TGA")、间壁糊料干燥膜的密度测定和间壁糊 料烧成膜的密度测定来求出的方法；通过涂布、干燥间壁糊料而得的间壁糊料干燥膜的透 射型电子显微镜（以下，记为"TEM"）观察图像的图像解析来求出的方法。通过TGA、间壁 糊料干燥膜的密度测定和间壁糊料烧成膜的密度测定来求出时，例如，将IOmg左右的间壁 糊料作为样品，通过TGA (例如，TGA-50 ;株式会社岛津制作所制）来评价室温?600°C的 重量变化。通常，间壁糊料中的溶剂在100?150°C下会蒸发，因而可根据相对于溶剂蒸 发后的重量的升温至600°C后的重量（由于除去了有机成分故相当于无机成分的重量）的 比例，求出无机成分与有机成分的质量比。另一方面，若基于间壁糊料干燥膜的膜厚、面积 与质量来评价干燥膜密度，并基于间壁糊料烧成膜的膜厚、面积与质量来评价无机成分的 密度，则可评价无机成分的含有率(体积％)。此外，通过--Μ观察求出含有率时，可以通过 TEM (JEM-4000EX ;日本电子株式会社制）来观察间壁糊料干燥膜的垂直于膜面的截面，并 通过图像的浓淡来区别无机成分和有机成分，进行图像解析。作为TEM的评价区域，可以将 20 μ mX 100 μ m左右的面积作为对象，以1000?3000倍左右进行观察。
[0043] 本发明的间壁糊料含有有机成分。这里，有机成分可根据间壁形成步骤适宜选择 如在涂布间壁糊料时具有适当的粘度，且在涂布间壁糊料并根据需要进行干燥时保持间壁 图案形状的那些。作为有机成分，可举出例如：以乙基纤维素为代表的纤维素化合物、以聚 甲基丙烯酸异丁酯为代表的丙烯酸系共聚物或聚乙烯醇、聚乙烯缩丁醛或α-甲基苯乙烯 聚合物等树脂。
[0044] 间壁糊料为感光性间壁糊料时，其特征为含有感光性有机成分。作为感光性有机 成分，可举出感光性单体、感光性低聚物或感光性聚合物。此外，也可根据需要添加非感光 性聚合物成分、抗氧化剂、有机染料、光聚合引发剂、增感剂、增感助剂、增塑剂、增粘剂、分 散剂、有机溶剂或防沉淀剂等有机成分。将间壁糊料用于等离子体显示器的间壁等高精细 的间壁的形成时，优选使其为含有感光性有机成分作为有机成分的感光性间壁糊料。
[0045] 这里，感光性间壁糊料是指如通过对进行了涂布、干燥后的涂膜照射活性光线而 引起光交联、光聚合、光解聚合或光改性等反应，使照射部分的化学结构发生变化而变得可 通过显影液显影的间壁糊料。通过活性光线的照射而使照射部分变得不溶于显影液，然后 通过显影液仅除去非照射部分，使之成为可形成间壁图案的负型感光性间壁糊料，由此可 获得良好的特性。这里，活性光线是指引起这类化学反应的250?IlOOnm的波长范围的光 线，更具体地，可举出：超高压汞灯、金属卤化物灯等紫外光线、卤灯等可见光线、氦-镉激 光、氦-氖激光、氩离子激光、半导体激光、YAG激光、二氧化碳激光等特定波长的激光光线 等。
[0046] 作为感光性聚合物，优选为碱可溶性的聚合物。这是因为通过感光性聚合物具有 碱可溶性，可以使用碱性水溶液而非对环境有负荷的有机溶剂来作为显影液的缘故。作为 碱可溶性的聚合物，优选为含有不饱和羧酸等不饱和酸作为构成单体的丙烯酸系共聚物。 这里，丙烯酸系共聚物是指至少含有丙烯酸系单体作为共聚成分的共聚物。这里，作为丙 烯酸系单体，可举出例如：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸 正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯 酸苄酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丁氧基三甘醇丙烯酸酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸二环戊基酯、丙 烯酸二环戊烯基酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸甘油酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸十七氟 癸酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸异癸酯、丙烯酸异 辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二甘醇丙烯酸 酯、丙烯酸八氟戊酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸三氟乙酯、丙烯酰胺、丙烯 酸氨基乙酯、丙烯酸苯基酯、丙烯酸1-萘酯、丙烯酸2-萘酯或丙烯酸苯硫酚酯、丙烯酸苄基 硫醇酯等丙烯酸系单体或将这些丙烯酸酯置换为甲基丙烯酸酯而得的那些。作为丙烯酸系 单体以外的共聚成分，可使用具有碳-碳双键的化合物，作为这类化合物，可举出例如：苯 乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯或羟甲 基苯乙烯等苯乙烯类、1-乙烯基-2-吡咯烷酮或乙酸乙酯。
[0047] 作为赋予碱可溶性的不饱和酸，可举出例如：丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆 酸、马来酸或富马酸或它们的酸酐。碱可溶性聚合物的酸值优选为50?150的范围。
[0048] 使用丙烯酸系共聚物时，为了使感光性间壁糊料的曝光所致的固化反应的反应速 度变大，优选为侧链或分子末端具有碳-碳双键的丙烯酸系共聚物。作为具有碳-碳双键 的基团，可举出例如：乙烯基、烯丙基、丙烯酸类基团或甲基丙烯酸类基团。为了将这种官能 团加成至丙烯酸系共聚物，有使丙烯酸系共聚物中的巯基、氨基、羟基或羧基与具有缩水甘 油基或异氰酸酯基、以及碳-碳双键的化合物或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯进行 加成反应来制造的方法。
[0049] 作为具有缩水甘油基和碳-碳双键的化合物，可举出例如：甲基丙烯酸缩水甘油 酯、丙烯酸缩水甘油酯、烯丙基缩水甘油基醚或丙烯酸缩水甘油基乙基酯、巴豆基缩水甘油 基醚、巴豆酸缩水甘油酯、异巴豆酸缩水甘油酯。作为具有异氰酸酯基与碳-碳双键的化合 物，可举出例如：异氰酸丙烯酰酯、异氰酸甲基丙烯酰酯、异氰酸丙烯酰基乙酯或异氰酸甲 基丙烯酰基乙酯。
[0050] 进而，本发明的感光性间壁糊料还可含有非感光性的聚合物成分，例如甲基纤维 素、乙基纤维素等纤维素化合物、高分子量聚醚等来作为有机成分。
[0051] 感光性单体是指含有碳-碳双键的化合物，可举出例如：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙 酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔 丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丁氧基三甘醇丙烯酸 酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸二环戊基酯、丙烯酸二环戊烯基酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸 甘油酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸十七氟癸酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸异冰片酯、丙 烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸异癸酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、 甲氧基乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二甘醇丙烯酸酯、丙烯酸八氟戊基酯、丙烯酸苯氧基乙酯、 丙烯酸硬脂酯、丙烯酸三氟乙酯、烯丙基化环己基二丙烯酸酯、1，4_ 丁二醇二丙烯酸酯、1， 3_ 丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、聚乙二 醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷） 四丙烯酸酯、甘油二丙烯酸酯、甲氧基化环己基二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、丙二醇 二丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、三甘油二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酰 胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸苯基酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸1-萘酯、丙烯 酸2-萘酯、双酚A二丙烯酸酯、双酚A-环氧乙烷加成物的二丙烯酸酯、双酚A-环氧丙烷加 成物的二丙烯酸酯、硫酚丙烯酸酯或苄基硫醇丙烯酸酯或将这些单体的芳香环的氢原子的 1?5个取代为氯或溴原子的单体、或者苯乙烯、对甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙 烯、氯化苯乙烯、溴化苯乙烯、α -甲基苯乙烯、氯化α -甲基苯乙烯、溴化α -甲基苯乙烯、 氯甲基苯乙烯、羟甲基苯乙烯、羧甲基苯乙烯、乙烯基萘、乙烯基蒽或乙烯基咔唑。此外，还 可举出：将上述含有碳-碳双键的化合物的分子内的丙烯酸酯的一部分或全部置换为甲基 丙烯酸酯的那些、Y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或1-乙烯基-2-吡咯烷酮。此外， 多官能单体中，也可以混合存在有：丙烯酸类基团、甲基丙烯酸类基团、乙烯基或烯丙基。
[0052] 本发明的感光性间壁糊料优选进一步含有氨基甲酸酯化合物。通过含有氨基甲酸 酯化合物，可以提高感光性间壁糊料干燥膜的柔软性，减小烧成时的应力，可以有效地抑制 龟裂、断线等缺陷。此外，通过含有氨基甲酸酯化合物，热分解性提高，烧成工序中难以残留 有机成分。作为氨基甲酸酯化合物，可举出例如：下述通式（1)所示的化合物。
[0053] [化 1]
【权利要求】
1. 间壁糊料，其含有低软化点玻璃粉末与有机成分，所述低软化点玻璃粉末含有氧化 硅、氧化铝、碱金属氧化物和24?37摩尔％的氧化硼，并且碱土类金属氧化物的含有率为 4摩尔％以下和氧化锌的含有率为10摩尔％以下。
2. 权利要求1所述的间壁糊料，其中，所述低软化点玻璃粉末中的氧化硼的含有率为 24?34摩尔％，所述低软化点玻璃粉末中的氧化钠的含有率为3. 5摩尔％以下。
3. 权利要求1或2所述的间壁糊料，其含有感光性有机成分作为所述有机成分。
4. 具有间壁的构件的制造方法，其中，在基板上涂布权利要求1?3中任一项所述的间 壁糊料，进行烧成而形成间壁。
5. 具有间壁的构件的制造方法，其中，在基板上涂布权利要求3所述的间壁糊料，进行 曝光、显影、烧成而形成间壁。
6. 具有间壁的构件，其以低软化点玻璃为主成分， 所述低软化点玻璃含有氧化硅、氧化铝、碱金属氧化物和24?37摩尔％的氧化硼，并 且碱土类金属氧化物的含有率为4摩尔％以下和氧化锌的含有率为10摩尔％以下。
7. 等离子体显示器，其具备权利要求6所述的构件。
8. 放射线成像装置，其具备权利要求6所述的构件。
【文档编号】C03C17/04GK104302588SQ201380027295
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2013年5月15日 优先权日:2012年5月25日
【发明者】小林康宏, 谷野贵广 申请人:东丽株式会社