本实用新型涉及舞台设备技术领域，尤其涉及一种旋转舞台的旋转驱动机构。
背景技术：
近些年来随着科技水平的发展和大家对演艺效果的不断追求，舞台同时充当了演艺活动的重要“道具”。因而舞台结构形态的设计，在很大程度上决定、保障着演艺活动的演艺效果。现有的可旋转式舞台的旋转驱动通常采用电机带动摩擦轮，摩擦轮与设置在舞台面板上摩擦环配合，或是采用电机带动齿轮、齿轮与设置在舞台面板上的环形齿条啮合，舞台面板与舞台支架通过导轮导轨相互配合，从而驱使舞台面板旋转；这两种结构具有如下的缺点：当电机与舞台面板之间采用摩擦轮与摩擦环配合时，随着舞面板的重量变沉后，驱使舞台面板旋转的电机扭矩需随之变大，因此，这种结构需要多组电机带动摩擦轮与摩擦环配合，零部件增加，结构复杂，从而增加了生产成本，同时由于采用滚动摩擦的方式进行传动，当摩擦轮与摩擦环之间的摩擦面磨损后，容易出现打滑现象，舞台面板旋转时容易出现不平稳的状况，存在安全隐患；当电机与舞台面板之间采用齿轮与齿条啮合时，虽能解决相互打滑而引起舞台面板旋转不平稳的问题，但齿轮、齿条加工工艺复杂，生产成本高，齿轮齿条之间需经常做润滑维护，维护成本高。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种旋转舞台的驱动机构，以提供一种传动平稳，同时结构简单，制造方便的舞台旋转驱动机构，来解决现有技术中旋转舞台旋转时易出现不平稳的问题。
为实现上述目的，本实用新型的技术方案是：
本实用新型的一种旋转舞台的驱动机构，包括电机、转盘、驱动杆，所述电机固定安装于支架上，所述驱动杆的一端与所述电机的转轴同步且垂直连接，所述驱动杆另一端设有驱动销，所述转盘与旋转舞台的台面同轴扭矩连接，所述转盘表面沿径向至少设置有三条滑槽，所述滑槽绕所述转盘的中心呈环形均匀阵列，所述驱动销与所述滑槽配合，所述滑槽的内圈端为通槽结构，所述滑槽的外圈端距所述转盘中心的距离M、所述滑槽的内圈端距所述转盘中心的距离R、所述转轴距所述驱动销的中心线的长度r、所述转轴距所述转盘中心的距离L满足以下关系：R2+r2＝L2，M＞L+r。
进一步改进在于，所述滑槽为四条，包括第一滑槽、第二滑槽、第三滑槽、第四滑槽，各相邻滑槽的中心线相互垂直。
进一步改进在于，所述转盘表面设有环形导轨，所述环形导轨的半径大于所述滑槽的外圈端距所述转盘中心的距离。
进一步改进在于，所述驱动销上套设有滚动轴承，所述滚动轴承与所述滑槽滑动配合。
进一步改进在于，所述滑槽布置于所述转盘的上表面，且与所述转盘一体成型，所述转盘的下表面与所述台面的上表面连接，所述台面的下表面设置有环形导槽。
进一步改进在于，所述滑槽布置于所述转盘的下表面，且与所述转盘一体成型，所述转盘的上表面与所述台面的下表面连接，所述台面的下表面设置有环形导槽。
与现有技术相比，本实用新型通过将电机相对于舞台台面的旋转中心偏心的固定在舞台的支架上，电机的转轴带动偏心的驱动杆转动，驱动杆上的驱动销与设置在转盘表面上的均匀环形阵列的滑槽配合，电机带动驱动杆转动，从而带动转盘旋转，舞台台面即可实现旋转，结构简单，制作方便，拆装方便，仅需一台电机即可带动舞台转动，生产成本低，同时，滑槽与驱动销的紧密配合，使旋转舞台的台面旋转平稳。
附图说明
图1为本实用新型一种旋转舞台的驱动机构的结构示意图；
图2为本实用新型中驱动销刚进入滑槽时的状态示意图；
图3为本实用新型中驱动销驱动转盘旋转时的状态示意图；
图4为本实用新型中驱动销驱动转盘旋转时的状态示意图；
图5为本实用新型中驱动销驱动转盘旋转时的状态示意图；
图6为本实用新型中驱动销刚退出滑槽时的状态示意图；
图中，1-转盘，11-导轨，2-电机，3-驱动杆，31-驱动销，41-第一滑槽，42-第二滑槽，43-第三滑槽，44-第四滑槽。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1所示，本实用新型提供了一种旋转舞台的驱动机构，包括转盘1、电机2、驱动杆3，所述电机2固定安装在舞台的支架(图中未示出)上，电机2的转轴竖直摆放，电机2的转轴与水平放置的驱动杆3的一端同步连接，所述驱动杆3的另一端设有驱动销31，驱动销31可在电机2的转轴带动下，绕转轴在水平面内做圆周运动；所述转盘1与旋转舞台的台面扭矩连接，以使旋转舞台的台面能绕转盘1的旋转中心转动，所述转盘1的表面沿径向设置有四条滑槽，即第一滑槽41、第二滑槽42、第三滑槽43、第四滑槽44，第一滑槽41、第二滑槽42、第三滑槽43、第四滑槽44绕转盘1的中心环形均匀阵列，即第一滑槽41、第二滑槽42、第三滑槽43、第四滑槽44的中心线相互垂直，第一滑槽41、第二滑槽42、第三滑槽43、第四滑槽44的内圈端为通槽结构，驱动销31与各条滑槽滑动配合，以使驱动销31能在电机2的转轴带动下，从各条滑槽的内圈端滑入滑槽内或从滑槽内滑出；转盘1的表面的滑槽数量也可以为三条、五条、六条等，但不局限于上述的数量，只要各条滑槽沿径向设置，绕转盘1的中心环形均匀阵列，且电机2的转轴中心线介于两相邻滑槽之间夹角的中心线上时，各条滑槽的外圈端距转盘1的中心线的距离M、各条滑槽的内圈端距转盘的中心线的距离R、转轴的中心线距驱动销31的中心线的长度r、转轴的中心线距转盘的中心线的距离L满足以下关系：R2+r2＝L2，M＞L+r即可。
本实用新型的优选方式为，转盘1表面设有环形导轨，环形导轨的半径大于所述滑槽的外圈端距所述转盘中心的距离；驱动销31上套设有滚动轴承，以使滚动轴承与滑槽的槽壁之间为滑动配合。滑槽可以布置于所述转盘的上表面或下表面，在实际生产应用中，滑槽与转盘1通过机加工一体成型，当滑槽位于转盘1的上表面时，转盘1的下表面与台面的上表面连接，台面的下表面设置有环形导槽；当滑槽位于转盘1的下表面时，转盘1的上表面与台面的下表面连接，台面的下表面设置有环形导槽。
与现有技术相比，本实用新型通过将电机相对于舞台台面的旋转中心偏心的固定在舞台的支架上，电机的转轴带动偏心的驱动杆转动，驱动杆上的驱动销与设置在转盘表面上的均匀环形阵列的滑槽配合，电机带动驱动杆转动，从而带动转盘旋转，舞台台面即可实现旋转，结构简单，制作方便，拆装方便，仅需一台电机即可带动舞台转动，生产成本低，同时，滑槽与驱动销的紧密配合，使旋转舞台的台面旋转平稳。
应当理解，方位词均是结合操作者和使用者的日常操作习惯以及说明书附图而设立的，它们的出现不应当影响本实用新型的保护范围。
以上结合附图实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域中普通技术人员可根据上述说明对本实用新型做出种种变化例。因而，实施例中的某些细节不应构成对本实用新型的限定，本实用新型将以所附权利要求书界定的范围作为本实用新型的保护范围。