一种上釉供浆装置的制作方法

本实用新型涉及马桶生产领域，更具体地说，它涉及一种上釉供浆装置。

背景技术：

马桶也叫坐便器，是大小便用的有盖的桶，马桶的生产主要包括以下步骤：注浆成型、修坯、检坯、施釉、装窑、烧成、检验、包装和入库；在施釉过程中，是将釉料涂覆在马桶的表面，使得马桶变得光滑。

现有授权公告号为cn207808026u的中国专利，公开了瓷器上釉机，其包括用于存储釉料的釉料桶、主泵、连接在釉料桶与主泵进口之间的进釉管、用于给待上釉瓷器上釉的喷射嘴、连接在喷射嘴与主泵出口之间的出釉管、设置在出釉管上的阀门、用于放置待上釉瓷器的釉料盆、设置在釉料盆上且用于过滤存积在釉料盆内的过滤网、以及设置在釉料盆上的出料孔；釉料桶与出料孔通过管路连接。

而釉料的合成通常是在有釉料桶中将水和粉质釉料搅拌混合而成，但是由于釉料属于粘稠性液体，因此会附着在有釉料通的内侧壁上，不易清洗，从而过多的残留釉料会影响下一次的釉料使用。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种上釉供浆装置，在对釉料进行充分的搅拌合成的同时，其搅拌桶容易清理，不会有过多残留的釉料影响下次马桶的上釉。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种上釉供浆装置，包括斗形搅拌桶、输料管、搅拌轴杆和搅拌桨板，所述输料管设置在搅拌桶的出料端，所述输料管远离搅拌桶的一端通过加压泵设置有喷嘴，所述喷嘴喷料端设置有上釉池，所述搅拌轴杆通过立架设置在搅拌桶内，所述立架上设置有驱动搅拌轴杆转动的第一驱动电机，所述搅拌桨板包括侧桨和底桨，所述侧桨沿竖直方向排列设置在搅拌轴杆周壁上且沿水平方向延伸，所述侧桨的长度沿沿竖直方向从上到下逐渐变短，所述侧桨远离搅拌轴杆的一端设置有扫头，所述底桨设置在搅拌轴杆的底端，所述搅拌轴杆的顶端设置有驱动搅拌桨板在竖直方向上移动的伸缩件；当所述搅拌桨板移动到上方终点的时候，所述侧桨和底桨远离搅拌桶内壁；当所述搅拌桨板移动至下方终点的时候，所述扫头贴合搅拌桶内侧壁，所述底桨贴合搅拌桶的内底壁。

通过采取上述技术方案，当伸缩件促使侧桨和底桨整体上移的时候，搅拌轴杆可以在第一驱动电机的驱动下，带动搅拌桨板进行搅拌工作，然后搅拌桶内的釉料可以在加压泵、输料管和喷嘴的作用下，对上釉池中的模型进行上釉；而当搅拌桶内侧壁需要清理的时候，伸缩件可以带动侧桨和底桨整体下移，从而扫头和底桨会接触到搅拌桶的内侧壁，搅拌轴杆再次带动搅拌桨板转动的时候，扫头和底桨可以对搅拌桶的内侧壁进行一定的清理，从而实用新型可以对釉料进行充分搅拌合成的同时，其搅拌桶容易清理，不会有过多残留的釉料影响下次马桶的上釉。

本实用新型的进一步设置为，所述搅拌轴杆包括固杆和活杆，所述固杆与第一驱动电机驱动端相连，所述活杆设置在固杆的底端，所述搅拌桨板设置在活杆上，所述伸缩件包括入槽、伸缩槽、卡定腔、磁块、电磁铁和第三驱动电机，所述入槽设置在固杆的底端且沿竖直方向延伸，所述入槽的水平截面形状为圆形，所述伸缩槽延伸设置在入槽的顶端且水平截面为腰型，所述卡定腔延伸设置在伸缩槽的顶端且水平截面为扇形，所述卡定腔的水平直径长度大于伸缩槽的宽度，所述活杆穿设在入槽内，所述磁块设置在活杆伸入伸缩槽内的一端且与伸缩槽槽壁贴合滑移，所述卡定腔内转动设置有安置板，所述电磁铁固定设置在安置板的下表面且与磁块相对设置，所述第三驱动电机设置在卡定腔内用于驱动安置板转动。

通过采取上述技术方案，在扫头和底桨清理搅拌桶的时候，电磁铁不通电，磁块沿伸缩槽滑移到伸缩槽的底端，从而扫头和底桨抵在搅拌桶的内侧壁上，由于磁块和伸缩槽的水平截面均为腰型，因此第一驱动电机带动固杆转动稳定时候，磁块和伸缩槽之间存在周向限位，从而活杆可以跟随固杆一起转动；而在搅拌桨板对釉料进行转动的时候，电磁铁通电后会将磁块向上吸取，磁块带动搅拌搅拌上移，然后第三驱动电机会带动电磁铁转动，从而磁块会与卡定腔的底壁卡接，使得在竖直方向上对活杆实现限位，搅拌桨板顺利远离搅拌桶的内侧壁，同时，磁块下表面与卡定腔之间的摩擦力以及电磁块对磁块的吸引力，使得搅拌桨板远离搅拌桶内侧壁后可以在固杆和活杆的带动下转动，实现对釉料的搅拌。

本实用新型的进一步设置为，所述搅拌桶和上釉池之间设置有循环管，所述循环管上设置有循环泵。

通过采取上述技术方案，使得对模型上釉残留的釉料可以回到搅拌桶内继续使用，对釉料进行二次利用，节约材料。

本实用新型的进一步设置为，所述扫头远离侧桨的一侧侧壁上设置有第一柔刷，所述底桨的下表面上设置有第二柔刷。

通过采取上述技术方案，在对搅拌桶内侧壁实现更加彻底的清理的同时，第一柔刷和第二柔刷可以减小扫头和底桨对搅拌桶内侧壁的压强作用，减少搅拌桶的损伤。

本实用新型的进一步设置为，所述扫头和侧桨之间设置有第一伸缩套筒，所述扫头和侧桨的相对侧壁间设置有位于第一伸缩套筒内的第一缓冲弹簧，所述搅拌轴杆底壁与底桨之间设置有第二伸缩套筒，所述搅拌轴杆底壁与底桨的相对侧壁间设置有位于第二伸缩套筒内的第二缓冲弹簧。

通过采取上述技术方案，在扫头和底桨对搅拌桶进行清理的时候，第一伸缩套筒和第二伸缩套筒发生伸缩，第一缓冲弹簧和第二缓冲弹簧发生弹性形变，使得扫头和底桨分别在水平和竖直方向上发生一定位移，保证扫头和底桨抵在搅拌桶内侧壁上的同时，减小扫头和底桨的硬性压强，减少搅拌桶的损伤。

本实用新型的进一步设置为，所述上釉池的内底壁倾斜设置，所述上釉池的内底壁最低处设置有集料腔，所述集料腔内转动设置有扰动桨，所述上釉池上设置有驱动扰动桨转动的第二驱动电机，所述循环管的进料端与集料腔相连。

通过采取上述技术方案，多余的釉料在重力作用下会集中在集料腔中，而且在扰动桨的作用下，釉料不会发生沉淀，釉料混合均一，从而循环管和循环泵可以将多余的釉料顺利地回收到搅拌桶中。

本实用新型的进一步设置为，所述循环管的出料端螺纹连接有清理管头，所述清理管头出料端内周壁上设置有碎料网。

通过采取上述技术方案，在回收的釉料排放回搅拌桶内的时候，釉料流出清理管头的同时，碎料网可以对釉料中的结块进行搅碎，从而提高搅料桶内釉料的顺滑性，而且清理管头可拆卸连接，可以对堵塞的清理管头进行及时的清理。

本实用新型的进一步设置为，所述搅拌桶的底端设置有放料管，所述放料管上设置有控制阀。

通过采取上述技术方案，在清理搅料桶的时候，可以通过控制控制阀来打开放料管，方便对清理水和废料进行排放。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

1.本实用新型除了可以在搅拌桶内实现对釉料的搅拌，而且利用伸缩件可以带动侧桨和底桨整体下移，从而扫头和底桨会接触到搅拌桶的内侧壁，使得扫头和底桨跟随搅拌轴干转动来对搅拌桶的内侧壁进行一定的清理，从而实用新型可以对釉料进行充分搅拌合成的同时，其搅拌桶容易清理，不会有过多残留的釉料影响下次马桶的上釉；

2.本实用新型设置了循环管和循环泵，可以对釉料进行二次利用，节约了材料。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为用以体现本实用新型中搅拌桶结构的剖视图。

图3为用以体现本实用新型中伸缩件结构的局部剖视图。

图4为用以体现本实用新型中上釉池结构的剖视图。

图5为用以体现本实用新型中碎料网结构的剖视图。

附图标记：1、搅拌桶；11、放料管；12、控制阀；2、输料管；21、加压泵；22、喷嘴；23、上釉池；231、循环管；2311、清理管头；2312、碎料网；232、循环泵；233、集料腔；234、扰动桨；235、第二驱动电机；3、搅拌轴杆；31、立架；32、第一驱动电机；33、伸缩件；331、入槽；332、伸缩槽；333、卡定腔；334、磁块；335、电磁铁；336、第三驱动电机；3361、安置板；34、固杆；35、活杆；4、搅拌桨板；41、侧桨；411、扫头；4111、第一柔刷；412、第一伸缩套筒；413、第一缓冲弹簧；42、底桨；421、第二柔刷；422、第二伸缩套筒；423、第二缓冲弹簧。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

实施例：

本实用新型公开了一种上釉供浆装置，如图1和图2所示，包括斗形搅拌桶1、输料管2、搅拌轴杆3和搅拌桨板4，输料管2的进料端设置在搅拌桶1的底端，输料管2远离搅拌桶1的一端通过加压泵21设置有喷嘴22，喷嘴22喷料端设置有上釉池23，马桶模型置于上釉池23中；搅拌轴杆3通过立架31设置在搅拌桶1内，立架31的支撑点为搅拌桶1外部的地面，立架31上设置有驱动搅拌轴杆3转动的第一驱动电机32；搅拌桨板4包括侧桨41和底桨42，本实施例中侧桨41有四个且沿竖直方向排列设置在搅拌轴杆3周壁上，而且侧桨41沿水平方向延伸，侧桨41的长度沿沿竖直方向从上到下逐渐变短，侧桨41远离搅拌轴杆3的一端设置有扫头411，本实施例中的扫头411为独立扫头411（为了提高侧桨41对搅拌桶1的清理面积，也可以将扫头411在竖向上设置成连续的扫头411），底桨42设置在搅拌轴杆3的底端，搅拌轴杆3的顶端设置有驱动搅拌桨板4在竖直方向上移动的伸缩件33，搅拌桶1的底端设置有放料管11，放料管11上设置有控制阀12。在上釉过程中，伸缩件33将搅拌桨板4整体向上移动，从而扫头411和底桨42远离搅拌桶1的内侧壁，启动第一驱动电机32，搅拌轴杆3会带动侧桨41和底桨42转动，从而对釉料进行搅拌，然后开启加压泵21，通过输料管2输送釉料，喷嘴22可以将釉料喷淋在马桶需要上釉的位置；上釉结束后，对于残留在搅拌桶1内釉料，利用伸缩件33下移搅拌桨板4整体，底桨42和扫头411抵在搅拌桶1的内侧壁上，然后向搅拌桶1中加入清洗水，再启动第一驱动电机32，使得底桨42和侧桨41转动，从而扫头411和底桨42可以对粘附在搅拌桶1内侧壁上的釉料进行擦拭，最后打开控制阀12，将清理废水通过放料管11排出搅拌桶1即可。

如图2所示，扫头411远离侧桨41的一侧侧壁上设置有第一柔刷4111，底桨42的下表面上设置有第二柔刷421；扫头411和侧桨41之间设置有第一伸缩套筒412，扫头411和侧桨41的相对侧壁间设置有位于第一伸缩套筒412内的第一缓冲弹簧413，搅拌轴杆3底壁与底桨42之间设置有第二伸缩套筒422，搅拌轴杆3底壁与底桨42的相对侧壁间设置有位于第二伸缩套筒422内的第二缓冲弹簧423。在对搅拌桶1内侧壁进行清理的时候，第一柔刷4111和第二柔刷421接触内侧壁，同时在第一缓冲弹簧413和第二缓冲弹簧423的弹性伸缩下，扫头411和底桨42可以分别在水平方向和竖直方向上发生一定的位移，使得第一柔刷4111和第二柔刷421对搅拌桶1内侧壁进行清理的同时，搅拌桶1自身不会受到过多的刮擦和损伤。

如图2和图3所示，搅拌轴杆3包括固杆34和活杆35，固杆34与第一驱动电机32驱动端相连，所述活杆35设置在固杆34的底端，侧桨41设置在活杆35的周壁上，底桨42设置在活杆35的底端，伸缩件33包括入槽331、伸缩槽332、卡定腔333、磁块334、电磁铁335和第三驱动电机336，入槽331设置在固杆34的底端且沿竖直方向延伸，入槽331的水平截面形状为圆形，伸缩槽332延伸设置在入槽331的顶端且水平截面为腰型，卡定腔333延伸设置在伸缩槽332的顶端且水平截面为圆形，卡定腔333的水平直径长度大于伸缩槽332的宽度，活杆35穿设在入槽331内，磁块334为腰型块而且设置在活杆35伸入伸缩槽332内的一端，且磁块334的竖直侧壁与伸缩槽332槽壁贴合滑移，卡定腔333内转动设置有安置板3361，电磁铁335固定设置在安置板3361的下表面且与磁块334相对设置，第三驱动电机336设置在卡定腔333内用于驱动安置板3361转动。在对釉料的搅拌过程中，电磁铁335吸取柱磁块334，同时第三驱动电机336带动安置板3361转动，使得电磁铁335带动磁块334转动到与伸缩槽332错位的方向，使得磁块334卡在卡定腔333中，从而在第一驱动电机32的驱动作用下，固杆34带动活杆35转动，活杆35带动搅拌桨板4转动；需对搅拌桶1进行清理的时候，第三驱动电机336转动安置板3361，使得电磁铁335将磁块334转动到与伸缩槽332相对的位置，然后电磁铁335断电，在搅拌桨板4和活杆35等的重力作用下，磁块334沿伸缩槽332下移直至挂在入槽331的位置，此时第一柔刷4111和第二柔刷421可以与搅拌桶1抵接；需搅拌的时候，电磁铁335通电，可以将磁块334向上吸取，然后再将磁块334转动至与卡定腔333卡接的位置即可。

如图1和图4所示，搅拌桶1和上釉池23之间设置有循环管231，循环管231上设置有循环泵232；而且在本实施例中，上釉池23的内底壁倾斜设置，上釉池23的内底壁最低处设置有集料腔233，集料腔233底端转动设置有扰动桨234，上釉池23下方设置有驱动扰动桨234转动的第二驱动电机235，循环管231的进料端与集料腔233相连。喷嘴22对马桶模型进行上釉的时候，多余的釉料会在自身重力作用下流入汇集到集料腔233中，而且扰动桨234在第二驱动电机235的驱动作用下进行转动，从而扰动桨234将集料腔233中的釉料混合均匀，在循环泵232的作用下，循环管231可以将集料腔233中的釉料充分回收排放到搅拌桶1内。

如图5所示，而且本实施例中，循环管231的出料端螺纹连接有清理管头2311，清理管头2311出料端内周壁上设置有碎料网2312，在釉料进入搅拌桶1之前，釉料中的结块会碎料网2312打碎，减少搅拌桶1中块状釉料的产生，然后一端时间后，可以将清理管头2311取下，对清理管头2311进行清理，保证清理管头2311的顺畅出料。

工作过程：

在上釉过程中，电磁铁335吸取住磁块334，同时磁块334卡在卡定腔333中，从而搅拌桨板4整体向上移动，扫头411和底桨42远离搅拌桶1的内侧壁，启动第一驱动电机32，搅拌轴杆3会带动侧桨41和底桨42转动，从而对釉料进行搅拌，然后开启加压泵21，通过输料管2输送釉料，喷嘴22可以将釉料喷淋在马桶需要上釉的位置；上釉结束后，启动第三驱动电机336来转动安置板3361，使得电磁铁335将磁块334转动到与伸缩槽332相对的位置，然后电磁铁335断电，磁块334移动到伸缩槽332底端，此时第一柔刷4111和第二柔刷421可以与搅拌桶1抵接，然后向搅拌桶1中加入清洗水，再启动第一驱动电机32，使得底桨42和侧桨41转动，从而扫头411和底桨42可以对粘附在搅拌桶1内侧壁上的釉料进行擦拭，最后打开控制阀12，将清理废水通过放料管11排出搅拌桶1即可。

本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。