专利名称：玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一种用于玻化砖及石材研磨抛光的磨块配方及其制造方法。
目前，在建材行业中对玻化砖及石材进行研磨抛光所使用的磨块，其配方通常是按抛光精度的要求，选取碳化硅的目数，然后用该目数的碳化硅15％-65％及粘结剂85-15％混合而制成，所用的粘结剂一般是镁氧胶结料。其中，镁氧胶结料的化学成份按重量比(以下比值、百分比除另有注明外都是指重量比)为40-80份的MgO和35-75份浓度28-35％的MgCl2溶液、3-6份浓度28-33％的MGSO4溶液、0.5-2.5份的FeO、3-9份的CaO等组成。例如要制造目数为120的磨块可按以下重量比配制75份的MgO、60份浓度为33％的MgCl2溶液、4份浓度30％的MgSO4溶液、1.5份的FeO、6份的CaO，然后与40份的碳化硅混合后制得。采用该配方制得的磨块用于加工时，由于其耐磨性、耐热性都很差，易磨损，其使用寿命都很短，一般只有90-360分钟左右。当进行大批量研磨抛光时，由于需频繁更换磨块，大大增加了生产加工的成本和降低了生产效率，同时不易保证抛光的质量，特别在大批量连续作业的场合，其缺点更显著。这种配方的磨块，其制造方法包括首先，粘结剂和碳化硅的备料，粘结剂按各组分的含量混合成镁氧胶结料，然后再和碳化硅混合成磨料，再经模具注浆成型，经凝结后即得到玻化砖及石材研磨抛光用的磨块。
本发明的目的是提供一种具有高耐磨性、高耐热性且专用于玻化砖及石材系列研磨抛光的磨块的配方及该磨块的制造方法。
为达到上述目的，本发明磨块的配方是按抛光精度要求，选取碳化硅的目数，然后用该目数的碳化硅15％-65％及粘结剂85％-35％混合而制成，所述的粘结剂是用陶瓷粘结剂，该陶瓷粘结剂使用下列矿物成份钾长石与钠长石、粘土、石英、高岭土、滑石、石灰石，经混合、研磨、筛分成混合物，其化学成份及含量为5-30％的Al2O3、30-75％的SiO2、0.2-1％的Fe2O3、0.5-3％的MgO、3-20％的K2O与Na2O、0.5-1.5％的TiO2及1-4％的CaO，其中K2O与Na2O可同时使用或单独使用。
为了得到本发明配方的磨块，其制造方法是首先，根据抛光精度的要求，选取碳化硅的目数，然后再用该目数的碳化硅按重量比15％-65％及陶瓷粘结剂85％-35％，搅拌均匀成混合磨料；其次，将磨料在模具内冲压或注浆成各种形状的磨块，并干燥至含水份小于2％；最后，高温烧结，温度为900-1400℃。
用本发明配方制造的磨块适用于玻化砖及石材系列研磨抛光之用。
下面结合实施例对本发明作进一步的详细说明。
实施例1陶瓷粘结剂按照下列矿物成份制得取28％的粘土、29％的钾长石与钠长石(其中钾长石与钠长石可以同时使用或单独使用)、29％的石英、38％的高岭土、2％的滑石、1％的石灰石，先将它们各自研磨、筛分，经充分混合，得到含水率11％的混合物，其中含水率最好是6-12％。经上述制得的陶瓷粘结剂的化学成份的含量为16％的Al2O3其最好是5-30％、70％的SiO2其最好是30-75％、0.8％的Fe2O3其最好是0.2-1％、0.95％的MgO其最好是0.5-3％、6％的K2O其最好是3-30％、4％的Na2O其最好是3-30％、0.6％的TiO2其最好是0.5-1.5％及1.2％的CaO其最好是1-4％。上述化学成份可在允许范围内任意选取，对陶瓷粘结剂的使用效果影响不大。
然后选取120目的碳化硅43％，再与上述制得的陶瓷粘结剂57％一起混合，经搅拌均匀成混合磨料，将磨料在模具内冲压或注浆成长方形或其它各种形状和规格大小的磨块，再干燥至含水份小于2％，最后用1200-1220℃的高温烧结，即可得到要求120目的研磨抛光精度的本发明磨块。
实施例2选取24目的碳化硅65％，再与如实施例1制得的陶瓷粘结剂35％一起混合，经搅拌均匀成混合磨料，将磨料在模具内冲压或注浆成长方形或其它各种形状和规格大小的磨块，再干燥至含水份小于2％，最后用1350-1370℃的高温烧结，即可得到要求24目的研磨抛光精度的本发明磨块。
实施例3选取600目的碳化硅15％，再与如实施例1制得的陶瓷粘结剂85％一起混合，经搅拌均匀成混合磨料，将磨料在模具内冲压或注浆成长方形或其它各种形状和规格大小的磨块，再干燥至含水份小于2％，最后用1150-1170℃的高温烧结，即可得到要求600目的研磨抛光精度的本发明磨块。
除上述实施例，本发明还可以通过选取24-800等不同目数的碳化硅及含量，利用不同的高温烧结，获得满足玻化砖及石材不同研磨抛光精度的系列磨块。
采用上述配方及制造方法所得的磨块，经试验证明，用于玻化砖及石材研磨抛光时，具有高耐磨性、高耐热性特点，使用时间为480-1500分钟，比同等条件下使用的普通磨块，其使用寿命可提高4-10倍，生产成本又相当，这样就大大降低了加工单位面积的玻化砖及石材的成本，节省了频繁更换磨块的时间，提高生产加工的效率及加工质量，从而提高了经济效益，在大批量生产线上研磨抛光玻化砖及石材时，其效益更加显著。同时，本发明磨块还具有抗酸、抗碱、抗水溶性、强度高等特点。
权利要求
1.一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方，它是按抛光精度要求，选取碳化硅的目数，然后用该目数的碳化硅15％-65％及粘结剂85％-35％混合制成，其特征在于所述的粘结剂为陶瓷粘结剂，该陶瓷粘结剂使用下列矿物成份钾长石与钠长石、粘土、石英、高岭土、滑石、石灰石，经混合、研磨、筛分成混合物，其化学成份及含量为5-30％的Al2O3、30-75％的SiO2、0.2-1％的Fe2O3、0.5-3％的MgO、3-30％的K2O与Na2O、0.5-1.5％的TiO2及1-4％的CaO，其中K2O与Na2O可同时使用或单独使用。
2.根据权利要求1所述的磨块，其特征在于该磨块适用于玻化砖及石材系列研磨抛光之用。
3.一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块的制造方法，根据抛光精度的要求，选取碳化硅的目数，然后用该目数的碳化硅按重量比15％-65％及陶瓷粘结剂85％-35％，搅拌均匀成混合磨料，磨料在模具内冲压或注浆成各种形状的磨块，并干燥至含水份小于2％，其特征在于高温烧结，温度为900-1400℃。
4.根据权利要求3所述的磨块，其特征在于该磨块适用于玻化砖及石材系列研磨抛光之用。
全文摘要
本发明涉及一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方及其制备方法,该配方是用碳化硅及陶瓷粘结剂混合而制成,陶瓷粘结剂包括:Al
文档编号C04B28/00GK1260334SQ99116008
公开日2000年7月19日 申请日期1999年1月12日 优先权日1999年1月12日
发明者黄崧基 申请人:黄崧基