专利名称：研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种搅拌分离设备，特别是一种应用于研磨抛光 用磨粒流循环系统的专用搅拌分离器。
(二)
背景技术：
研磨抛光用磨粒流循环系统要求工作时产生的固液两相液体要及 时的分离出金属颗粒同时及时清除金属颗粒，不使金属颗粒再次进入 循环系统以减少对系统设备的损害和对加工工件精度的破坏，从而使 得经过分离后的磨料能及时进入循环系统再次工作。然而，目前市场 上的搅拌分离设备并不能达到研磨抛光用磨粒流循环系统的上述要 求。
(三) 发明内容
为了解决现有的搅拌分离设备不能满足研磨抛光用磨粒流循环系 统的上述要求的不足，本实用新型提出了一种专门为研磨抛光用磨粒 流循环系统设计的专用搅拌分离器。
研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器，包括搅拌桶、 设在搅拌桶内的搅拌浆，所述的搅拌浆由装在搅拌桶上方的电机驱动， 所述的搅拌桶的侧壁上方设有进料口 ，所述搅拌桶的侧壁下方设有出 流口，所述搅拌桶的底壁上设有排污口，所述的搅拌桶内腔与所述的 排污口相通，所述的搅拌桶的底壁内侧上装有永磁体，所述的搅拌桶 的侧壁下方设有回流口。
优选的，所述的排污口设在所述的搅拌桶底壁的中心，所述的永 磁体环置在排污口的上方，所述的永磁体上有与排污口连通的开口 。
优选的，所述的永磁体为永磁铁。
本实用新型的技术构思为通过在搅拌桶的底壁内侧上安装永磁 体，使得固液两相液体经过搅拌分离后，金属颗粒由于磁吸力的作用 而吸附在搅拌桶的底壁上，阻止了金属颗粒再次进入循环系统中，这 样， 一方面使得从出流口排出的液体不含有金属杂质，磨料能及时再 次进入循环系统工作；另一方面也减少了金属颗粒对于系统隔膜泵、 系统管路和加工工件的损害。金属颗粒可以通过搅拌桶底壁上的排污 口排出，方便了及时排污和对于搅拌桶的清洗。
本实用新型的有益效果为(1)磨料能够高效地循环使用；(2)
减少了金属颗粒对系统设备的损害和对加工工件精度的破坏；(3)方
便了及时排污和对于搅拌桶的清洗。
(四)
图l是本实用新型的正视图。
图2是本实用新型的俯视图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型做进一步的说明。
参见图1-2:研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器，
包括搅拌桶3、设在搅拌桶3内的搅拌浆4，所述的搅拌浆4由装在搅 拌桶上方的电机1驱动，所述的搅拌桶3的侧壁上方设有进料口 8， 所述搅拌桶3的侧壁下方设有出流口 9，所述搅拌桶3的底壁上设有 排污口 7，所述的搅拌桶3内腔与所述的排污口 7相通，所述的搅拌 桶3的底壁内侧上装有永磁体6，所述的搅拌桶3的侧壁下方设有回 流口5。所述的永磁体6为永久磁铁。
所述的排污口 7设在所述的搅拌桶3底壁的中心，所述的永磁体 6环置在排污口 7的上方，所述的永磁体6上有与排污口 7连通的开 □。 本实用新型通过在搅拌桶的底壁内侧上安装永磁体6，使得固液 两相液体经过搅拌分离后，金属颗粒由于磁吸力的作用而吸附在搅拌 桶3的底壁上，更容易清洗，也阻止了金属颗粒再次进入循环系统中， 减少了对系统设备的损害和对加工工件精度的破坏。金属颗粒可以通 过搅拌桶3底壁上的排污口 7排出，方便了及时排污和对于搅拌桶的 清洗。 当研磨抛光用磨粒流循环系统工作时，磨料液体从出流口 9流出 后，经过隔膜泵的加压对被加工摸具进行加工后，所产生的金属颗粒 和磨料液体一起从回流口 5进入搅拌桶3。在搅拌浆4的搅拌分离作 用下，磨料液体和金属颗粒进行了分离，由于底壁上的永久磁铁6的 作用，使得金属颗粒被吸附在搅拌桶底部，可以使从出流口9排出的 液体不含有金属杂质，从而确保磨料能再次进入循环系统工作，减少 了金属颗粒对加工工件的破坏，延长了隔膜泵和管路的工作寿命。金 属颗粒可以通过搅拌桶底壁上的排污口 7排出，方便了及时排污和对 于搅拌桶的清洗，同时可以从进料口 8对磨料液体进行补充。 本实用新型是为研磨抛光用磨粒流循环系统专用的搅拌分离器， 本实用新型提高了研磨抛光用磨粒流循环系统的工作效率和安全性 能，使磨料能够高效的循环使用，减少了金属颗粒对加工工件的伤害， 延长了隔膜泵和管路的工作年限，具有良好的经济效益和社会效益。
权利要求1、研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器，包括搅拌桶、设在搅拌桶内的搅拌浆，所述的搅拌浆由装在搅拌桶上方的电机驱动，所述的搅拌桶的侧壁上方设有进料口，所述搅拌桶的侧壁下方设有出流口，所述搅拌桶的底壁上设有排污口，所述的搅拌桶内腔与所述的排污口相通，其特征在于所述的搅拌桶的底壁内侧上装有永磁体，所述的搅拌桶的侧壁下方设有回流口。
2、 如权利要求l所述的研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅 拌分离器，其特征在于:所述的排污口设在所述的搅拌桶底壁的中心， 所述的永磁体环置在排污口的上方，所述的永磁体上有与排污口连通 的开口。
3、 如权利要求1或2所述的研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专 用搅拌分离器，其特征在于所述的永磁体为永磁铁。
专利摘要本实用新型涉及一种研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器，包括搅拌桶、设在搅拌桶内的搅拌桨，所述的搅拌桨由装在搅拌桶上方的电机驱动，所述的搅拌桶的侧壁上方设有进料口，所述搅拌桶的侧壁下方设有出流口，所述搅拌桶的底壁上设有排污口，所述的搅拌桶内腔与所述的排污口相通，所述的搅拌桶的底壁内侧上装有永磁体，所述的搅拌桶的侧壁下方设有回流口。本实用新型的有益效果为(1)磨料能够高效地循环使用；(2)减少了金属颗粒对系统设备的损害和对加工工件精度的破坏；(3)方便了及时排污和对于搅拌桶的清洗。
文档编号B24B57/02GK201175873SQ20082008425
公开日2009年1月7日 申请日期2008年3月10日 优先权日2008年3月10日
发明者佳 周, 利 张, 宪 张, 张生昌, 张金海, 王宗槐, 袁巧玲, 计时鸣, 郑水华 申请人:浙江工业大学