一种按摩喷水装置可更换的足浴盆的制作方法

本实用新型涉及一种足浴盆，特别涉及一种按摩喷水装置可更换的足浴盆。

背景技术：

足浴盆指用于足部冲洗按摩的容器。一般分为两种，一种是电器，带保温按摩功能的塑料盆；另一种是全实木的足浴盆，一般用的是香柏木。足部热浴是中国传统医学发汗疗术中行之有效的理疗、保健方法，当人体足部受到外部温度刺激时，可扩张足部血管，增高皮肤温度，加上足底反射区凸点按摩和磁力作用，推动气血津液循经上行，促进足部和全身的血液循环加速，驱散足底沉积物和消除体内的疲劳物质，确保血液循环顺畅和改善，从而调节各内分泌的机能，促使各内分泌体分泌各种激素。

现有的足浴盆主要存在以下几个缺陷：1、采用水泵作为喷水机构，生产成本高，使用过程中，毛发容易堵塞水泵，烧坏水泵，容易损坏；2、盆内的按摩机构都采用固定的结构，不可拆卸、更换，使用不够方便。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种按摩喷水装置可更换的足浴盆。

为了实现上述目的，本实用新型所采取的措施：

一种按摩喷水装置可更换的足浴盆，包括足浴盆本体，足浴盆本体内安装有电机和水加热装置，足浴盆本体上安装有与电机和水加热装置电连接的控制面板，所述的足浴盆本体内底部通过插接方式安装有可更换的按摩喷水装置，按摩喷水装置包括按摩底座，按摩底座上安装有若干按摩球或/和按摩滚柱，按摩底座内安装驱动按摩球或/和按摩滚柱用的齿轮组，齿轮组上的主动轮通过插孔插接到电机的输出轴上，按摩底座的中间竖直安装有喷水管，喷水管内安装有抽真空叶轮，抽真空叶轮的转轴通过抽水齿轮啮合连接到主动轮上；

所述的控制面板为机械式操作面板或触摸式电子操作面板；

所述的喷水管的顶部水平安装有洒水叶片和压水上盖罩，洒水叶片插接在抽真空叶轮的转轴顶部；

所述的按摩底座上通过U型支架卡接有按摩滚轮，按摩滚轮由左、右两块按摩壳体扣合而成，按摩滚轮内设置有存储腔室，按摩滚轮上开设有若干与存储腔室连通的通孔；

所述的足浴盆本体的外壁下方安装有与足浴盆本体的内部连通的排水软管，足浴盆本体的外壁上方安装有夹持排水软管用的卡夹；

所述的足浴盆本体的内底部注塑有横截面与按摩底座的横截面形状对应的插接凹槽，按摩底座压入在插接凹槽内；

所述的足浴盆本体的上部设置有与由固定上盖和活动上盖组成的上盖体，固定上盖固定在足浴盆本体上，控制面板安装在固定上盖上。

本实用新型的有益效果：实用，省去了原有的水泵，生产成本低，使用方便，根据自身需要，可以更换不同的按摩喷水装置。避免了水泵的堵塞情况，产品使用寿命长。

附图说明

图1，本实用新型的外部结构示意图。

图2，本实用新型的按摩喷水装置底部结构示意图。

具体实施方式

一种按摩喷水装置可更换的足浴盆，包括足浴盆本体1，足浴盆本体1内安装有电机和水加热装置，足浴盆本体1上安装有与电机和水加热装置电连接的控制面板2，所述的足浴盆本体1内底部通过插接方式安装有可更换的按摩喷水装置，按摩喷水装置包括按摩底座3，按摩底座3上安装有若干按摩球4或/和按摩滚柱5，按摩底座3内安装驱动按摩球4或/和按摩滚柱5用的齿轮组6，齿轮组6上的主动轮7通过插孔10插接到电机的输出轴上，按摩底座3的中间竖直安装有喷水管8，喷水管8内安装有抽真空叶轮，抽真空叶轮的转轴通过抽水齿轮9啮合连接到主动轮7上。

本实用新型中，通过抽真空叶轮的转轴、抽水齿轮9、主动轮7和电机带动抽真空叶轮旋转，在喷水管8内形成一个负压，与外界产生一个压差，即可将足浴盆本体1内的水由喷水管8顶部喷出。洒水叶片随抽真空叶轮的转轴一起转动，喷出的水被压水上盖罩31压住后，由洒水叶片洒落在喷水管8的周围。

按摩喷水装置通过插接凹槽插接在足浴盆本体1的内底部，可以根据用户的需要，更换不同按摩结构的按摩喷水装置。

如：按摩喷水装置设置为：在按摩底座3上安装六个按摩球4，左右两侧各三个；或按摩喷水装置设置为：在按摩底座3上安装八个按摩滚柱5，左右两侧各四个；或按摩喷水装置设置为：在按摩底座3上安装两个按摩滚柱5和四个按摩球4，左右两侧均安装两个按摩球4和一个按摩滚柱5，同一侧中，按摩滚柱5设置在两个按摩球4之间(如图1所示)。

所述的控制面板2为机械式操作面板或触摸式电子操作面板。

所述的喷水管8的顶部水平安装有洒水叶片和压水上盖罩31，洒水叶片插接在抽真空叶轮的转轴顶部。

所述的按摩底座3上通过U型支架卡接有按摩滚轮41，按摩滚轮41由左、右两块按摩壳体扣合而成，按摩滚轮41内设置有存储腔室，按摩滚轮41上开设有若干与存储腔室连通的通孔。打开左、右两块按摩壳体，在存储腔室内可以放入泡脚用的药包。避免了药包散落在足浴盆本体1内。

所述的足浴盆本体1的外壁下方安装有与足浴盆本体1的内部连通的排水软管，足浴盆本体1的外壁上方安装有夹持排水软管用的卡夹。

所述的足浴盆本体1的内底部注塑有横截面与按摩底座3的横截面形状对应的插接凹槽，按摩底座3压入在插接凹槽内。

所述的足浴盆本体1的上部设置有与由固定上盖71和活动上盖组成的上盖体，固定上盖71固定在足浴盆本体1上，控制面板2安装在固定上盖71上。