疏通剂自动下发平台的制作方法

文档序号:17378800发布日期:2019-04-12 23:36阅读:153来源:国知局

本发明涉及亚克力浴缸领域,尤其涉及一种疏通剂自动下发平台。



背景技术:

亚克力浴缸是由一种pmma塑料材料制作而成的浴缸,亚克力浴缸缸体由面层(亚克力层)和里层(玻纤树脂加固层)复合而成。特点是造型丰富、重量轻、表面光洁度好,而且价格低廉。但由于亚克力材料存在耐高温、耐压、耐磨能力差,表面易老化的缺点。

亚克力材料表面为聚丙酸甲脂,背面采用树脂石膏加玻璃纤维以增强承载能力。厚度通常为3~10mm。其优点在于:容易成型,散热较慢保温性能好,水温可维持较长时间,接触其表面无冰冷感觉,触感温暖,并且容易擦洗清洁等,重量轻,易安装,色彩变化丰富。由于以上特点,亚克力浴缸造价较便宜,这种材料的缺点是易挂脏,不耐磨损,使用一些时间后,容易表面呈显灰色。



技术实现要素:

为了解决现有技术中亚克力浴缸缺乏头发自动疏通机制的技术问题,本发明提供了一种疏通剂自动下发平台,采用发体提取设备,用于基于头发亮度值分布范围确定图案中的各个头发像素点,并基于所述各个头发像素点的数量确定实时发体密度;还采用疏通剂下发设备,与所述发体提取设备连接,用于基于所述实时发体密度确定下发的疏通剂的剂量,并按照所述剂量将疏通剂下发到亚克力浴缸的出水孔内,其中,所述剂量与所述实时发体密度成正比;基于图像的噪声类型数量,确定用于选择的目标的数量,并对每一个目标所对应的图案的熵值进行分析,将熵值最小的图案作为有效图案;在图像平滑处理的基础上,对平滑处理图像执行与采集到的直方图均衡等级对应的直方图均衡处理,以输出自适应处理图像。

根据本发明的一方面,提供了一种疏通剂自动下发平台,所述平台包括:

液位测量设备,设置在亚克力浴缸内,用于检测亚克力浴缸内的水体的实时高度,以作为当前浴缸液位输出;进水管道,其一端与亚克力浴缸的侧面进水口连接,另一端与墙面内的供水pvc管连接;电子控制开关,位于进水管道与墙面内的供水pvc管连接的连接头内,还与所述液位测量设备连接,用于在所述当前浴缸液位未达到预设高度阈值时,打开进水管道与墙面内的供水pvc管的连接,所述电子控制开关还用于在所述当前浴缸液位达到预设高度阈值时,关闭进水管道与墙面内的供水pvc管的连接;嵌入式成像设备,设置在亚克力浴缸的出水孔的内部,用于对出水孔进行成像操作,以获得出水孔成像图像;动态滤波机构,与所述嵌入式成像设备连接,用于接收所述出水孔成像图像,并基于所述出水孔成像图像的噪声分布情况对所述出水孔成像图像执行相应的动态滤波处理,以获得动态滤波图像;内容调整设备,与所述动态滤波机构连接,用于接收所述动态滤波图像,对所述动态滤波图像执行图像平滑处理,以获得并输出对应的平滑处理图像;参数采集设备,与所述内容调整设备连接,用于测量所述平滑处理图像的信号的直方图均衡等级,并在所述直方图均衡等级大于等于预设等级阈值时,发出第一控制指令,以及在所述直方图均衡等级小于预设等级阈值时,发出第二控制指令;自适应处理设备,与所述参数采集设备连接,用于在接收到所述第二控制指令时,对所述平滑处理图像执行与所述直方图均衡等级对应的直方图均衡处理,以输出自适应处理图像,还用于在接收到所述第一控制指令时,将所述平滑处理图像作为自适应处理图像输出;目标识别设备,与所述自适应处理设备连接,用于接收所述自适应处理图像,识别所述自适应处理图像中的各个目标,并输出所述各个目标;面积比较设备,与所述目标识别设备连接,用于接收所述各个目标,并对所述各个目标占据所述自适应处理图像的各个面积比例进行从小到大排序,将面积比例靠后的多个目标抓取并输出,所述自适应处理图像的噪声类型越多,抓取的面积比例靠后的多个目标的数量越多;参数分析设备,与所述面积比较设备连接,用于对每一个目标所对应的图案的熵值进行分析,将熵值最小的图案作为参考熵值图案;发体提取设备,与所述参数分析设备连接,用于接收所述参考熵值图案,基于头发亮度值分布范围确定所述参考熵值图案中的各个头发像素点,并基于所述各个头发像素点的数量确定实时发体密度;疏通剂下发设备,与所述发体提取设备连接,用于基于所述实时发体密度确定下发的疏通剂的剂量,并按照所述剂量将疏通剂下发到亚克力浴缸的出水孔内,所述剂量与所述实时发体密度成正比;其中,所述目标识别设备、所述面积比较设备和所述参数分析设备共用同一个供电输入端。

更具体地,在所述疏通剂自动下发平台中:分别采用不同型号的可编程逻辑器件pld来实现所述目标识别设备、所述面积比较设备和所述参数分析设备。

更具体地,在所述疏通剂自动下发平台中,还包括:

tf存储芯片,与所述自适应处理设备连接,用于保存了直方图均衡等级与执行直方图均衡处理强度之间的对应关系。

更具体地,在所述疏通剂自动下发平台中:所述自适应处理设备由指令接收单元、均衡处理单元和图像输出单元组成,所述均衡处理单元分别与所述指令接收单元和所述图像输出单元连接。

更具体地,在所述疏通剂自动下发平台中:所述动态滤波机构包括类型检测设备,用于接收所述出水孔成像图像,对所述出水孔成像图像进行噪声类型分析以确定所述出水孔成像图像中的噪声幅值最大的噪声类型以作为主要噪声类型输出,其中,所述出水孔成像图像中的噪声类型包括敏感元器件产生的内部噪声、传输信道的干扰噪声、电器机械运动带来的抖动噪声以及感光材料引起的颗粒噪声。

更具体地,在所述疏通剂自动下发平台中:所述动态滤波机构包括模板定制设备,与所述类型检测设备连接,用于接收所述主要噪声类型,并基于所述主要噪声类型确定中值滤波模板。

更具体地,在所述疏通剂自动下发平台中:所述动态滤波机构包括目标判断设备,与所述类型检测设备连接,用于判断所述出水孔成像图像中的目标轮廓。

更具体地,在所述疏通剂自动下发平台中:所述动态滤波机构包括像素值分析设备,分别与所述模板定制设备和所述目标判断设备连接,用于对组成所述目标轮廓的每一个轮廓像素,基于所述中值滤波模板根据以其为中心的中值滤波窗口内的像素分布确定不同的滤波策略,所述基于所述中值滤波模板根据以其为中心的中值滤波窗口内的像素分布确定不同的滤波策略包括:当中值滤波窗口内的目标像素数量大于等于中值滤波窗口内的非目标像素数量时,取各个目标像素的像素值的均值作为所述轮廓像素的像素值,当中值滤波窗口内的目标像素数量小于中值滤波窗口内的非目标像素数量时,取各个非目标像素的像素值的均值作为所述轮廓像素的像素值;其中,所述像素值分析设备还用于对所述出水孔成像图像中不属于所述目标轮廓的每一个非轮廓像素,基于所述中值滤波模板根据以其为中心的中值滤波窗口内的所有像素的像素值的均值作为所述非轮廓像素的像素值;所述像素值分析设备输出动态滤波图像。

具体实施方式

下面将对本发明的疏通剂自动下发平台的实施方案进行详细说明。

亚克力浴缸特点是造型丰富、重量轻、表面光洁度好,而且价格低廉。

亚克力浴缸的热传递很慢,因此保温效果良好,即使是在寒冷的冬天,皮肤接触亚克力浴缸体表也不会感觉到“冰冷”的感觉。人体与亚克力浴缸碰撞,一般不会碰痛躯体,是制造豪华浴缸的必选材料。

亚克力是从深海石油中提炼的一种副产品,制造成浴缸相比铸铁和钢浴缸的原料成本会低许多,且性能非常好,因此具有价格优势和更强的市场竞争力。具有一定程度的自我复原特性,若是亚克力浴缸的表面有划痕,浴缸本身会有一定程度的自我修复功能。而且亚克力浴缸的表面光滑洁白,清洗方便。

为了克服上述不足,本发明搭建了一种疏通剂自动下发平台,能够有效解决相应的技术问题。

根据本发明实施方案示出的疏通剂自动下发平台包括:

液位测量设备,设置在亚克力浴缸内,用于检测亚克力浴缸内的水体的实时高度,以作为当前浴缸液位输出;

进水管道,其一端与亚克力浴缸的侧面进水口连接,另一端与墙面内的供水pvc管连接;

电子控制开关,位于进水管道与墙面内的供水pvc管连接的连接头内,还与所述液位测量设备连接,用于在所述当前浴缸液位未达到预设高度阈值时,打开进水管道与墙面内的供水pvc管的连接,所述电子控制开关还用于在所述当前浴缸液位达到预设高度阈值时,关闭进水管道与墙面内的供水pvc管的连接;

嵌入式成像设备,设置在亚克力浴缸的出水孔的内部,用于对出水孔进行成像操作,以获得出水孔成像图像;

动态滤波机构,与所述嵌入式成像设备连接,用于接收所述出水孔成像图像,并基于所述出水孔成像图像的噪声分布情况对所述出水孔成像图像执行相应的动态滤波处理,以获得动态滤波图像;

内容调整设备,与所述动态滤波机构连接,用于接收所述动态滤波图像,对所述动态滤波图像执行图像平滑处理,以获得并输出对应的平滑处理图像;

参数采集设备,与所述内容调整设备连接,用于测量所述平滑处理图像的信号的直方图均衡等级,并在所述直方图均衡等级大于等于预设等级阈值时,发出第一控制指令,以及在所述直方图均衡等级小于预设等级阈值时,发出第二控制指令;

自适应处理设备,与所述参数采集设备连接,用于在接收到所述第二控制指令时,对所述平滑处理图像执行与所述直方图均衡等级对应的直方图均衡处理,以输出自适应处理图像,还用于在接收到所述第一控制指令时,将所述平滑处理图像作为自适应处理图像输出;

目标识别设备,与所述自适应处理设备连接,用于接收所述自适应处理图像,识别所述自适应处理图像中的各个目标,并输出所述各个目标;

面积比较设备,与所述目标识别设备连接,用于接收所述各个目标,并对所述各个目标占据所述自适应处理图像的各个面积比例进行从小到大排序,将面积比例靠后的多个目标抓取并输出,所述自适应处理图像的噪声类型越多,抓取的面积比例靠后的多个目标的数量越多;

参数分析设备,与所述面积比较设备连接,用于对每一个目标所对应的图案的熵值进行分析,将熵值最小的图案作为参考熵值图案;

发体提取设备,与所述参数分析设备连接,用于接收所述参考熵值图案,基于头发亮度值分布范围确定所述参考熵值图案中的各个头发像素点,并基于所述各个头发像素点的数量确定实时发体密度;

疏通剂下发设备,与所述发体提取设备连接,用于基于所述实时发体密度确定下发的疏通剂的剂量,并按照所述剂量将疏通剂下发到亚克力浴缸的出水孔内,所述剂量与所述实时发体密度成正比;

其中,所述目标识别设备、所述面积比较设备和所述参数分析设备共用同一个供电输入端。

接着,继续对本发明的疏通剂自动下发平台的具体结构进行进一步的说明。

在所述疏通剂自动下发平台中:分别采用不同型号的可编程逻辑器件pld来实现所述目标识别设备、所述面积比较设备和所述参数分析设备。

在所述疏通剂自动下发平台中,还包括:

tf存储芯片,与所述自适应处理设备连接,用于保存了直方图均衡等级与执行直方图均衡处理强度之间的对应关系。

在所述疏通剂自动下发平台中:所述自适应处理设备由指令接收单元、均衡处理单元和图像输出单元组成,所述均衡处理单元分别与所述指令接收单元和所述图像输出单元连接。

在所述疏通剂自动下发平台中:所述动态滤波机构包括类型检测设备,用于接收所述出水孔成像图像,对所述出水孔成像图像进行噪声类型分析以确定所述出水孔成像图像中的噪声幅值最大的噪声类型以作为主要噪声类型输出,其中,所述出水孔成像图像中的噪声类型包括敏感元器件产生的内部噪声、传输信道的干扰噪声、电器机械运动带来的抖动噪声以及感光材料引起的颗粒噪声。

在所述疏通剂自动下发平台中:所述动态滤波机构包括模板定制设备,与所述类型检测设备连接,用于接收所述主要噪声类型,并基于所述主要噪声类型确定中值滤波模板。

在所述疏通剂自动下发平台中:所述动态滤波机构包括目标判断设备,与所述类型检测设备连接,用于判断所述出水孔成像图像中的目标轮廓。

在所述疏通剂自动下发平台中:所述动态滤波机构包括像素值分析设备,分别与所述模板定制设备和所述目标判断设备连接,用于对组成所述目标轮廓的每一个轮廓像素,基于所述中值滤波模板根据以其为中心的中值滤波窗口内的像素分布确定不同的滤波策略,所述基于所述中值滤波模板根据以其为中心的中值滤波窗口内的像素分布确定不同的滤波策略包括:当中值滤波窗口内的目标像素数量大于等于中值滤波窗口内的非目标像素数量时,取各个目标像素的像素值的均值作为所述轮廓像素的像素值,当中值滤波窗口内的目标像素数量小于中值滤波窗口内的非目标像素数量时,取各个非目标像素的像素值的均值作为所述轮廓像素的像素值;

其中,所述像素值分析设备还用于对所述出水孔成像图像中不属于所述目标轮廓的每一个非轮廓像素,基于所述中值滤波模板根据以其为中心的中值滤波窗口内的所有像素的像素值的均值作为所述非轮廓像素的像素值;所述像素值分析设备输出动态滤波图像。

另外,可以采用cpld器件来实现所述发体提取设备。cpld具有编程灵活、集成度高、设计开发周期短、适用范围宽、开发工具先进、设计制造成本低、对设计者的硬件经验要求低、标准产品无需测试、保密性强、价格大众化等特点,可实现较大规模的电路设计,因此被广泛应用于产品的原型设计和产品生产(一般在10,000件以下)之中。几乎所有应用中小规模通用数字集成电路的场合均可应用cpld器件。cpld器件已成为电子产品不可缺少的组成部分,它的设计和应用成为电子工程师必备的一种技能。cpld是一种用户根据各自需要而自行构造逻辑功能的数字集成电路。其基本设计方法是借助集成开发软件平台,用原理图、硬件描述语言等方法,生成相应的目标文件,通过下载电缆(“在系统”编程)将代码传送到目标芯片中,实现设计的数字系统。

采用本发明的疏通剂自动下发平台,针对现有技术中亚克力浴缸头发堵塞疏通不力的技术问题,通过采用发体提取设备,用于基于头发亮度值分布范围确定图案中的各个头发像素点,并基于所述各个头发像素点的数量确定实时发体密度;还采用疏通剂下发设备,与所述发体提取设备连接,用于基于所述实时发体密度确定下发的疏通剂的剂量,并按照所述剂量将疏通剂下发到亚克力浴缸的出水孔内,其中,所述剂量与所述实时发体密度成正比;基于图像的噪声类型数量,确定用于选择的目标的数量,并对每一个目标所对应的图案的熵值进行分析,将熵值最小的图案作为有效图案;在图像平滑处理的基础上,对平滑处理图像执行与采集到的直方图均衡等级对应的直方图均衡处理,以输出自适应处理图像;从而解决了上述技术问题。

可以理解的是,虽然本发明已以较佳实施例披露如上,然而上述实施例并非用以限定本发明。对于任何熟悉本领域的技术人员而言,在不脱离本发明技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

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