一种抛釉砖的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种抛釉砖，其是一种陶瓷建材产品。一种抛釉砖,其特征在于，由下至上包括：坯体层（101），印花图案层（301），釉面层（401），其中所述釉面层（401）由至少两层装饰釉层叠加而成。同现有技术相比，本实用新型具有如下优势：将原有单层结构的釉面层改为由至少两层装饰釉层叠加而成的结构，可以减少坯体变形，进而减少因为过抛造成的露底缺陷；而且，这种结构在两层装饰釉层的结合处为凹凸嵌接，会使印花图案层更为立体，装饰釉层的装饰效果也能和印花图案有机结合，丰富产品品系，降低废品率。
【专利说明】一种抛釉砖
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种陶瓷建材产品，更具体地涉及一种抛釉砖。
【背景技术】
[0002]抛釉砖是近年来新兴的一种建筑陶瓷产品，其在素坯砖坯上印花，然后施以透明釉，入窑烧成后抛光，因此集合了抛光砖、仿古砖、瓷片三种产品的优势，产品完全释放了釉面砖哑色暗光的含蓄性，解决了半抛砖易藏污的缺陷，具备了抛光砖的光泽度、瓷质硬度，同时也拥有仿古砖的釉面高仿效果，以及瓷片釉面丰富的印刷效果。
[0003]因为抛釉砖的釉面层较薄，通常只有0.5?1.5mm，而且还需要抛磨加工处理，因此非常容易露底，损伤印花图案层造成缺陷，而且制品的印花图案层效果仅能为平面，无立体质感。
【发明内容】
[0004]鉴于【背景技术】中提出的问题，本实用新型提供一种新型的抛釉砖，其由下至上包括:坯体层，印花图案层，釉面层，其中所述釉面层为大于等于两层釉复合形成的装饰釉层。因为不同釉料的烧成膨胀收缩系数不同，两层或两层釉复合，两层釉面结合处会因为烧成时的膨胀收缩系数不一致而具有凹凸起伏，其也能减少釉面层与坯体层的应力，减少坯体层翘弯，进而减少抛光时的过抛露底问题。
[0005]另外，透过其会使釉面层下的印花图案层图案具有立体效果。
[0006]进一步优选，使印花图案层未布满坯体层表面，且印花图案层位于坯体层表面中部位置会达到更优的效果。鉴于釉面层在烧成过程中的膨胀收缩系数大于坯体层，通常砖体边缘处会有一定程度的翘弯，抛釉时，也通常是边缘区域出现过抛露底缺陷。印花图案层未布满坯体层表面，且印花图案层位于坯体层表面中部位置，在进行抛釉处理时，可以减少对印花图案层的损伤。
[0007]另外，更进一步优选，本实用新型所提供的抛釉砖产品，在印花图案层呈现的图案周围具有金属光泽层，金属光泽层能弥补因过抛对印花图案层的损伤，还能使整个产品装饰效果更强，不丧失美感，尤其是以金色或银色金属光泽釉装饰时，产品更具高贵典雅韵味，还能减少废品率。
[0008]一种新型的抛釉砖，其由下至上包括:坯体层，印花图案层，釉面层，其中所述釉面层由至少两层装饰釉层叠加而成。
[0009]所述装饰釉层包括但不限于有色窑变釉层、有色裂纹釉层、有色析晶釉层。
[0010]优选地，在上述抛釉砖中，印花图案层覆盖坯体层的一部分，并位于坯体层中部。
[0011]如上所述的抛釉砖，还包括金属光泽层。其中所述的金属光泽层位于印花图案层和坯体层之间，并完全覆盖坯体层。进一步优选，在金属光泽层和印花图案层之间还有一层遮盖层，遮盖层与印花图案层覆盖区域保持一致，将印花图案层和金属光泽层分隔开。
[0012]另外，还可以将所述的金属光泽层和印花图案层在同一层，金属光泽层覆盖印花层未遮盖的还体层。
[0013]如上所述的抛釉砖，优选地，在坯体层边缘设置多条倾斜的凹陷纹路，纹路长度为I?15mm,凹陷深度为0.5?1mm。
[0014]同现有技术相比，本实用新型具有如下优势:将原有单层结构的釉面层改为由至少两层装饰釉层叠加而成的结构，可以减少坯体变形，进而减少因为过抛造成的露底缺陷；而且，这种结构在两层装饰釉层的结合处为凹凸嵌接，会使印花图案层更为立体，装饰釉层的装饰效果也能和印花图案有机结合，丰富产品品系，降低废品率。
[0015]优选方式，可以改变原有完全覆盖坯体层的印花方式，进一步减少抛釉砖因为过抛而出现的露底缺陷。还可以将金属光泽装饰与印花图案装饰有机结合，丰富现有产品品系，还能降低废品率。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1为本实用新型实施例1横截面示意图。
[0017]图2为釉面层401局部横截面放大示意图。
[0018]图3为本实用新型实施例2的俯视示意图，在本实施例中印花图案层的图案为荷花，其周围为金色的金属光泽层。
[0019]图4为本实用新型实施例2的横截面示意图。
[0020]图5为本实用新型实施例3的横截面示意图。
[0021]图6为本实用新型实施例5的横截面示意图。
[0022]附图标号说明:101—还体层；201—金属光泽层；301 —印花图案层；401—釉面层，401A、40IB—装饰釉层，501一遮盖层。
【具体实施方式】
[0023]结合附图和适当的优选实施例对本实用新型方案做具体说明。应当理解，附图不是严格按照比例绘制，而且其中可能会有一些本领域普通技术人员可以理解的缺省。
[0024]实施例1
[0025]参照附图1和附图2，在本实施例中，选择印花图案层为部分覆盖坯体层结构。当然，本领域技术人员应该理解印花图案层完全覆盖坯体层也可以，只需选择合适的印花图案模板既可。
[0026]在本实施例中所提供的抛釉砖，其由下至上为坯体层101，印花图案层301，釉面层401，其中轴面层由至少两层装饰轴层置加而成。
[0027]可以通过如下工艺制备实施例1所述抛釉砖产品。选择长石、粘土、砂、添加剂等常规陶瓷坯体配方原料，通过球磨、除铁、陈腐、造粒等步骤制成粉料，通过冲压的方式制成砖坯。清扫坯体表面，通过喷墨印花的方式在坯体中部形成印花图案，然后以至少两种装饰釉层复合形成釉面层401，装饰釉可以是有色窑变釉、有色裂纹釉、有色析晶釉。干燥后，入窑辊道窑在1050?1200°C下，60?120分钟烧成，然后经抛磨、倒角、抛光后得到制品。
[0028]当然，优选地，也是本领域公知，可以在坯体层101上施一层底釉后再印花形成印花装饰层。
[0029]实施例2[0030]参照附图3和附图4，在本实施例中所提供的抛釉砖，其由下至上为坯体层101，金属光泽层201，印花图案层301，釉面层401，釉面层由至少两层装饰釉层叠加而成。其中金属光泽层201完全覆盖坯体层101，印花图案层301位于坯体层中部，其为部分覆盖，在其边缘为金属光泽层。
[0031]可以通过如下工艺制备实施例1所述抛釉砖产品。选择长石、粘土、砂、添加剂等常规陶瓷坯体配方原料，通过球磨、除铁、陈腐、造粒等步骤制成粉料，通过冲压的方式制成砖坯。清扫坯体表面，施一层金属光泽釉，然后再通过喷墨印花的方式在坯体中部形成荷花图案，荷花图案未覆盖的部分为显露的金属光泽釉。然后以至少两种装饰釉层复合形成釉面层401，装饰釉可以是有色窑变釉、有色裂纹釉、有色析晶釉。干燥后，入窑辊道窑在1050?1200°C下，60?120分钟烧成，然后经抛磨、倒角、抛光后得到制品。
[0032]当然，优选地，也是本领域公知，可以在坯体层101上施一层底釉后再施金属光泽轴。
[0033]实施例3
[0034]参照附图5，本实施例提供的抛釉砖，其由下至上依次为坯体层101，底釉层(附图中未绘出)，印花图案层301和在印花图案层边缘并和印花图案层处于同一层的金属光泽层201，轴面层401，轴面层由至少两层装饰轴层置加而成。
[0035]本实施例的抛釉砖可以通过如下工艺来制备。选择长石、粘土、砂、添加剂等常规陶瓷坯体配方原料，通过球磨、除铁、陈腐、造粒等步骤制成粉料，通过冲压的方式制成砖坯。清扫坯体表面，施一层遮盖力强的底釉，然后在底釉上印花，形成印花图案层，印花图案层位于坯体中部，并未完全覆盖坯体，接着用金属光泽釉填充坯体未印花区域，使印花图案层和金属光泽层位于同一层，然后以至少两种装饰釉层复合形成釉面层401，装饰釉可以是有色窑变釉、有色裂纹釉、有色析晶釉。干燥后，入窑辊道窑在1050?1200°C下，60?120分钟烧成，然后经抛磨、倒角、抛光后得到制品。
[0036]实施例4
[0037]在本实施例中，为了进一步解决【背景技术】中提到的抛光时容易露底的问题，提出此改进实施例。
[0038]鉴于露底缺陷多集中于边缘区域，在本实施例中通过对坯体层101进行改进，在坯体层101边缘再设置一些倾斜的凹陷纹路，纹路长度为I?15mm，凹陷深度为0.5?1mm。通过以上纹路吸收烧成时的收缩应力，减少坯体变形。又因为以上改进都位于坯体边缘，基本避开印花图案层，在本实用新型所述条件下，不会破坏装饰效果呈现。
[0039]实施例5
[0040]因为形成金属光泽层的金属光泽釉多数会对形成印花图案层的印油/油墨发色有影响，为了解决此问题，本发明提供实施例4。
[0041]参照实施例2和附图6，在实施例1基础上，施金属釉后在金属釉上形成遮盖层501，遮盖层图案与印花图案层一致，形成遮盖层可以采用包括但不限于丝网或数码喷印的方式，遮盖层优选为白度较高的乳浊釉、印油或白色油墨，然后再形成印花图案层，通过遮盖层将印花图案层分隔开，避免金属光泽釉影响形成印花图案层的印油/油墨发色。
[0042]实施例6
[0043]在实施例1的基础上，只将印花图案层喷印于坯体层中部也能实现降低过抛露底的缺陷，但相较以上1-5实施例，废品率有所提高，而且装饰效果也不够丰富。
[0044] 以上所述的仅是本实用新型的优选实例性实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。
【权利要求】
1.一种抛釉砖，其特征在于，由下至上包括:坯体层(101 )，印花图案层(301 )，釉面层(401)，其中所述釉面层(401)由至少两层装饰釉层叠加而成。
2.如权利要求1所述的抛釉砖，其特征在于，所述装饰釉层设置为有色窑变釉装饰层、有色裂纹釉装饰层、有色析晶釉装饰层中的一种。
3.如权利要求1或2所述的抛釉砖，其特征在于，所述印花图案层覆盖坯体层的一部分，并位于坯体层中部。
4.如权利要求3所述的抛釉砖，其特征在于，其还包括金属光泽层(201)，所述的金属光泽层(201)位于印花图案层(301)和坯体层(101)之间，金属光泽层(201)完全覆盖坯体层(101)。
5.如权利要求4所述的抛釉砖，其特征在于，在所述金属光泽层(201)和印花图案层(301)之间还有一层遮盖层(501)，遮盖层(501)与印花图案层(301)覆盖区域保持一致，并将印花图案层(301)和金属光泽层(201)分隔开。
6.如权利要求3所述的抛釉砖，其特征在于，其还包括金属光泽层(201)，所述的金属光泽层(201)和印花图案层(301)在同一层，金属光泽层(201)覆盖印花层(301)未遮盖的坯体层(101)。
7.如权利要求1、2、4、5、6中任意一项所述的抛釉砖，其特征在于，在所述坯体层(101)边缘设置多条倾斜的凹陷纹路，纹路长度为I?15mm，凹陷深度为0.5?1mm。
【文档编号】B32B3/02GK203383453SQ201320232543
【公开日】2014年1月8日 申请日期:2013年5月3日 优先权日:2013年5月3日
【发明者】周燕, 丘云灵, 曾德朝 申请人:广东东鹏陶瓷股份有限公司, 广东东鹏控股股份有限公司, 丰城市东鹏陶瓷有限公司, 佛山市东鹏陶瓷有限公司