一种抛釉砖的制备方法与流程

本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种抛釉砖的制备方法。

背景技术：

目前市场上对于现有的抛釉砖生产，由于其坯体四边没有围边环和布料腔结构，因此在装饰层施布釉料时，因为釉料流动性过大时，釉层的厚度无法铺厚，其厚度通常在2mm以下，且不能保证釉面平整度，甚至在抛釉过程中，因为厚度不够而担心釉层被抛走，难以确保釉层的完整性和常有波浪纹的出现。

现有通常是通过工艺叠加的方法增加抛釉砖的装饰釉层，但仍然无法进行有效地堆厚，最终导致目前抛釉砖存在其装饰釉层的镜面效果和透度立体感不足，装饰效果比较单一的缺陷。

技术实现要素：

本发明的目的在于提出一种可以增大装饰釉层厚度的抛釉砖的制备方法。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：

A、将粉料均匀铺设于冲压模具的下模的模腔内，由上模冲压压制获得具有围边环结构的坯体，所述上模的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模的模腔的布料面积，所述围边环在所述坯体的表面环绕形成布料腔，转移坯体备用；

B、将步骤A获得的坯体干燥后，向其布料腔内施釉，形成装饰釉层；

C、将步骤B所获得的具有装饰釉层的坯体入窑烧制，烧成；

D、抛光打磨：将烧成后的瓷砖，进行抛光打磨，获得具有装饰釉层的瓷砖。

更进一步说明，对压制好的坯体还可通过图案装饰使坯体获得图案纹理， 所述图案装饰为一种或几种装饰方式的叠加，所述装饰方式为丝印、滚筒、喷墨，布釉，布浆等，在图案装饰后再进行布施透明釉或透明微晶玻璃熔块。

进一步说明，所述布料腔的高度为3-10mm。

优选的，所述步骤D的抛光打磨还包括切割工序，将烧成获得的瓷砖的围边环结构切割去除。

优选的，所述步骤B中的施釉材料为透明釉料、装饰性釉料或功能性釉料中的至少一种。

进一步说明，所述步骤B的施釉分为两层或两层以上的分层施釉。

优选的，步骤A压制后的坯体在进入步骤B前，通过抛坯工序或辊压工序在所述坯体的表面设置有纹理图案。

优选的，所述步骤B中的施釉材料为透明釉料，步骤A中使用的冲压模具的上模的冲压面还设置有纹理图案。

优选的，在所述步骤B中的施釉前或施釉过程中，向布料腔内加入熔粒或装饰物，所述装饰物为烧成后不烧失的装饰颗粒。

所述布料腔设有分界凸起，并由所述分界凸起间隔形成多个布料分腔，所述分界凸起的高度与围边环的高度一致。

本发明的有益效果：在本发明的抛釉砖生产中，施釉时釉层的厚度由布料腔的高度决定，通过施施获得具有一定厚度的装饰釉层，保证了釉面的平整度，由于装饰釉层的厚度增大，增强了装饰层的镜面效果和透度立体感，并且在抛光打磨时无需担心釉层被抛走，确保釉层的完整性，减少波浪纹的出现，大大的提高瓷砖的产品质量以及装饰效果。

附图说明

图1是本发明一个实施例的冲压模具和坯体的结构示意图；

图2是本发明一种抛釉砖的结构示意图；

图3是本发明多个实施例的抛釉砖的结构示意图；

图4是本发明一个实施例的一种抛釉砖的生产制备流程图；

图5是本发明一个实施例的一种抛釉砖的生产制备流程图；

其中：冲压模具1，下模11，上模12，坯体2，围边环21，布料腔22，分界凸起23，布料分腔24，纹理图案25，装饰釉层3。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

如图1所示，一种抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：

A、将粉料均匀铺设于冲压模具1的下模11的模腔内，由上模12冲压压制获得具有围边环21结构的坯体2，所述上模12的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模11的模腔的布料面积，所述围边环21在所述坯体2的表面环绕形成布料腔22，转移坯体2备用；

B、将步骤A获得的坯体2干燥后，向其布料腔22内施釉，形成装饰釉层3；

C、将步骤B所获得的具有装饰釉层3的坯体2入窑烧制，烧成；

D、抛光打磨：将烧成后的瓷砖，进行抛光打磨，获得具有装饰釉层的瓷砖。

本发明的抛釉砖生产中，使用的坯体2具有围边环21和布料腔22结构，施釉时釉层的厚度由布料腔22的高度决定，与现有的没有围边环和布料腔结构的普通坯体相比，普通坯体的施釉层的厚度最大不超过2mm，而且其与釉料的比重或流动性具有大大的关联性，釉料流动性过大时，釉层的厚度根本无法铺厚，其厚度一般只能达到1mm，而本发明的制备方法中所制备获得的釉层，其釉层最小的厚度与釉料自身的比重或流动性不相关，只与布料腔22或围边环21 的高度相关，釉料限制于由围边环21环绕形成的布料腔22内，通过布施获得具有一定厚度的装饰釉层3，由于围边环21的高度高于围边内图案纹理最高点的高度，施釉以液体的形式灌注进布料腔22内，由于重力作用及液体之间的相融性，可以很好的保证了一个水平的釉面平整度；再将具有装饰釉层3的坯体2入窑烧制、抛光打磨后即可获得具有装饰釉层3的瓷砖。装饰釉层3的厚度增大，增强了装饰层的镜面效果和透度立体感，另外，装饰釉层的厚度增加，抛光打磨时无需担心釉层被抛走，确保釉层的完整性，减少波浪纹的出现，保证砖面的平整度，大大的提高瓷砖的产品质量以及装饰效果。

更进一步的说明，所述布料腔22的高度为3-10mm。布料腔22高度的设定决定了装饰釉层的厚度，因此设置布料腔的高度在3-10mm，保证了装饰釉层的布施厚度，增强了装饰釉层的镜面效果和透度立体感。

更进一步的说明，所述步骤D的抛光打磨还包括切割工序，将烧成获得的瓷砖的围边环21结构切割去除。使瓷砖可制备成与市场的抛釉砖结构相似的瓷砖，其不同点在于本发明制备的瓷砖，其装饰层的厚度比原有的抛釉砖的厚度要大，且其生产的成品合格率更高，减少次品的出现。

更进一步的说明，所述步骤B中的施釉材料为透明釉料、装饰性釉料或功能性釉料中的至少一种。由于透明釉具有一定的透光性，选择透明釉进行施釉，可使砖面具有一定的立体透光效果，增加了砖面的装饰效果。

更进一步的说明，所述步骤B的施釉分为两层或两层以上的分层施釉。进行两层或多层的分层施釉，一方面保证釉层的厚度，确保釉层的完整性；另一方面提高了装饰釉层的透度立体感和立体透光效果，减少波浪纹的出现，也保证砖面的平整度。

更进一步的说明，步骤A压制后的坯体2在进入步骤B前，通过图案装饰 在所述坯体2的表面设置有纹理图案25。所述图案装饰为一种或几种装饰方式的叠加，所述装饰方式为丝印、滚筒、喷墨，布釉，布浆等，在图案装饰后再进行布施透明釉或透明微晶玻璃熔块。

更进一步的说明，所述步骤B中的施釉材料为透明釉料，步骤A中使用的冲压模具1的上模12的冲压面还设置有纹理图案。

通过上模12冲压面的纹理图案设计或压制后的抛坯处理，使坯体表面具有纹理图案，结合一定厚度的装饰釉层3，增强的烧成后砖面的可视效果，丰富的抛釉砖的装饰效果。

更进一步的说明，在所述步骤B中的施釉前或施釉过程中，向布料腔22内加入熔粒或装饰物。利用在釉层加入熔粒或装饰物，可增加砖面的装饰层的多样性，从而提高其装饰效果。

更进一步的说明，所述装饰物为烧成后不烧失的装饰颗粒。在布料腔22中加入以固体形式熔粒或装饰物，通过透明釉的包裹覆盖，形成了足够厚度的装饰层。其中，装饰物可为烧成后不烧失的装饰颗粒，也可为云母片等，熔粒可以为与釉料颜色不同的熔块粒，使装饰釉层具有琥珀的装饰效果，形成琥珀釉层，釉面如同琥珀一般晶莹剔透，实现琥珀般的视觉效果，其厚度可达3mm或3mm以上的釉层，有别于市场上主流的全抛釉、厚抛釉或薄微晶等产品，新增了具有琥珀般装饰效果的瓷砖，且其在生产过程中，根据不同的需求可制备获得不同的琥珀釉效果，装置效果十分丰富。

更进一步的说明，所述布料腔22设有分界凸起23，并由所述分界凸起23间隔形成多个布料分腔24，所述分界凸起23的高度与围边环21的高度一致。在布料腔22里面设有分界凸起23形成多个布料分腔24，可实现不同腔的布料，实现具有拼接效果的抛釉砖。在布料腔22里面设有分界凸起23形成多个布料 分腔24，可实现不同腔的布料，实现具有拼接效果的微晶玻璃瓷砖，另外，还可对其拼接处进行切割，对砖体进行分割，可适应不同尺寸的安装使用，分界凸起33的设计使其切割不影响砖面装饰效果。

实施例1

如图4所示，一种抛釉砖的制备方法：

A、如图1所示，将粉料均匀铺设于冲压模具1的下模11的模腔内，由上模12冲压压制获得具有围边环21和结构的坯体2，所述上模12的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模11的模腔的布料面积，所述围边环21在所述坯体2的表面环绕形成布料腔22，其布料腔22的高度为6mm，转移坯体2备用；

B、将步骤A获得的坯体2干燥后，向其布料腔22内进行施透明釉，分别进行3次的分层施釉，其每次釉层厚度均为2mm，得到透明的装饰釉层3；

C、将步骤B所获得的具有装饰釉层3的坯体2入窑烧制，烧成；

D、抛光打磨：将烧成后的瓷砖，进行抛光打磨，获得具有透光釉层效果的瓷砖，如图2所示。

需要说明，在所述步骤B中，除选择布施透明釉料以外，还可以选择装饰性釉料或功能性釉料的施釉材料。

实施例2

一种具有纹理图案的透光釉层效果的瓷砖的制备方法：

A、将粉料均匀铺设于冲压模具1的下模11的模腔内，使用的冲压模具1的上模12的冲压面是设置有纹理图案的，由上模12冲压压制获得具有围边环21和结构的坯体2，所述上模12的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模11的模腔的布料面积，所述围边环21在所述坯体2的表面环绕形成布 料腔22，其布料腔22的高度为8mm，通过辊压工序在所述坯体2的表面置有纹理图案25，转移坯体2备用；

B、将步骤A获得的坯体2干燥后，向其布料腔22内进行施透明釉，分别进行2次的分层施釉，其每次釉层厚度均为4mm，得到透明的装饰釉层3；

C、将步骤B所获得的具有装饰釉层3的坯体2入窑烧制，烧成；

D、抛光打磨：将烧成后的瓷砖，进行抛光打磨，获得具有纹理图案的透光釉层效果的瓷砖。

实施例3

一种没有围边环21的非透明釉层效果的瓷砖的制备方法：

A、将粉料均匀铺设于冲压模具1的下模11的模腔内，由上模12冲压压制获得具有围边环21和结构的坯体2，所述上模12的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模11的模腔的布料面积，所述围边环21在所述坯体2的表面环绕形成布料腔22，其布料腔22的高度为8mm，转移坯体2备用；

B、将步骤A获得的坯体2干燥后，向其布料腔22内施普通非透明釉，分别进行2次的分层施釉，其每次釉层厚度均为4mm，得到装饰釉层3；

C、将步骤B所获得的具有装饰釉层3的坯体2入窑烧制，烧成；

D、切割和抛光打磨：将烧成后的瓷砖，将其围边环21切割去除，再抛光打磨，获得没有围边环21的非透明釉层效果的瓷砖，如图2所示。

实施例4

如图5所示，一种具有琥珀视觉效果的瓷砖的制备方法：

A、将粉料均匀铺设于冲压模具1的下模11的模腔内，由上模12冲压压制获得具有围边环21和结构的坯体2，所述上模12的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模11的模腔的布料面积，所述围边环21在所述坯体2的 表面环绕形成布料腔22，其布料腔22的高度为6mm，转移坯体2备用；

B、将步骤A获得的坯体2干燥后，向其布料腔22内进行第一层施透明釉，第一层釉层厚度为2mm，在第一层釉层上随机布撒一些熔粒，布撒完后再进行施透明釉，使熔粒位于整体透明釉层的内部，获得装饰釉层3；

C、将步骤B所获得的具有装饰釉层3的坯体2入窑烧制，烧成；

D、抛光打磨：将烧成后的瓷砖，进行抛光打磨，获得具有琥珀视觉效果的瓷砖，如图2所示。

实施例5

一种具有拼接效果的抛釉砖的制备方法：

A、将粉料均匀铺设于冲压模具1的下模11的模腔内，使用的冲压模具1的上模12的冲压面是设置有纹理图案的，由上模12冲压压制获得具有围边环21和结构的坯体2，所述上模12的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模11的模腔的布料面积，所述围边环21在所述坯体2的表面环绕形成布料腔22，其布料腔22的高度为8mm，所述布料腔22由分界凸起23间隔成波状形的布料分腔24，所述分界凸起23的高度与围边环21的高度一致，通过抛坯工序在所述坯体2的表面置有纹理图案25，转移坯体2备用；

B、将步骤A获得的坯体2干燥后，向其布料分腔24内进行施透明釉，分别进行2次的分层施釉，其每次釉层厚度均为4mm，得到透明的装饰釉层3；

C、将步骤B所获得的具有装饰釉层3的坯体2入窑烧制，烧成；

D、抛光打磨：将烧成后的瓷砖，进行抛光打磨，获得具有拼接效果的抛釉砖。

补充说明，所述分界凸起23除了间隔成波状形的布料分腔24外，还可以形成网格、水圈、多边形等多种形状的布料分腔24，其与所述纹理图案25结合， 实现具有拼接效果的抛釉砖，增加了抛釉砖的装饰多样性，如图3所示。

更进一步的说明，其分界凸起23的设计，通过一瓷砖的制备，后续铺贴使用时，可对其进行分割使用，适应性强。

以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。