专利名称：阳图制版可成像元件及其使用方法
技术领域：
本发明涉及具有单一可成像层的阳图制版可成像元件，可使所述可成像元件成像并使用弱碱性溶液将其显影。本发明还涉及使这些可成像元件成像和显影尤其来提供平版仨口屈1」^口片反(lithographic printing plates)白勺方法。
背景技术：
在常规或“湿式”平版印刷中，在亲水表面上产生吸油墨区域(称为图像区)。当该表面用水润湿并施加油墨时，该亲水区域保留水并排斥油墨，吸油墨区域接受油墨并排斥水。将油墨转移到其上将复制(reproduce)图像的材料表面。例如，可以首先将油墨转移到中间橡皮布(intermediate blanket)上，中间橡皮布进而用于将油墨转移到其上将复制图像的材料表面。有用于制备平版印刷印版的可成像元件通常包含施加于衬底的亲水表面上的可成像层。所述可成像层包含可分散于合适的连接料(binder)中的一种或多种对辐射敏感的组分。或者，所述对辐射敏感的组分也可为连接料材料。成像后，通过合适的显影剂除去可成像层的成像区域或非成像区域，露出在下面的衬底的亲水表面。如果除去成像区域，则认为元件是阳图制版元件。相反，如果除去非成像区域，则认为元件是阴图制版元件。在每种情况下，保留的可成像层的区域(即，图像区)是吸油墨的，通过显影过程露出的亲水表面的区域接受水和水溶液(通常是润版液(fountain solution))并排斥油墨。在印刷行业中，直接数字成像变得越来越重要。已开发了制备平版印刷印版的可成像元件，用于与红外激光器一起使用。可热敏成像(thermally imageable)元件阳图制版可热敏成像元件用于使用美国专利6，200, 727 (Urano等人)、6，358, 669 (Savariar-Hauck 等人)和6，534，238 (Savariar-Hauck等人)中的各种显影剂来制备平版印刷印版。一些情况下，当上层包含线型酚醛树脂和溶解抑制剂时，使用低PH显影剂使此类多层可成像元件显影。同时待审且共同转让的美国专利公开No. 2008/0227023 (Savariar-Hauck等人) 描述并要求保护使用低PH显影剂的处理方法，其中所处理的元件在上层中含有某些酚醛树脂。可在低PH显影剂中显影的其它成像元件描述于美国专利6，555，291 (Savariar-Hauck) 中。单层阳图制版可成像元件描述于例如美国专利6，280, 899 (Hoare等人)、 6, 391, 524 (Yates 等人)、6，4邪，89O (Hoare 等人)、6，558，869 (Hearson 等人)、 6，706，466 (Parsons等人)、7，041，427 (Loccuf ier等人)和美国专利申请公开 2006/0130689( IVKller等人)中。当成像时，通常使用高pH的含硅酸盐的显影剂使此类
元件显影。含有各种独特的聚合物连接料的其它阳图制版单层和多层可成像元件描述于美国专利 7，247，418 (Saraiya 等人)和 7，300，726 (Patel 等人)中。美国专利申请公开2008/0182206描述了在同一可成像层中具有聚合物连接料的混合物的阳图制版可成像元件。
发明概述本发明提供对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件，它包含在其上具有单一可成像层的衬底，所述可成像层包含吸收红外辐射的化合物和在其主链中包含氨基甲酸酯 (urethane)或脲部分的第一聚合物连接料，其中所述第一聚合物连接料不溶于水中，且可溶于碱性溶液中。本发明还提供一种提供图像的方法，其包括A)使用激光将本发明可成像元件成像曝光，以提供具有曝光区域和非曝光区域的曝光元件，和B)使所述曝光元件与pH为12或更低的碱性处理溶液接触，以仅主要除去曝光区域。该方法可用于提供具有亲水衬底的平版印刷印版。申请人:发现，需要提供单层阳图制版可成像元件，可不使用高pH、含硅酸盐的显影剂将其成像和处理。出乎意料地发现本发明满足该需要。本发明提供单层可成像元件，一经成像，可使用弱碱性处理溶液将其处理。一些实施方案中，所述处理溶液还可含有上胶(gumming)组分，从而消除单独的上胶或漂洗步骤。 通过使用在单层可成像层中的特定聚合物连接料获得这些优点。发明详述定义除非上下文中另外说明，当在本文中使用时，术语“可成像元件”、“阳图制版可成像元件”和“印版前体”意味着参考本发明实施方案。此外，除非上下文另外说明，本文中描述的各种组分，例如“第一聚合物连接料”、 “第二聚合物连接料”、“溶解抑制剂”、“涂布溶剂(coating solvent) ”、“吸收辐射的化合物” 及类似术语还指此类组分的混合物。因此，冠词“一个”或“一种”的使用不一定意味着仅
指单一组分。“单层”可成像元件指仅具有一个对提供图像所需要的层的本发明可成像元件。第一聚合物连接料(下面所定义)将位于通常是最外层的该单一可成像层内。然而，此类元件可在衬底的任一侧包含另外的非成像层。显影过程中的术语“主要除去所述曝光区域”是指最外层的曝光区域和任何在下面的层的对应区域被碱性处理溶液选择性地且优先地除去。除非另有说明，百分比是指以组合物、制剂或施加的层的干重(固体)计的百分比。对于任何涉及聚合物的术语的定义说明，应参考国际纯粹和应用化学联盟(the International Union of Pure and Applied Chemistry(" IUPAC" )) dj 白勺“Glossary of Basic Terms in Polymer Science，，，Pure Appl. Chem. 68，2287-2311 (1996)。然而，本文中明确阐述的任何定义应该被视为决定性的。除非另外说明，术语“聚合物”是指包括低聚物的高分子量和低分子量的聚合物， 并且包括均聚物和共聚物。术语"共聚物"是指衍生自两种或更多种不同单体的聚合物。即，它们包含具有至少两种不同化学结构的重复单元。术语“主链”是指聚合物中与多个侧基连接的原子链。此类主链的一个实例是由一种或多种烯键式不饱和可聚合单体的聚合而获得的“全碳”主链。然而，第一聚合物连接料的主链包含杂原子，其中通过缩合反应或一些其它方法形成聚合物。用途本文中所描述的可成像元件可以许多方式使用，例如下面更详细描述的平版印刷印版前体。然而，这并不意味着是它们的唯一用途。例如，所述可成像元件还可用作热图案形成系统(thermal patterning system)、化学放大抗蚀剂、以及微电子和微光学设备，及用于形成掩蔽(masking)元件和印刷电路板。第一聚合物连接料有用于本发明的第一聚合物连接料在其主链中具有氨基甲酸酯或脲部分或该两种部分。例如，一些有用的第一聚合物连接料为聚合物链中具有-NH-CO-O-单元或键 (linkage)的聚氨酯。通常通过二异氰酸酯与二元醇的反应获得它们。例如，芳族或脂族二异氰酸酯可用于此目的。芳族二异氰酸酯包括但不限于2， 4-甲苯二异氰酸酯、2，6_甲苯二异氰酸酯、对二甲苯二异氰酸酯、间二甲苯二异氰酸酯、四甲基二甲苯二异氰酸酯、4，4_二苯基甲烷二异氰酸酯、1，5_萘二异氰酸酯和3，3' -二甲基联苯_4，4' - 二异氰酸酯。脂族二异氰酸酯包括但不限于六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、4，4-亚甲基-二(环己基二异氰酸酯)、甲基环己烷-2，4-二异氰酸酯和甲基环己烷-2，6-二异氰酸酯、及1，4_ 二(异氰酸根合甲基)环己焼。有用的二元醇的实例包括但不限于乙二醇、二甘醇、聚乙二醇、丙二醇、聚丙二醇、 新戊二醇、1，4-丁二醇和1，6_己二醇。所述聚氨酯还可包含酸性基团，S卩，pKa为7或更低的基团，如磺酸、磷酸、膦酸或羧酸基团。包含一个或多个酸性基团的有用的二元醇包括但不限于二烷醇烷基磺酸、二烷醇烷基磷酸和二烷醇烷基磷酸。有用的羧基官能二元醇包括但不限于二烷醇烷酸，例如2， 2-二(羟基甲基)丙酸(2，2_ 二甲基醇丙酸)、2，2_ 二(2-羟基乙基)丙酸、2，2_ 二(3-羟基丙基)丙酸、二(羟基甲基)乙酸、二(4-羟基苯基)乙酸、2，2_ 二(羟基甲基)丁酸、 2，2_ 二(羟基甲基)戊酸和酒石酸；二羟基苯甲酸，例如3，5_ 二羟基苯甲酸；和通过二酸酐与二元醇的反应获得的二羟基二羧酸，例如二酸酐(如苯均四酸二酐、3，3' ,4,4' -二苯甲酮四羧酸二酐、3，3' ,4,4' - 二苯基四羧酸二酐或2，3，6，7_萘四羧酸二酐)与二元醇(如乙二醇、二甘醇、三甘醇、聚乙二醇、1，2_或1，3_丙二醇、聚丙二醇、1，2_或1，4_ 丁二醇、新戊二醇或1，6_己二醇)的反应产物。一些实施方案中，所述聚氨酯还在主链中包含砜单元，通过使用含砜的二元醇 (例如二羟基乙氧基)苯基]砜、1，3_ 二(3-羟基丙基磺酰基)丙烷和1，4_ 二 (3-羟基丙基磺酰基)丁烷)获得所述砜单元。有用的第一聚合物连接料还可以是含有脲键(-NH-C0-NH-)的聚脲。所述脲键形成自携带至多两个胺基、对氨基甲酸酯基团具有反应性的化合物，例如乙二胺、N-烷基乙二胺、丙二胺、2，2- 二甲基-1，3-丙二胺、N-烷基丙二胺、丁二胺、N-烷基丁二胺、己二胺、
5N-烷基己二胺、甲苯二胺、二氨基二苯基甲烷、二氨基二环己基甲烷、苯二胺、环己二胺、二 (氨基苯基)砜、异佛尔酮二胺、2-丁基-2-乙基-1，5-戊二胺、2，2，4_或2，4，4_三甲基-1， 6-己二胺、2-氨基丙基环己胺、3 )-氨基甲基-1-甲基环己胺、1，4_二氨基-4-甲基戊烷、 胺封端的聚氧亚烷基多元醇(称为Jeffamine)、胺化的聚丁二醇、N-氨基烷基哌啶、氨、二 (氨基乙基)胺、二(氨基丙基)胺、二(氨基丁基)胺、二(氨基戊基)胺和二(氨基己基)胺。基于层固体计，第一聚合物连接料以至少50重量％，且至多99. 5重量％，或通常为70-97重量％的量存在于可成像层中。可使用已知的原料和反应条件来制备有用于本发明的第一聚合物连接料。下面在实施例之前提供制备这些聚合物的代表性合成方法。本领域技术人员能利用这些教导来制备本发明范围内的其它第一聚合物连接料。可成像元件包含第一聚合物连接料，其作为单一的且通常最外面的可成像层的主要连接料。通常，通过将含有一种或多种第一聚合物连接料的可成像层制剂合适地施加于合适的衬底以形成可成像层来形成可成像元件。在施加制剂之前，通常以如下所述的各种方法来处理或涂布这种衬底。可对衬底进行处理以提供用于改善粘合或亲水性的“夹层”，将单一可成像层施加到该夹层上。衬底通常具有亲水表面，或至少一个比成像侧上所施加的可成像层制剂 (formulation)更亲水的表面。所述衬底包含可由常规用于制备可成像元件(如平版印刷印版)的任何材料组成的支撑体(support)。其通常为片材、膜或箔形式，且在使用条件下牢固、稳定、柔韧且耐尺寸变化，以致颜色记录将登记全色图像。通常，所述支撑体可为任何自支撑材料，包括聚合物膜(如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯和纤维素酯聚合物和聚苯乙烯膜)、 玻璃、陶瓷、金属片或金属箔或刚性纸(包括树脂涂布的和敷金属的纸)，或任何这些材料的层压材料(如铝箔层压到聚酯膜上的层压材料)。金属支撑体包括铝、铜、锌、钛及其合金的片材或箔。聚合物膜支撑体可以在一个或两个表面上用“底胶(SiAbing) ”层改性以提高亲水性，或者可以类似地涂布纸支撑体以提高平面性。底胶层材料的实例包括但不限于烷氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅烷、缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和环氧官能聚合物，以及卤化银感光薄膜中使用的常规亲水底胶材料(例如明胶及其它天然存在和合成的亲水胶体和乙烯基聚合物，包括偏二氯乙烯共聚物)。有用的衬底由可使用本领域中已知的技术涂布或处理的含铝支撑体组成，所述技术包括物理磨版、电化学磨版和化学磨版及阳极化。例如，可使用常规程序用磷酸或硫酸使铝片阳极化。可以通过用例如硅酸盐、糊精、氟化锆钙、六氟硅酸、含无机氟化物、聚(乙烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸-丙烯酸共聚物、聚(丙烯酸)或(甲基)丙烯酸共聚物或其混合物的磷酸盐溶液处理铝支撑体来形成任选的夹层。例如，可以使用已知程序用聚(膦酸) 处理经磨版并阳极化的铝支撑体，以改善表面亲水性，得到平版印刷亲水衬底。衬底的厚度可以变化，但应足以承受来自印刷的磨损且足够薄以卷绕印版 (printing form)。一些实施方案通常包括厚度为100 μ m-600 μ m的经处理的铝箔。
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可以用抗静电剂和/或滑动层或消光层涂布衬底的背侧(非成像侧)，以改善可成像元件的处理和“触感(feel)”。衬底还可以是其上施加可成像层制剂的圆柱形表面，因此是印刷机的组成部分或并入到印刷机滚筒上的套筒。此类可成像滚筒的用途例如描述于美国专利 5, 713, 287 (Gelbart)中。所述可成像元件还包含一种或多种吸收红外辐射的化合物(吸收“IR”的化合物)，例如吸收红外辐射的染料(“顶染料”)，所述化合物吸收600至1200nm，且通常700 至1200nm的辐射。合适的顶染料的实例包括但不限于偶氮染料、方酸(squarylium)染料、三芳基胺染料、噻唑鐺(thioazolium)染料、吲哚鐺(indolium)染料、氧杂菁 (oxonol)染料、噁唑鐺(oxazolium)染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚菁 (indocyanine)染料、Π引哚三碳菁(indotricarbocyanine)染料、半花青(hemicyaniine) 染料、链霉花青(sti^ptocyanine)染料、噁三碳菁(oxatricarbocyanine)染料、硫菁(thiocyanine)染料、噻三碳菁(thiatricarbocyanine)染料、部花青染料、隐花青染料、萘菁(naphthalocyanine)染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、 chalcogenopyryloarylidene 禾口双(chalcogenopyrylo)-多次甲基染料(polymethine dye)、羟基吲嗪(oxyindolizine)染料、吡喃鐺染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亚胺染料、甲川染料、芳基甲川染料、多次甲基染料、方酸菁(squaraine) 染料、噁唑染料、croconine染料、吓啉染料和前述染料类别的任意取代形式或离子形式。合适的染料描述于例如美国专利4，973，572 (DeBoer)、5，208，135 (Patel等人)、5，244，771 (Jandrue Sr.等人)和 5，401，618 (Chapman 等人)和 EP 0 823 327 Al (Nagasaka 等人)中。具有阴离子发色团的花青染料也是有用的。例如，花青染料可以具有含两个杂环基团的发色团。在另一个实施方案中，花青染料可以具有至少两个磺酸基，更尤其两个磺酸基和两个假吲哚基。这类有用的对顶敏感的花青染料描述于例如美国专利申请公开 2005-0130059 (Tao)中。一类合适的花青染料的一般描述由WO 2004/101280 (Munnelly等人)的第00 段中的化学式显示。除了低分子量吸收顶的染料之外，还可以使用与聚合物键合的顶染料部分。此外，也可以使用顶染料阳离子，即，该阳离子是染料盐的吸收顶的部分，所述染料盐与侧链中包含羧基、磺基、二氧磷基(phospho)或膦酰基(phosphono)的聚合物发生离子相互作用。吸收近红外的花青染料也是有用的，并且描述于例如美国专利6，309，792 (Hauck 等人)、6，264, 920 (Achilefu 等人)、6，153, 356 (Urano 等人)、5，496, 903 (Watanabe 等人) 中。合适的染料可以使用常规方法和原料形成或从各种商业源获得，所述商业来源包括 American Dye Source (Baie D' Urfe，Quebec,力口拿大)禾口 FEW Chemicals (德国)。用于近红外二极管激光束的其它有用的染料描述于例如美国专利4，973，572(上面指出)中。有用的吸收顶的化合物还包括各种颜料，包括炭黑，如用本领域中众所周知的增溶基团表面官能化的炭黑。与亲水性、非离子聚合物接枝的炭黑(例如FX-GE-003(由 Nippon Shokubai制造))，或用阴离子基团表面官能化的炭黑(例如CAB-O-JET 200或CAB-O-JETι 300(由Cabot Corporation制造))也是有用的。其它有用的颜料包括但不限于酞菁绿、苯胺黑碱(Nigrosine Base)、铁(III)氧化物、氧化锰、普鲁士蓝和巴黎蓝。颜料颗粒的尺寸不应大于可成像层的厚度。吸收红外辐射的化合物通常以足以使可成像层在暴露于适当辐射之后不溶于水性显影剂的量存在于可成像元件中。该量通常为至少0. 1重量％，且至多30重量％，通常为3-20重量％ (基于层的总干重计)。此目的所需的特定量对于本领域技术人员而言是显而易见的，这取决于所使用的具体化合物和将使用的碱性显影剂的性质。在大多数实施方案中，吸收红外辐射的化合物存在于单一可成像层中。或者或另外地，吸收红外辐射的化合物可位于与所述单一可成像层热接触的单独的层中。因此，在成像过程中，可将吸收红外辐射的化合物的作用转移到可成像层而无需最初将所述化合物并入可成像层中。此外，可将溶解性抑制组分并入到可成像层中。此类组分充当起主要聚合物连接料的溶解性抑制组分作用的溶解抑制剂。溶解抑制剂通常具有极性官能团，据信所述极性官能团充当用于与聚合物连接料中的各种基团氢键合的受体位置。所述受体位置包含具有高电子密度的原子，且可选自电负性第一列元素如碳、氮和氧。可溶于碱性显影剂中的溶解抑制剂是有用的。用于溶解抑制剂的有用极性基团包括但不限于醚基、胺基、偶氮基、硝基、 二茂铁鐺基(ferrocenium)、亚砜基、砜基、重氮(diazo)基、重氮鐺(diazonium)基、酮基、 磺酸酯基、磷酸酯基、三芳基甲烷基、鐺基(onium group)(如锍、碘鐺和鳞基)、其中氮原子并入杂环的基团、和含有带正电荷的原子的基团(如季铵基团)。用作溶解抑制剂的含有带正电的氮原子的化合物包括但不限于例如四烷基铵化合物和季铵化杂环化合物(如喹啉鐺化合物、苯并噻唑鐺化合物、吡啶鐺化合物和咪唑鐺化合物)。进一步的细节和用作溶解抑制剂的代表性化合物描述于例如美国专利6，四4，311(以上指出的)中。有用的溶解抑制剂包括三芳基甲烷染料，如乙基紫、结晶紫、孔雀绿、亮绿、维多利亚蓝B、维多利亚蓝R和维多利亚纯蓝B0、BAS0NYL 紫610和Dll (PCAS，Longjumeau，法国)。这些化合物还可以充当对比染料，所述对比染料区别显影的可成像元件中的非成像区与成像区。包含极性基团并充当溶解抑制剂的一组聚合物材料为衍生的酚醛聚合物材料，其中一部分酚羟基已转化成磺酸酯，优选苯基磺酸酯或对甲苯磺酸酯。可通过在碱(如叔胺) 的存在下，使聚合物材料与例如磺酰氯(如对甲苯磺酰氯)反应来进行衍生。有用的材料为线型酚醛树脂，其中l-3mol%的羟基已转化成苯基磺酸酯或对甲苯磺酸酯(甲苯磺酰基) 基。包含极性基团并充当溶解抑制剂的另一组聚合物材料为含有重氮萘醌 (diazonaphthoquinone)部分的衍生的酚醛树脂。聚合物重氮萘醌化合物包括通过使含有重氮萘醌部分的反应性衍生物与含有合适反应性基团(如羟基或氨基)的聚合物材料反应形成的衍生树脂。酚醛树脂与含有重氮萘醌部分的化合物的衍生作用在本领域中是已知的并描述于例如美国专利5，705，308和5，705，322(均属于West等人)中。用包含重氮萘醌部分的化合物衍生的树脂的实例是P-3000 (购自PCAS，法国)，其是连苯三酚/丙酮树脂的萘醌二叠氮化物。当溶解抑制剂存在于可成像层中时，其量可宽泛地变化，但通常其以至少0. 5%重量，且至多30重量％ (通常为1-15重量％)的量存在(基于层的总干重计)。所述可成像层还通常包含一种或多种不同于以上定义的第一聚合物连接料的另外(或第二)聚合物连接料。此类第二聚合物连接料通常还可溶于水和PH为12或更低的碱性溶液中。它们可包含极性基团，或它们可包含连接料树脂(一些具有极性基团，其它不具有极性基团)的混合物。此类第二聚合物连接料通常包括酚醛树脂(如线型酚醛树脂和甲阶段酚醛树脂(下面所描述)，此类树脂还可包含一个或多个侧挂(pendant)重氮基、羧酸酯基、磷酸酯基、磺酸酯基、亚磺酸酯基或醚基。所述酚醛树脂的羟基可转化成-T-Z 基团，其中T表示极性基团，Z表示如例如美国专利6，218，083(McCullough等人)和WO 99/001795 (McCullough等人)中描述的非二叠氮化物(non-diazide)官能团。羟基还可与含有如例如美国专利5，705，308 (West等人)和5，705，322 (West等人)中描述的邻萘醌二叠氮化物部分的重氮基进行衍生。其它有用的第二聚合物连接料包括如例如美国专利 6，391，524aates等人)和DE 10 239 505 (Timpe等人)中描述的丙烯酸酯共聚物、纤维素酯和聚(乙烯醇缩醛)。有用的第二聚合物连接料还包括聚合物主链或侧基上具有多个酚羟基(phenolic hydroxyl)的酚醛树脂。线型酚醛树脂、甲阶段酚醛树脂、含有侧挂酚基的丙烯酸类树脂和聚乙烯基苯酚树脂是有用的酚醛树脂。线型酚醛树脂可商购且对本领域技术人员而言是众所周知的。通常通过在酸催化剂的存在下，使酚(如苯酚、间甲酚、邻甲酚、对甲酚等)与醛(如甲醛、低聚甲醛、乙醛等) 或酮(如丙酮)缩合反应来制备线型酚醛树脂。重均分子量通常为1，000-15，000。典型的线型酚醛树脂包括例如苯酚-甲醛树脂、甲酚-甲醛树脂、苯酚-甲酚-甲醛树脂、对叔丁基苯酚-甲醛树脂和连苯三酚-丙酮树脂。通过使用本领域技术人员众所周知的条件使间甲酚、间甲酚与对甲酚的混合物或苯酚与甲醛反应来制备有用的线型酚醛树脂。其它有用的第二聚合物连接料包括丙烯酸类聚合物，如具有至少40的酸值并由以下结构(I)表示的那些丙烯酸类聚合物-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A代表重复单元，其衍生自N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或烷氧基甲基 (烷基)丙烯酸酯中的一种或多种。例如，所述A重复单元可衍生自以下中的一种或多种 N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-异丙氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-正丁氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-乙氧基甲基丙烯酰胺、N-甲氧基甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酸异丙氧基甲酯、N-环己氧基甲基甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸苯氧基甲酯。B代表衍生自具有侧挂氰基的一种或多种烯键式不饱和可聚合单体的重复单元。 例如它们衍生自一种或多种(甲基)丙烯腈、氰基苯乙烯和氰基丙烯酸酯。C重复单元衍生自具有一个或多个羧基、磺酸或磷酸酯基的一种或多种烯键式不饱和可聚合单体，其包括但不限于(甲基)丙烯酸、羧基苯乙烯、N-羧基苯基(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯酰烷基磷酸酯。D代表衍生自一种或多种不同于由A、B和C代表的那些的烯键式不饱和可聚合单体的重复单元，且可选自由以下结构(Dl)-(M)代表的一种或多种烯键式不饱和可聚合单体
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权利要求
1.对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件，它包含其上具有单一可成像层的衬底， 所述可成像层包含吸收红外辐射的化合物和在其主链中包含氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料，其中所述第一聚合物连接料不溶于水中且可溶于碱性溶液中。
2.权利要求1所述的可成像元件，其中基于所述层固体计，所述第一聚合物连接料以至少50重量％的量存在于所述可成像层中。
3.权利要求1所述的可成像元件，其中所述第一聚合物连接料可溶于pH为12或更低的碱性溶液中。
4.权利要求1所述的可成像元件，其中所述第一聚合物连接料在其主链中还包含砜单兀。
5.权利要求1所述的可成像元件，其中吸收红外辐射的化合物为红外辐射染料，所述红外辐射染料以至少0.1重量％的量存在。
6.权利要求1所述的可成像元件，其中基于可成像层的干重计，所述可成像层还包含 2-50重量％的量的第二聚合物连接料，所述第二聚合物连接料不溶于水中，且可溶于pH为 12或更低的碱性溶液中。
7.权利要求6所述的可成像元件，其中所述第二聚合物连接料为丙烯酸类聚合物或酚醛树脂。
8.权利要求1所述的可成像元件，其中所述可成像层还包含溶解抑制剂。
9.权利要求1所述的可成像元件，其为包含含铝衬底的平版印刷印版前体。
10.提供图像的方法，其包括A)使用激光将权利要求1所述的可成像元件成像曝光，以提供具有曝光区域和非曝光区域的曝光元件，和B)使所述曝光元件与pH为12或更低的碱性处理溶液接触，以仅主要除去曝光区域。
11.权利要求10所述的方法，其中所述碱性处理溶液的pH为11或更低。
12.权利要求10所述的方法，其中所述碱性处理溶液是单相溶液并含有0.5-15重量％ 有机溶剂，且不含硅酸盐、偏硅酸盐和碱金属氢氧化物。
13.权利要求10所述的方法，其中所述碱性处理溶液既显影又在成像且显影的表面上提供保护涂层。
14.权利要求10所述的方法，其中所述碱性处理溶液的pH为10.5或更低。
全文摘要
对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件具有衬底和单一可成像层，所述可成像层在其主链中包含具有氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料。所述聚合物连接料还不溶于水中且可溶于弱碱性溶液中。可使这种可成像元件成像，并使用不含硅酸盐和偏硅酸盐的弱碱性处理溶液进行处理，所述处理溶液还可用于将成像且显影的印刷表面“上胶”。
文档编号B41C1/10GK102216079SQ200980146813
公开日2011年10月12日 申请日期2009年11月12日 优先权日2008年11月20日
发明者A·P·基特森, F·E·米克尔, J·帕特尔, K·B·雷, S·萨雷亚 申请人:伊斯曼柯达公司