基板处理装置及方法与流程

本公开涉及基板处理装置及方法，并且更具体地，涉及可以用于制造显示装置的基板处理装置及方法。

背景技术：

1、当制造诸如液晶显示(lcd)面板、发光二极管(led)面板或有机电致发光(el)组件的显示装置时，可以利用喷墨设备对透明基板执行印刷工艺。这种喷墨设备采用喷墨头向透明基板上喷出微细墨滴，从而能够对期望的位置进行图案化(例如，rgb图案化)。

2、喷墨头可以用于对诸如滤色器、有机led(oled)rgb和oled薄膜封装(tfe)的精密涂覆工艺。为此目的，喷墨头需要能够在每个期望的方向上精确地喷出墨滴。因此，需要定期检查喷墨头。

3、然而，通常，用单独的模块(例如，膜上喷出(jof：jetting-on-film)模块)来检查喷墨头，从而导致不能在基板印刷工艺期间即时解决喷出异常的挑战。

技术实现思路

1、本发明的方面提供了能够实时响应喷出异常的基板处理装置及方法。

2、然而，本公开的方面不限于本文中所阐述的内容。通过参考下面给出的本公开的详细描述，本公开的以上和其他方面将对于本公开所属领域的普通技术人员变得更加明显。

3、根据本发明的一方面，基板处理装置包括：第一台，支承基板；喷墨头单元，向基板上以液滴的形式排出基板处理液；门架单元，在第一台上使喷墨头单元移动；液滴检查单元，检查液滴；以及控制单元，基于对液滴的检查结果来对基板执行补偿，其中，喷墨头单元向基板的使用区域和非使用区域上排出基板处理液，且液滴检查单元检查排出到非使用区域上的液滴。

4、根据本发明的一方面，基板处理装置包括：第一台，支承基板；喷墨头单元，向基板上以液滴的形式排出基板处理液；门架单元，在第一台上使喷墨头单元移动；液滴检查单元，检查液滴；以及控制单元，基于对液滴的检查结果来对基板执行补偿，其中，喷墨头单元向基板的使用区域和非使用区域上排出基板处理液，液滴检查单元检查排出到非使用区域上的液滴，液滴检查单元以条带为单位检查液滴，条带与已经对基板的整个表面执行像素印刷的次数相关，液滴检查单元针对喷墨头单元内的多个喷嘴之中的已经用于处理基板的喷嘴检查液滴，以及控制单元通过用替代喷嘴代替有缺陷的喷嘴来对基板执行补偿。

5、根据本公开的一方面，基板处理方法包括：向基板的使用区域和非使用区域上以液滴的形式排出基板处理液；检查排出到非使用区域上的液滴；以及基于对液滴的检查结果来对基板执行补偿，其中，执行补偿包括根据在用于处理基板的喷嘴之中是否存在任何有缺陷的喷嘴来对基板执行补偿。

6、应当注意，本公开的效果不限于以上描述的内容，并且本公开的其他效果将从以下描述中变得明显。

技术特征：

1.一种基板处理装置，包括：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述条带中的每个与所述喷墨头单元和/或所述基板的向前移动或向后移动对应。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述液滴检查单元在至少一个所述条带完成时检查所述液滴。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述非使用区域与所述使用区域相比定位在所述基板的外侧。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，在所述基板上设置有多个所述使用区域。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述非使用区域定位在两个不同的所述使用区域之间。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述液滴检查单元针对所述喷墨头单元内的多个喷嘴之中的已经用于处理所述基板的喷嘴检查所述液滴。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，每当所述基板被部分处理时，所述液滴检查单元检查所述液滴。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述控制单元根据在用于处理所述基板的喷嘴之中是否存在任何有缺陷的喷嘴来对所述基板执行补偿。

11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述控制单元通过用替代喷嘴代替有缺陷的喷嘴来对所述基板执行补偿。

12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其中，所述控制单元分析所述有缺陷的喷嘴的类型，基于分析的结果来确定代替所述有缺陷的喷嘴的正常喷嘴，识别所述基板上的、所述正常喷嘴应排出所述基板处理液的点，以及利用所述正常喷嘴对所述基板执行补偿。

13.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述控制单元将对所述基板执行补偿的结果应用于与所述液滴已经排出到其上的所述基板相关的流图像的生成。

14.一种基板处理装置，包括：

15.一种基板处理方法，包括：

16.根据权利要求15所述的基板处理方法，其中，执行补偿包括：分析所述有缺陷的喷嘴，基于对所述有缺陷的喷嘴的分析结果来确定代替所述有缺陷的喷嘴的正常喷嘴，识别所述基板上的、所述正常喷嘴应排出所述基板处理液的点，以及利用所述正常喷嘴对所述基板执行补偿。

17.根据权利要求15所述的基板处理方法，其中，

18.根据权利要求15所述的基板处理方法，其中，

19.根据权利要求15所述的基板处理方法，其中，执行补偿包括通过用正常喷嘴代替所述有缺陷的喷嘴来执行补偿。

20.根据权利要求15所述的基板处理方法，还包括：

技术总结
本公开提供了能够实时响应喷出异常的基板处理装置及方法。基板处理装置包括：第一台，支承基板；喷墨头单元，向基板上以液滴的形式排出基板处理液；门架单元，在第一台上使喷墨头单元移动；液滴检查单元，检查液滴；以及控制单元，基于对液滴的检查结果来对基板执行补偿，其中，喷墨头单元向基板的使用区域和非使用区域上排出基板处理液，且液滴检查单元检查排出到非使用区域上的液滴。

技术研发人员：尹国镇
受保护的技术使用者：细美事有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/5/9