1.一种双缝干涉实验探究演示系统，其特征在于：包括底座以及设置于底座上的激光器、相干光源生成单元、光纤和光屏；
所述激光器发出的激光经过相干光源生成单元转换为相关光，所述光纤的入射端设置有会聚透镜，所述光纤的出射端设置有细缝；所述每束相关光通过会聚透镜射入到光纤的入射端的表面上；所述相关光经过光纤传输，从光纤出射端的细缝射出；所述从细缝射出的相关光在光屏上形成干涉条纹。
2.如权利要求1所述的双缝干涉实验探究演示系统，其特征在于：所述光屏上设置有分划板和调节装置，所述调节装置与分划板连接用于调节分划板的位置。
3.如权利要求1所述的双缝干涉实验探究演示系统，其特征在于：所述光纤出射端设置有微调器，所述微调器用于调节各光纤出射端之间的距离。
4.如权利要求1所述的双缝干涉实验探究演示系统，其特征在于：所述相干光源生成单元为半反半透的分束板，所述分束板设置于底座上，所述激光器发出的激光经过分束板相关光，每条所述相干光入射到光纤的入射端的表面上。
5.如权利要求1所述的双缝干涉实验探究演示系统，其特征在于：所述光屏上设置有CCD图像采集器、处理器和显示器，所述CCD图像采集器用于获取干涉条纹图像并将干涉条纹图像输入到处理器中进行处理；所述显示器与处理器连接用于显示处理器的输出结果。
6.如权利要求3所述的双缝干涉实验探究演示系统，其特征在于：所述微调器包括底座、滑轨和滑槽；所述底座上设置滑轨，所述滑轨上设置有滑块，所述滑块与滑轨配合，所述滑块上设置有滑槽，所述滑槽与光纤相配合用于设置光纤出射端位置。