一种显示面板及其制备方法和显示装置与流程

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术：

当前oled(organiclight-emittingdiode，有机电激光显示)显示技术中通常需要圆偏光片，触控层，并通过胶材贴合组成显示模组，圆偏光片起到降低oled表面反射并提高对比度的功能，触控层起到触控作用。由于圆偏光片厚度较大，导致整体模组厚度偏大，影响柔性模组的反复折叠能力。

技术实现要素：

本发明针对oled显示模组中同时集成圆偏光片降反射和触控层触控时导致的整体模组厚度偏大，影响柔性模组的折叠能力的问题，提供一种显示面板及其制备方法和显示装置。该显示面板，在实现防反射的同时，还能实现触控功能；同时能降低显示面板的整体厚度，从而具有良好的反复折叠能力；同时，能使显示面板的防反射功能与触控功能良好兼容。

本发明提供一种显示面板，包括显示基板，设置于所述显示基板一侧的触控电极和防反射结构，所述显示基板包括多个间隔排布的子像素，所述触控电极在所述显示基板上的正投影位于相邻所述子像素之间的间隔区；所述防反射结构包括多个，各所述防反射结构在所述显示基板上的正投影对应覆盖各所述子像素，且所述防反射结构在所述显示基板上的正投影与所述触控电极在所述显示基板上的正投影不交叠。

可选地，所述防反射结构包括至少一个防反射金属层和至少两个透明绝缘层，所述透明绝缘层和所述防反射金属层依次交错叠置，且所述防反射金属层夹设于相邻的两所述透明绝缘层之间；

所述防反射结构位于所述触控电极的背离所述显示基板的一侧，所述防反射结构包括依次远离所述触控电极排布的第一透明绝缘层、防反射金属层和第二透明绝缘层。

可选地，所述第一透明绝缘层和所述第二透明绝缘层还延伸至相邻所述子像素之间的间隔区。

可选地，在所述显示基板上，正投影相邻的所述防反射金属层与所述触控电极之间的正投影间距大于或等于0.1μm。

可选地，所述触控电极呈网格状，多个所述防反射结构中的所述防反射金属层不连续分布，各所述防反射结构中的所述防反射金属层呈块状。

可选地，所述防反射金属层采用ti、mo、cu、al、ag中的任意一种材料；所述防反射金属层的厚度范围为10～1000埃。

可选地，所述第一透明绝缘层的厚度范围为50-50000埃，所述第二透明绝缘层的厚度范围为50-50000埃；

所述第一透明绝缘层的折射率范围为1.4～2.0，所述第二透明绝缘层的折射率范围为1.4～2.0；

所述第一透明绝缘层采用氧化硅、氮化硅或有机树脂材料；所述第二透明绝缘层采用氧化硅、氮化硅或有机树脂材料。

可选地，还包括黑矩阵，所述黑矩阵设置于所述第二透明绝缘层的背离所述显示基板的一侧；

所述黑矩阵在所述显示基板上的正投影覆盖相邻所述子像素之间的间隔区，且所述黑矩阵在所述显示基板上的正投影覆盖相邻所述防反射结构中所述防反射金属层在所述显示基板上的正投影的边缘。

可选地，所述黑矩阵在所述显示基板上的正投影边缘线与所述防反射金属层在所述显示基板上的正投影边缘线之间的最短间距大于或等于0.1μm。

可选地，所述触控电极包括驱动电极、感应电极和桥部；所述驱动电极包括多个，各所述驱动电极沿第一方向延伸并沿第二方向依次排布；所述感应电极包括多个，各所述感应电极沿所述第二方向延伸并沿所述第一方向依次排布；

所述驱动电极和所述感应电极同层设置且相互绝缘，所述桥部设置于所述驱动电极和所述感应电极的靠近所述显示基板的一侧，且所述桥部与所述驱动电极和所述感应电极之间设置有绝缘层。

可选地，所述驱动电极、所述感应电极和所述桥部在所述显示基板上的正投影分别落入相邻所述子像素之间的间隔区。

本发明还提供一种显示装置，包括上述显示面板。

本发明还提供一种显示面板的制备方法，包括制备显示基板，在所述显示基板的一侧制备触控电极和防反射结构；制备所述显示基板包括制备多个间隔排布的子像素，所述触控电极在所述显示基板上的正投影位于相邻所述子像素之间的间隔区；所述防反射结构包括多个，各所述防反射结构在所述显示基板上的正投影对应覆盖各所述子像素，且所述防反射结构在所述显示基板上的正投影与所述触控电极在所述显示基板上的正投影不交叠。

本发明的有益效果：本发明所提供的显示面板，通过在显示基板的一侧设置触控电极和防反射结构，在实现该显示面板防反射的同时，还能实现显示面板的触控功能；通过采用厚度较薄的防反射结构，能够替代目前厚度较大的圆偏光片，从而降低显示面板的整体厚度，进而使具有柔性性能的显示面板具有良好的反复折叠能力；同时，通过使防反射结构设置为多个，且防反射结构在显示基板上的正投影与触控电极在显示基板上的正投影不交叠，能够降低或消除防反射结构中防反射金属层的导电效应，减少防反射金属层对触控电极触控信号的干扰，从而使显示面板的防反射功能与触控功能能够良好兼容。

本发明所提供的显示装置，通过采用上述显示面板，能够实现该显示装置的防反射功能与触控功能良好兼容，同时还能降低显示装置的整体厚度，从而使该显示装置具有良好的耐弯折能力，便于实现柔性显示。

附图说明

图1为本发明实施例中一种显示面板的结构剖视示意图；

图2为本发明实施例中一种显示面板的结构俯视示意图；

图3为由图1显示面板中的第一透明绝缘层、防反射金属层、第二透明绝缘层构成的吸光结构的透光率曲线和对光线的反射率曲线示意图；

图4为本发明实施例显示面板中触控电极的宏观分布示意图；

图5为本发明实施例显示面板中触控电极的微观分布示意图。

其中附图标记为：

1、显示基板；10、子像素；11、背板；12、封装层；2、触控电极；21、驱动电极；22、感应电极；220、子部；23、桥部；3、防反射金属层；4、第一透明绝缘层；5、第二透明绝缘层；6、黑矩阵；7、第三透明绝缘层；8、防反射结构。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明一种显示面板及其制备方法和显示装置作进一步详细描述。

基于目前存在的oled显示模组中同时集成圆偏光片降反射和触控层触控时导致的整体模组厚度偏大，影响柔性模组的折叠能力的问题，本发明实施例提供一种显示面板，如图1所示，包括显示基板1，设置于显示基板1一侧的触控电极2和防反射结构8，显示基板1包括多个间隔排布的子像素10，触控电极2在显示基板1上的正投影位于相邻子像素10之间的间隔区；防反射结构8包括多个，各防反射结构8在显示基板1上的正投影对应覆盖各子像素10，且防反射结构8在显示基板1上的正投影与触控电极2在显示基板1上的正投影不交叠。

其中，防反射结构8与触控电极2不同层设置。子像素10包括呈阵列排布的红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，由至少一个红色子像素、至少一个绿色子像素和至少一个蓝色子像素构成一个像素，例如可以是两个绿色子像素、一个红色子像素和一个蓝色子像素构成一个像素。可选地，子像素10为oled(有机电致发光元件)，子像素10包括依次叠置的阳极、发光功能层和阴极。显示基板1包括背板11和设置在背板11上的子像素10(即发光元件)，子像素10的背离背板11的一侧设置有封装层12，触控电极2和防反射结构8设置于封装层12的背离背板11的一侧。背板11上设置有像素驱动电路(图中未示出)，用于驱动子像素10发光。

可选地，防反射结构8包括至少一个防反射金属层3和至少两个透明绝缘层，透明绝缘层和防反射金属层3依次交错叠置，且防反射金属层3夹设于相邻的两透明绝缘层之间；透明绝缘层还延伸至相邻子像素10之间的间隔区。

通过在显示基板1的一侧设置触控电极2和防反射结构8，在实现该显示面板防反射的同时，还能实现显示面板的触控功能；通过采用厚度较薄的防反射结构8，能够替代目前厚度较大的圆偏光片，从而降低显示面板的整体厚度，进而使具有柔性性能的显示面板具有良好的反复折叠能力；同时，通过使防反射结构8设置为多个，且防反射结构8在显示基板1上的正投影与触控电极2在显示基板1上的正投影不交叠，能够降低或消除防反射结构8中防反射金属层3的导电效应，减少防反射金属层3对触控电极2触控信号的干扰，从而使显示面板的防反射功能与触控功能能够良好兼容。

可选地，如图2所示，在显示基板上，正投影相邻的防反射金属层3与触控电极2之间的正投影间距m大于或等于0.1μm。该间距范围，能够更好地降低或消除防反射金属层3的导电效应，减少防反射金属层3对触控电极2触控信号的干扰，从而使显示面板的防反射功能与触控功能能够良好兼容。

可选地，触控电极2呈网格状，多个防反射结构8中的防反射金属层3不连续分布，各防反射结构8中的防反射金属层3呈块状。如触控电极2采用ti/al/ti叠层，触控电极2呈网格状，且触控电极2位于子像素10之间的间隔区，既能实现触控电极2在显示面板上的整面触控，又不会影响显示面板的正常显示透光。防反射金属层3采用块状，能够对外界照射至其上的光线进行很好的耗散，防止外界环境光照射到阳极后反射对显示对比度的影响。

可选地，防反射结构8位于触控电极2的背离显示基板1的一侧，防反射结构8包括依次远离触控电极2排布的第一透明绝缘层4、防反射金属层3和第二透明绝缘层5。如此设置，防反射金属层3与第一透明绝缘层4和第二透明绝缘层5共同构成的防反射结构8，能够更好地对外界环境光进行耗散，且通过第一透明绝缘层4的设置，能够很好地减少或防止防反射金属层3对触控电极2触控信号的干扰，从而使显示面板的防反射功能与触控功能能够良好兼容。

可选地，防反射金属层3采用ti、mo、cu、al、ag中的任意一种材料。防反射金属层3的厚度范围为10～1000埃。这些材料的防反射金属层3在具有一定厚度的情况下，搭配其上下表面的第一透明绝缘层4和第二透明绝缘层5，可实现本体低反射，且具备透过的特性，外界光在防反射结构8内耗散，降低反射光，同时oled的光可以透过防反射金属层3，从而实现显示面板的正常显示。

可选地，第一透明绝缘层4的厚度范围为50-50000埃，第二透明绝缘层5的厚度范围为50-50000埃。第一透明绝缘层4的折射率范围为1.4～2.0，第二透明绝缘层5的折射率范围为1.4～2.0。第一透明绝缘层4采用氧化硅、氮化硅或有机树脂材料；第二透明绝缘层5采用氧化硅、氮化硅或有机树脂材料。

其中，防反射金属层3与相邻的第一透明绝缘层4和第二透明绝缘层5共同构成了吸光结构，如图3所示，该吸光结构的透过率约为20-70％可调，优选35-60％，黑矩阵bm近似为黑体，常规oled显示面板本身反射率约46％，集成该吸光结构后，其反射率降到5％，且同时具备触控功能。例如：使用第一透明绝缘层4/防反射金属层3/第二透明绝缘层5的材质为氧化硅/钛/氧化硅，厚度为80nm/5nm/80nm的三层结构时，该吸光结构本身透过率为58％，反射率为3％，与触控电极2和黑矩阵6搭配设置后，使oled显示面板表面反射率从46％降低至8％，通过调整防反射金属层3的厚度，能使oled显示面板的透过率调整至45-50％，反射率降到5％，满足oled显示面板的显示以及防反射要求，同时其触控电极2可以正常触控，实现该显示面板的触控功能。

需要说明的是，显示基板1的一侧可以设置缓冲层，触控电极2设置于封装层背离显示基板一测。由于显示基板1中用于对子像素10进行封装的封装层12通常采用有机膜层和无机膜层的叠置膜层，为增加触控电极的粘附性，可在封装层12上设置缓冲层。

可选地，显示面板还包括黑矩阵6，黑矩阵6设置于第二透明绝缘层5的背离显示基板1的一侧；黑矩阵6在显示基板1上的正投影覆盖相邻子像素10之间的间隔区，且黑矩阵6在显示基板1上的正投影覆盖相邻防反射结构8中防反射金属层3在显示基板1上的正投影的边缘。黑矩阵6的材料为显示行业常用黑色强吸收材料，黑矩阵6能对防反射金属层3与触控电极2之间的间隙进行降反射，从而实现防反射金属层3与触控电极2的集成一体化，减小了显示面板的总体厚度，整合了触控功能和防反射功能，提升了显示面板的耐弯折能力。

可选地，子像素10包括呈阵列排布的红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，由红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素构成一个像素。可选地，子像素10为oled(有机电致发光元件)，黑矩阵6的设置还能防止不同颜色的子像素10之间发生颜色串扰。

可选地，如图2所示，黑矩阵6在显示基板1上的正投影边缘线与防反射金属层3在显示基板1上的正投影边缘线之间的最短间距n大于或等于0.1μm。即黑矩阵6在显示基板1上的正投影覆盖相邻防反射金属层3在显示基板1上的正投影的边缘宽度为0.1μm以上。由于黑矩阵6近似为不反射的黑体，如此设置，能使黑矩阵6对防反射金属层3与触控电极2之间的间隙进行降反射，避免防反射金属层3与触控电极2之间的间隙处表面反射率太高，从而实现防反射金属层3与触控电极2的集成一体化，减小了显示面板的总体厚度，整合了触控功能和防反射功能，提升了显示面板的耐弯折能力。

可选地，如图1所示，显示面板还包括第三透明绝缘层7，第三透明绝缘层7设置于黑矩阵6的背离显示基板1的一侧。第三透明绝缘层7采用有机树脂材料、氧化硅或氮化硅材料。第三透明绝缘层7能对黑矩阵6以及整个显示基板1形成保护。

可选地，如图4和图5所示，触控电极2包括驱动电极21、感应电极22和桥部23；驱动电极21和感应电极22同层设置，桥部23设置于驱动电极21和感应电极22的靠近显示基板1的一侧，且桥部23与驱动电极21和感应电极22之间设置有绝缘层；驱动电极21包括多个，各驱动电极21沿第一方向x延伸并沿第二方向y依次排布；感应电极22包括多个子部220，桥部23通过开设在绝缘层中的过孔将子部220连接为一体，感应电极22包括多个，各感应电极22沿第二方向y延伸并沿第一方向x依次排布；驱动电极21与感应电极22相互绝缘；驱动电极21、感应电极22和桥部23在显示基板上的正投影分别落入相邻子像素之间的间隔区。驱动电极21与感应电极22能够实现互电容触控。

可选地，驱动电极21与感应电极22同层设置，桥部23与感应电极22不同层，且桥部23与感应电极22之间设置有绝缘层。当然，驱动电极21和感应电极22也可以不同层设置，即驱动电极21和感应电极22分别设置在不同的层上。

需要说明的是，驱动电极21和感应电极22也可以是能实现互电容触控的其他的排布方式，不局限于上述触控电极2排布方式。

另外需要说明的是，能实现互电容触控的触控电极2的结构设置不局限于上述设置，其他的结构设置方式也完全可以，只要确保触控电极2在显示基板1上的正投影位于相邻子像素10之间的间隔区即可。

另外需要说明的是，触控电极也可以是自电容式触控电极，自电容式触控电极既做驱动电极又做感测电极，单层多点式自容触控电极，触控电极引线与感测电极同层设置；多层式自容触控设计，触控电极引线与感测电极位于不同层，两层金属由绝缘层隔开，通过过孔设计使对应电极引线及感测电极进行导通，自电容式触控电极的排布为常规自电容触控电极的排布，这里不再赘述。

基于显示面板的上述结构，本实施例还提供一种该显示面板的制备方法，包括制备显示基板，在显示基板的一侧制备触控电极和防反射结构；制备显示基板包括制备多个间隔排布的子像素，触控电极在显示基板上的正投影位于相邻子像素之间的间隔区；防反射结构包括多个，各防反射结构在显示基板上的正投影对应覆盖各子像素，且防反射结构在显示基板上的正投影与触控电极在显示基板上的正投影不交叠。

本实施例中，显示面板的具体制备过程为：

步骤s01：在经过对子像素封装的显示基板表面制备缓冲层；

步骤s02：缓冲层表面沉积金属膜层并刻蚀形成桥部，金属膜层可以为ti/al/ti叠层；

步骤s03：使用氧化硅、氮化硅或者有机树脂材料图形化形成触控电极桥部与感应电极之间的绝缘跨桥及其中过孔；

步骤s04：沉积金属膜层并刻蚀形成感应电极和驱动电极，金属膜层可以为ti/al/ti叠层；其中，桥部通过绝缘跨桥中的过孔连接感应电极；

步骤s05：涂布第一透明绝缘层膜并固化；

步骤s06：沉积防反射金属层膜，并图形化；沉积方法可以使用金属掩膜板真空蒸镀直接形成相互间隔且彼此独立的防反射金属层图形，也可以先使用物理气相沉积形成防反射金属层膜，然后曝光刻蚀形成相互间隔且彼此独立的防反射金属层图形；

步骤s07：沉积第二透明绝缘层；优选为氧化硅，厚度800a；

步骤s08：涂布黑矩阵膜并曝光图形化；

步骤s09：涂布第三透明绝缘层并固化，完成显示面板的制备。

本实施例中所提供的显示面板，通过在显示基板的一侧设置触控电极和防反射结构，在实现该显示面板防反射的同时，还能实现显示面板的触控功能；通过采用厚度较薄的防反射结构，能够替代目前厚度较大的圆偏光片，从而降低显示面板的整体厚度，进而使具有柔性性能的显示面板具有良好的反复折叠能力；同时，通过使防反射结构设置为多个，且防反射结构在显示基板上的正投影与触控电极在显示基板上的正投影不交叠，能够降低或消除防反射结构中防反射金属层的导电效应，减少防反射金属层对触控电极触控信号的干扰，从而使显示面板的防反射功能与触控功能能够良好兼容。

本公开实施例还提供一种显示装置，包括上述实施例中的显示面板。

通过采用上述实施例中的显示面板，能够实现该显示装置的防反射功能与触控功能良好兼容，同时还能降低显示装置的整体厚度，从而使该显示装置具有良好的耐弯折能力，便于实现柔性显示。

本公开实施例所提供的显示装置可以为oled面板、oled电视、显示器、手机、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。