一种新型不干胶薄膜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及不干胶薄膜应用领域，特别涉及一种可移除的抗静电的新型不干胶薄膜。
【背景技术】
[0002]对于现有的一些保护膜的特别应用中，例如在一般的PCB电路板、软性电路板FPC、金手指等比较敏感的电子电器元器件的加工工程中，由于其需有多道不同工艺的加工，一般的静电消除装置无法完全消除其本身或在加工过程中产生的一些静电，故容易导致在电子电器元器件的加工过程时，而使用加工模切好的保护膜依然存在静电，局部仍会出现放电现象，这样可能会导致电子电器元器件损坏或短路的现象，造成一些不良次品，给企业带来了很大的不便。
【实用新型内容】
[0003]为解决上述【背景技术】中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种新型不干胶薄膜，以达到消除电子电器元器件材料本身及保护膜在加工过程中产生静电的目的。
[0004]为达到上述目的，本实用新型的技术方案如下:
[0005]一种新型不干胶薄膜，包括底纸、胶水和面材，还包括第一抗静电涂层和第二抗静电涂层，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层分别涂设在所述面材的两面，所述底纸的一面与第一抗静电涂层的一面通过所述胶水粘贴，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层的厚度尺寸均为0.012-0.024mm，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层的抗静电涂层为相同或不相同。
[0006]通过上述技术方案，本实用新型提供的新型不干胶薄膜，通过在面材的两面涂复有第一、第二抗静电涂层，可以有效的消除了电子电器元器件材料本身及保护膜在加工过程中产生的静电，从而消除了产生静电不良影响，避免了电子电器元器件的损坏或短路的现象，进一步保证了其产品的合格率，给企业带来了很大的方便。
【附图说明】
[0007]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0008]图1为本实用新型实施例所公开的一种新型不干胶薄膜的结构示意图。
[0009]图中数字标号表示部件的名称:
[0010]1、底纸2、胶水3、面材
[0011]4、第一抗静电涂层5、第二抗静电涂层
【具体实施方式】
[0012]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0013]本实用新型提供的一种新型不干胶薄膜，如图1所示，包括底纸1、胶水2、面材3、第一抗静电涂层4和第二抗静电涂层5，第一抗静电涂层4和第二抗静电涂层5分别涂设在面材3的两面，底纸I的一面与第一抗静电涂层4的一面通过胶水2粘贴，第一抗静电涂层4和第二抗静电涂层5的厚度尺寸均为0.012-0.024mm ;第一抗静电涂层4和第二抗静电涂层5的抗静电涂层为相同或不相同，二者抗静电涂层的材料可以相同，也可以不相同。
[0014]本实用新型公开的一种新型不干胶薄膜，通过在面材的两面涂复有第一、第二抗静电涂层，可以有效的消除了电子电器元器件材料本身及保护膜在加工过程中产生的静电，从而消除了产生静电不良影响，避免了电子电器元器件的损坏或短路的现象，进一步保证了其产品的合格率，给企业带来了很大的方便。
[0015]对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【主权项】
1.一种新型不干胶薄膜，包括底纸、胶水和面材，其特征在于，还包括第一抗静电涂层和第二抗静电涂层，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层分别涂设在所述面材的两面，所述底纸的一面与第一抗静电涂层的一面通过所述胶水粘贴，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层的厚度尺寸均为0.012-0.024mm，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层的抗静电涂层为相同或不相同。
【专利摘要】本实用新型公开了一种新型不干胶薄膜，包括底纸、胶水和面材，还包括第一抗静电涂层和第二抗静电涂层，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层分别涂设在所述面材的两面，所述底纸的一面与第一抗静电涂层的一面通过所述胶水粘贴，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层的厚度尺寸均为0.012-0.024mm，所述第一抗静电涂层和第二抗静电涂层的抗静电涂层为相同或不相同。通过在面材的两面涂复有第一、第二抗静电涂层，可以有效的消除了电子电器元器件材料本身及保护膜在加工过程中产生的静电，从而消除了产生静电不良影响，避免了电子电器元器件的损坏或短路的现象，进一步保证了其产品的合格率，给企业带来了很大的方便。
【IPC分类】G09F3-02
【公开号】CN204406900
【申请号】CN201520019151
【发明人】杨晓群
【申请人】苏州广尔纳胶粘制品有限公司
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2015年1月12日