专利名称：雾面转印膜结构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种转印膜结构，具体讲是涉及一种雾面转印膜结构。
背景技术：
产品外观构装为影响消费行为的重要因素，具备独特构图设计与时尚质感的产 品往往能够得到较多青睐。模内装饰(IMD，In-mold decoration)为一项新型塑料加工 技术，是将上方印有装饰图纹的转印膜定位于射出机的模具内，在塑料制品射出成形同 时，进行图纹转印，完成壳体外观装饰。相对于传统喷涂、印刷、电镀等加工方式， 模内装饰技术可配合制品批量生产，连续完成图纹转印，可简化生产步骤、缩短制程时 间，己广泛应用于电子装置、家用电器等诸多领域。雾面化为常见的外观设计方式，为达到雾面效果，必须对转印膜结构采取特殊 处理。图1为现有技术的雾面转印膜结构的剖面示意图，图2为图1的雾面转印膜结构 的应用状态剖面示意图。如图所示，雾面转印膜结构10包括一基底薄膜层11、一凸块 结构层12、一离型层13、一硬化膜层14、一饰纹层15以及一黏着膜层16。基底薄膜层 11可为塑料、金属或纤维系薄膜，用来提供表面平坦且不易变形的基材，以利于后续涂 布与印刷等加工工艺。凸块结构层12通过网版印刷或凹版印刷方式涂布在基底薄膜层11 表面上方，用来使基底薄膜层11表面形成凹凸结构。离型层13设置于基底薄膜层11及 凸块结构层12的表面上方，用来辅助基底薄膜层11离型。硬化膜层14设置于离型层13 表面上，由树脂溶液干燥形成，为具有高硬度的保护层，由于硬化膜层14是间隔着离型 层13邻接于基底薄膜层11及凸块结构层12，因此其下表面同样形成凹凸结构。饰纹层 15设置于硬化膜层14表面上，是由印刷形成的油墨装饰图纹。黏着膜层16设置于饰纹 层15表面上方。在转印的时候，提供一定的制程条件(例如预定温度值)，使黏着膜层16紧 密黏着于物品80表面，从而将雾面转印膜结构10结合于物品80。最后，借着离型层13 将基底薄膜层11与凸块结构层12撕离，完成图纹转印。硬化膜层14的表面凹凸结构将 可达到雾面化的视觉效果。上述的雾面转印膜结构10虽可达到雾面化效果，但是其必须 额外经由繁琐工序，制版印刷完成凸块结构层12的制作，不仅耗费工时，更造成制程成 本提高。图3为另一现有技术的雾面转印膜结构的剖面示意图。图中的雾面转印膜结构 20系由次序堆栈的一基底薄膜层21、一离型层22、一硬化膜层23、一饰纹层24以及一 黏着膜层25共同构成。其中，硬化膜层23中掺杂有由微粒子230所构成的抗眩光剂， 从而达到雾面化效果。然而，由于硬化膜层23的机能为提供高硬度防护膜，掺杂其中的 微粒子230将破坏结构连续性，而降低其结构强度，致使膜层劣化风险提高，影响产品 的品质。
发明内容
为解决现有技术的不足，本发明目的在于提供一种雾面转印膜结构，不仅使转 印膜应用时达到雾面化效果，而且可精简雾面转印膜结构的制程工序，从而达到缩短工 时、降低成本的功效。为达上述目的，本发明是通过以下的技术方案来实现的。一种雾面转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层，包括由微粒子构成的 抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一离型层，设置于该基底薄膜层 的上表面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬化膜层的上 表面；一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。前述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的抗眩光剂的微粒子的粒径为0.1微 米至20微米。前述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的抗眩光剂的微粒子为氧化硅、氧化 钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。前述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的基底薄膜层为高分子聚合物基材， 该高分子聚合物基材的材料为聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树 脂、聚丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂中的一种高分子聚合物原料。前述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的基底薄膜层为一纤维系薄膜，该纤 维系薄膜为由玻璃纸或涂布纸或赛珞凡组成的一种薄膜。前述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的离型层的材料为聚硅氧烷系树脂、 三聚氰胺树脂、聚丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素系树脂、橡胶 系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙 烯一乙酸乙烯酯共聚物系树脂中的一种，其厚度为0.5微米至40微米。前述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的硬化膜层的材料为聚胺酯系树脂、 环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯 乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树 脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯中的一种， 其厚度为3微米至60微米。前述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的饰纹层包括油墨层，油墨层的材料 为聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙烯缩醛系 树脂、聚酯胺基甲酸酯系树脂、纤维素酯系树脂、醇酸树脂中的一种加入颜料混合制得。前述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的黏着膜层的材料为聚胺酯系树脂、 环氧系树脂、压克力系树脂、聚乙烯系树脂、聚酰胺系树脂中的一种，其的厚度为3微 米至50微米。本发明的有益效果为本发明的雾面转印膜结构是在基底薄膜层添加由微粒子 构成的抗眩光剂，使基底薄膜层具有凹凸粗糙表面，使得间隔着离型层邻接于基底薄膜 层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，在转印膜应用时达到雾面化效果。本发明将可精 简雾面转印膜结构的制程工序，从而达到缩短工时、降低成本等功效。同时，本发明还 可维持硬化膜层的完整性，保持膜层结构强度，提高产品的品质。
图1为现有技术的雾面转印膜结构的剖面示意图。图2为图1的雾面转印膜结构的应用状态的剖面示意图。图3为另一现有技术的雾面转印膜结构的剖面示意图。图4为本发明的雾面转印膜结构的实施例的剖面示意图。图中主要标记含义说明10、20、30雾面转印膜结构，11、21、31基底薄膜 层，12凸块结构层，13、22、32离型层，14、23、33硬化膜层，15、24、34 饰纹 层，16、25、35 黏着膜层，230、310微粒子，340 油墨层，80物品。
具体实施例方式以下结合附图和具体实施例，对本发明作详细的介绍。首先，请参阅图4，图4为本发明的雾面转印膜结构的实施例的剖面示意图。如 图所示，雾面转印膜结构30包括一基底薄膜层31、一离型层32、一硬化膜层33、一饰纹 层34，以及一黏着膜层35。基底薄膜层31掺杂有由微粒子310构成的抗眩光剂，使基 底薄膜层31具有一凹凸粗糙的上表面。离型层32设置于基底薄膜层31的上表面；硬化 膜层33设置于离型层32的上表面饰纹层34设置于硬化膜层33的上表面；黏着膜层 35设置于饰纹层34的上表面。由于硬化膜层33是间隔着离型层32邻接于基底薄膜层31，因此硬化膜层33的 表面将同样形成凹凸粗糙表面，在应用时可以达到雾面化效果。基底薄膜层31是提供后续涂布与印刷等加工工艺的基材，具备高平坦度且不易 变形，可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系 树脂、聚氯乙烯系树脂等高分子聚合物基材，或选用玻璃纸、涂布纸、赛珞凡等纤维系 薄膜，或上述薄膜组成的复合薄膜基材。在制程中，掺入由微粒子310构成的抗眩光剂 混合制备原料，经由热吹膜成形为片状结构，或制作成可连续进行涂布及印刷工序的大 面积卷装结构。基底薄膜层31的厚度约为5微米(丨I m)至300微米(〖I m)。所述的抗眩光剂可选用氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石、氧化钡等陶瓷 材料，微粒子310的粒径约为0.1微米(丨I m)至20微米(丨1 m)，分散于基底薄膜层31 内部及表面，将可使其表面凹凸粗糙。离型层32用来辅助基底薄膜层31离型，是通过涂布设备将原料溶液涂布在基底 薄膜层31表面上方，经过加热干燥或紫外线照射固化而形成，可选用聚硅氧烷系树脂、 三聚氰胺树脂、聚丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素系树脂、橡胶 系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙 烯一乙酸乙烯酯共聚物系树脂等材料，并根据材料种类，采取适当的固化方式。离型层 32的厚度约为0.5微米(JLl m)至40微米(衿m)。硬化膜层33为具有高硬度的保护层，是通过涂布设备将原料溶液涂布于离型层 32表面上方，经过固化形成，可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚 系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系 树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯 酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯等材料。第一硬化膜层33的厚度约为3微米(J-I.m)至60微米(JLl m)。硬化膜层33邻接离型层32的表面将同样形成凹凸粗糙表面，可 以在雾面转印膜结构30应用的时候，达到雾面化效果。饰纹层34包括一油墨层340，是采用网版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印 刷方式制作形成，提供油墨装饰图纹，其印刷原料一般可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系 树脂、聚丙烯酸系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙烯缩醛系树脂、聚酯胺基甲酸酯系 树脂、纤维素酯系树脂、醇酸树脂等树脂为结合剂加上颜料混合制得。黏着膜层35可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚乙烯系树 脂、聚酰胺系树脂等材料，以涂布设备将原料溶液涂布于饰纹层34表面上方，经过干燥 形成。黏着膜层35的厚度为3微米(丨I m)至50微米(丨I m)。本发明的雾面转印膜结构30是在基底薄膜层31掺杂抗眩光剂，即可使硬化膜 层33形成凸凹粗糙的表面，而不需要再额外印刷凸块结构，相对于现有的雾面转印膜结 构，本发明维持了硬化膜层33的结构完整性，可以保持膜层结构强度。综上所述，本发明的雾面转印膜结构系于基底薄膜层添加由微粒子构成的抗眩 光剂，使基底薄膜层具有凹凸粗糙表面，使得间隔离型层邻接于基底薄膜层的硬化膜层 同样形成凹凸粗糙表面，而于转印膜应用时达到雾面化效果。本发明将可精简雾面转印 膜结构的制程工序，从而达到缩短工时及降低成本等功效。同时，本发明维持了硬化膜 层的完整性，可保持膜层结构强度。上述实施例不以任何形式限制本发明，凡采用等同替换或等效变换的方式所获 得的技术方案均落在本发明的保护范围内。
权利要求
1.雾面转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层，包括由微粒子构成的抗眩光 剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表 面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬化膜层的上表面； 一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。
2.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的抗眩光剂的微粒子的粒 径为0.1微米至20微米。
3.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的抗眩光剂的微粒子为氧 化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。
4.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的基底薄膜层为高分子 聚合物基材，该高分子聚合物基材的材料为聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树 脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂中的一种高分子聚合物原料。
5.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的基底薄膜层为一纤维系 薄膜，该纤维系薄膜为由玻璃纸或涂布纸或赛珞凡组成的一种薄膜。
6.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的离型层的材料为聚硅氧 烷系树脂、三聚氰胺树脂、聚丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素系 树脂、橡胶系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯 共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系树脂中的一种，其厚度为0.5微米至40微米。
7.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的硬化膜层的材料为聚胺 酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系 树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、 聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯 中的一种，其厚度为3微米至60微米。
8.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的饰纹层包括油墨层，油 墨层的材料为聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、 聚乙烯缩醛系树脂、聚酯胺基甲酸酯系树脂、纤维素酯系树脂、醇酸树脂中的一种加入 颜料混合制得。
9.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于所述的黏着膜层的材料为聚胺 酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚乙烯系树脂、聚酰胺系树脂中的一种，其厚 度为3微米至50微米。
全文摘要
本发明涉及一种雾面转印膜结构，包括一基底薄膜层、一离型层、一硬化膜层、一饰纹层以及一黏着膜层。基底薄膜层包括由微粒子构成的抗眩光剂，使基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面，离型层设置于基底薄膜层的上表面，硬化膜层设置于离型层的上表面，硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，饰纹层设置于硬化膜层的上表面，黏着膜层设置于饰纹层的上表面。本发明可精简雾面转印膜结构的制程工序，从而达到缩短工时、降低成本等功效。同时，本发明还可维持硬化膜层的完整性，保持膜层结构强度，提高产品的品质。
文档编号B44C1/165GK102009540SQ20101053842
公开日2011年4月13日 申请日期2010年11月10日 优先权日2010年11月10日
发明者韩久康 申请人:琨诘电子(昆山)有限公司