一种花纹盖板的制作方法

文档序号:14171076阅读:411来源:国知局

本实用新型涉及盖板加工技术领域,尤其涉及一种花纹盖板。



背景技术:

目前市场上越来越多的电子产品的盖板开始采用的花纹盖板,而目前花纹盖板大多采用UV压印、贴膜等方式获得,上述方式获得的花纹盖板主要存在一下缺陷:花纹不耐摩擦,3D视觉效果差,纹路立体感不强,花纹精度不高,触感不佳,档次感较低;此外贴膜图案加工制作不方便,贴膜易褶皱。

综上所述,如何解决花纹盖板的花纹精度和档次感较低的问题,已成为本领域技术人员亟待解决的技术难题。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提供一种花纹盖板,以提升花纹盖板的花纹精度和档次感。

为了实现上述目的,本实用新型提供了一种花纹盖板,包括盖板本体,所述盖板本体上设置有花纹,所述花纹为通过蚀刻处理得到花纹,且所述花纹的线宽为5-59μm,所述花纹的深度为0.1-4.9μm。

优选地,所述花纹的最小线间距为5μm。

优选地,所述盖板本体为玻璃盖板。

优选地,所述玻璃盖板为3D玻璃盖板。

优选地,所述玻璃盖板为2.5D玻璃盖板。

优选地,所述玻璃盖板为2D玻璃盖板。

优选地,所述花纹覆盖整个盖板本体。

优选地,所述花纹仅覆盖盖板本体的局部。

优选地,所述花纹盖板为手机后盖。

相比于背景技术介绍内容,上述花纹盖板,包括盖板本体,盖板本体上设置有花纹,花纹为通过蚀刻处理得到花纹,且花纹的线宽为5-59μm,花纹的深度为0.1-4.9μm。通过蚀刻工艺得到的花纹盖板上的花纹3D视觉效果得到明显的加强,并且通过将花纹的线宽设定在5-59μm,花纹的深度设定为0.1-4.9μm,从而使得花纹整体的纹路更加精细,大大提升了花纹精度和档次感。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的花纹盖板的结构示意图。

上图1中,

盖板本体1、花纹2。

具体实施方式

本实用新型的核心是提供一种花纹盖板,以提升花纹盖板的花纹精度和档次感。

为了使本领域的技术人员更好地理解本实用新型提供的技术方案,下面将结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

如图1所示,本实用新型实施例提供的一种花纹盖板,包括盖板本体,盖板本体1上设置有花纹2,花纹2为通过蚀刻处理得到花纹,且花纹2的线宽为5-59μm,花纹2的深度为0.1-4.9μm。

上述花纹盖板,通过蚀刻工艺得到的花纹盖板上的花纹3D视觉效果得到明显的加强,并且通过将花纹的线宽设定在5-59μm,花纹的深度设定为0.1-4.9μm。从而使得花纹整体的纹路更加精细,大大提升了花纹精度和档次感。

这里需要说明的是,在蚀刻处理过程中,为了能够实现蚀刻处理得到的花纹的线宽在5-59μm,花纹的深度再0.1-4.9μm,需要对蚀刻工艺中的保护膜厚度进行改进,因为保护膜膜厚越薄,花纹纹路就会越精细,但是通过试验验证发现,膜层变薄,其抗酸性能也会受到影响,本申请技术方案中在保证保护膜抗酸的情况下,采用的保护膜的厚度为1-10μm,从而实现了将盖板的蚀刻花纹的线宽和线距做到5μm。

在一些具体的实施方案中,上述花纹2的最小线间距为5μm。通过将花纹的最小线间距设计成5μm进一步提升了花纹纹路的精细程度。

在一些更具体的实施方案中,上述盖板本体1可以为玻璃盖板,也可以是本领域技术人员常用的其他可通过蚀刻进行加工的盖板本体。

进一步的实施方案中,上述玻璃盖板1可以为3D玻璃盖板,也可以为2.5D玻璃盖板,还可以为2D玻璃盖板。实际生产过程中可根据实际生产需求选择对应的玻璃盖板。

此外,上述花纹2可以是覆盖整个盖板本体,也可以仅仅覆盖盖板本体的局部。实际生产中根据具体的生产要求进行相应的选择。

并且,上述花纹盖板可以为手机后盖,也可以是笔记本电脑的盖板,又或者是平板电脑的盖板等。

以上对本实用新型所提供的花纹盖板进行了详细介绍。需要说明的是,本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括上述要素的物品或者设备中还存在另外的相同要素。

本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以对本实用新型进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。

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