本实用新型涉及机械加工技术领域，尤其涉及一种自动清理废屑的数控雕刻机。
背景技术：
数控雕刻机可对木门，家具，金属，亚克力等进行浮雕、平雕、镂空雕刻等，雕刻速度快，精度高。在进行雕刻之前，将待雕刻的板材物料抬起至雕刻机的面板上，而后通过压紧装置将物料紧压在面板之上，再通过铣刀的自由移动对物料进行雕刻。在进行雕刻时，铣刀在物料表面进行行走雕刻，将产生大量的废屑，废屑堆积在面板之上，为加快雕刻进度，通常只在物料完全雕刻完毕之后，通过吸尘器再将面板上的大量废屑全部吸走除掉，但在雕刻时，这些废屑始终处在面板之上，废屑进入铣刀与物料之间，铣刀旋转时不仅对物料的雕刻效果造成影响，而且大量的废屑会散布在空气中，将直接被工作人员吸入体内，存在较大的健康隐患。
技术实现要素：
为了解决上述背景技术中提到的问题，本实用新型提供一种自动清理废屑的数控雕刻机。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种自动清理废屑的数控雕刻机，包括工作台，所述工作台的上端固定连接有机体外壳，所述机体外壳的上端中心处设有驱动装置，且驱动装置的下端固定连接有支撑板，支撑板的底部设有铣刀具，所述铣刀具的外壁两侧对称固定连接有固定板，且固定板的底部一侧固定连接有斜块，所述斜块的外壁一侧安装有风扇，且风扇的外部设有一层防护罩，所述工作台的台面内壁均匀设有若干个废屑通孔，且废屑通孔的底部连通有收集漏斗，所述收集漏斗的底部通过导管连接有吸尘器，所述机体外壳下端外壁的两侧对称设有驱动电机，且驱动电机的一侧设有伸缩杆，所述伸缩杆远离驱动电机的一端垂直设有支杆，且支杆的下端固定连接有毛刷。
优选地，所述斜块倾斜的角度为45-60度。
优选地，所述毛刷与工作台的台面贴合。
优选地，所述工作台的台面上端铺设有一层防滑垫。
优选地，所述防护罩的外壁设有过滤网。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：首先将待雕刻的物料放置于工作台的上端中心处，启动驱动装置，使得铣刀具对物料进行雕刻，此时，再通过外置控制开关启动风扇，由于斜块倾斜的角度为45-60度，使得雕刻机一边进行雕刻，一边能够进行吹风除尘，避免雕刻时废屑附着在物料表面，影响雕刻质量，同时，吹掉的废屑经废屑通孔进入收集漏斗内，并在吸尘器的吸附作用下，进行收集除尘，而为了避免废屑堵住废屑通孔，启动驱动电机，使得伸缩杆带动毛刷进行往返运动，对废屑通孔的入口处进行清扫。本实用新型结构简单，易操作，不仅避免了废屑附着在物料表面，且对废屑进行收集清理，适宜广泛推广。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型A结构放大示意图。
图中：工作台1、机体外壳2、驱动装置3、支撑板4、铣刀具5、废屑通孔6、收集漏斗7、吸尘器8、驱动电机9、伸缩杆10、支杆11、毛刷12、固定板13、斜块14、风扇15、防护罩16。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-2，一种自动清理废屑的数控雕刻机，包括工作台1，工作台1的台面上端铺设有一层防滑垫，增加表面摩擦力，工作台1的上端固定连接有机体外壳2，机体外壳2的上端中心处设有驱动装置3，且驱动装置3的下端固定连接有支撑板4，支撑板4的底部设有铣刀具5，铣刀具5的外壁两侧对称固定连接有固定板13，且固定板13的底部一侧固定连接有斜块14，斜块14的外壁一侧安装有风扇15，且风扇15的外部设有一层防护罩16，防护罩16的外壁设有过滤网，能够过滤废屑，避免影响风扇15的使用，斜块14倾斜的角度为45-60度，使得风扇15能够对雕刻物料进行吹风，工作台1的台面内壁均匀设有若干个废屑通孔6，且废屑通孔6的底部连通有收集漏斗7，收集漏斗7的底部通过导管连接有吸尘器8，机体外壳2下端外壁的两侧对称设有驱动电机9，且驱动电机9的一侧设有伸缩杆10，伸缩杆10远离驱动电机9的一端垂直设有支杆11，且支杆11的下端固定连接有毛刷12，毛刷12与工作台1的台面贴合，方便对废屑进行清理，驱动装置3、吸尘器8、驱动电机9和风扇15均通过外置控制开关电性连接市电。
工作原理：本实用新型中，首先将待雕刻的物料放置于工作台1的上端中心处，启动驱动装置3，使得铣刀具5对物料进行雕刻，此时，再通过外置控制开关启动风扇15，由于斜块14倾斜的角度为45-60度，使得雕刻机一边进行雕刻，一边能够进行吹风除尘，避免雕刻时废屑附着在物料表面，影响雕刻质量，同时，吹掉的废屑经废屑通孔6进入收集漏斗7内，并在吸尘器8的吸附作用下，进行收集除尘，而为了避免废屑堵住废屑通孔6，启动驱动电机9，使得伸缩杆10带动毛刷12进行往返运动，对废屑通孔6的入口处进行清扫。
以上，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。