专利名称：曝光机器及曝光系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种曝光机器及曝光系统，且特别是涉及一种可以同时分层曝光多片液晶显示面板的曝光机器及曝光系统。
背景技术：
近年来液晶显示器(liquid crystal display，LCD)的技术快速进步，对于液晶显示装置优劣的关键性参数，例如反应时间、视角、亮度、对比等，莫不积极寻求改进的空间。
有鉴于此，自聚合高分子辅助配向(polymer stabilized alignment，PSA)技术被提出以后，由于该技术所制造的液晶显示面板具有快速反应时间、大视角、高开口率(高发光效率)、高对比且工艺简单等优点，自公开以来一直受到相当的重视，被视为能成为下一代液晶显示装置市场中的主流技术。
而在PSA技术中，其主要在多域垂直配向(multi-domain vertical aligned，MVA)型液晶里加入微量的反应型单体(reactive monomer)，并在施加电压及紫外光(UV light)的照射下，反应型单体会发生聚合反应并发生相分离现象。当聚合分子在界面堆积时，由于聚合分子跟液晶分子之间的相互作用力，使得聚合分子顺着液晶分子方向排列堆积，因而使得面板中的液晶分子在一定方向上具有预倾角(pre-tile angle)。而这个预倾角除了决定液晶显示面板在被电压驱动时液晶分子的倾倒方向，也直接关系液晶分子在不同电压驱动下的透光量。
然而，如果在第一次施加电压及UV光曝光工艺时，单体并未完全反应，则残留于面板内的单体容易受到外界光线照射下进一步反应。如此一来将影响到液晶分子的预倾角，造成预倾角局部分布不均，而有面板光学性质不稳定及残影(image sticking)等问题发生。而所发生的此类型的残影，主要是由于液晶分子预倾角不同所致，是无法恢复性的瑕疵，而在面板显示中更是极易被发现，在面对液晶显示面板愈来愈严苛的品质要求下，此类型添加反应型单体的液晶显示器技术若要成为具有实用性及可量产的主流技术，解决因微量单体残留所造成的残影问题是不可避免的。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的就是在提供一种曝光机器及曝光系统，以光化学反应的方式，使添加反应型单体的液晶显示面板内的残余单体能够完全反应完毕。
根据本发明的目的，提出一种曝光机器，用于对至少一第一液晶显示面板及一第二液晶显示面板进行曝光，包括一本体及至少一第一曝光源及一第二曝光源。本体具有至少一第一平台及一第二平台，第二平台位于第一平台之下，第一液晶显示面板及第二液晶显示面板分别置放于第一平台及第二平台上。第一曝光源及第二曝光源分别设置于第一平台及第二平台之上，用以分别曝光第一液晶显示面板及第二液晶显示面板。
根据本发明的目的，提出一种曝光系统，包括多个平台、多个液晶显示面板及至少一曝光源。多个平台位于不同平面上，多个液晶显示面板设置于平台上。至少一曝光源设置于平台上方，用以分别曝光液晶显示面板。
为让本发明的上述目的、特征、和优点能更明显易懂，以下配合附图以及优选实施例，以更详细地说明本发明。
图1A绘示本发明实施例一的一种曝光机器的示意图；图1B绘示本发明实施例一的另一种曝光机器的示意图；图2绘示本发明实施例二的一种曝光机器的示意图；图3绘示本发明实施例三的一种曝光机器的示意图；以及图4绘示本发明实施例四的一种曝光机器的示意图。
简单符号说明10、40第一LCD面板20、50第二LCD面板30、60第三LCD面板100、100a、200、300、400曝光机器110、210、310、410本体112、212、312、412第一平台
114、214、314、414第二平台116、216、316、416第三平台120、220、320、420第一曝光源130、230、330、430第二曝光源140、240、340、440第三曝光源150、350、450温控装置312a、412a第一输送装置312b、314b、316b隔墙314a、414a第二输送装置316a、416a第三输送装置320a第一子曝光源320b第二子曝光源320c第三子曝光源470a、470b传递装置具体实施方式
本发明提供具有多个平台的曝光机器及系统，各平台位于不同平面上。多片液晶显示面板设置于平台上进行曝光，曝光源设置于各平台上方，用以分别曝光液晶显示面板。以下分别以不同实施例做说明。
实施例一请参照图1A，其绘示本发明实施例一的一种曝光机器的示意图。曝光机器100包括本体110及第一曝光源120、第二曝光源130及第三曝光源140。第一曝光源120、第二曝光源130及第三曝光源140可分别独立开启或关闭，且分别包括多个紫外光灯(UV lamp)。紫外光灯所产生的光波的波长范围约在300纳米(nm)～400nm之间，以利于单体进行反应。本体110具有第一平台112、第二平台114及第三平台116。第二平台114位于第一平台112之下，第三平台116又位于第二平台114之下，且第一平台112、第二平台114及第三平台116实质上与地面平行。第一LCD面板10、第二LCD面板20及第三LCD面板30分别置放于第一平台112、第二平台114及第三平台116上，此外，第一平台112、第二平台114或第三平台116上可放置多个LCD面板，本发明并不局限。第一曝光源120、第二曝光源130及第三曝光源140分别设置于第一平台112、第二平台114及第三平台116之上，用以分别曝光第一LCD面板10、第二LCD面板20及第三LCD面板30。由于曝光机器100采用垂直分层结构进行曝光工艺，比起传统在平面上进行曝光可以节省许多空间。可在地板面积有限的厂房里曝光数量更多的LCD面板，并可提供更长的曝光时间以利于掺杂于液晶中的单体完全反应完毕，降低残影发生的机率。
此外，曝光机器100还包括温控装置150，可控制第一LCD面板10、第二LCD20面板及第三LCD面板30的温度范围约于-20℃～120℃之间，或是优选地控制温度范围约于25℃～60℃之间，以利于单体的反应。
请参照图1B，其绘示本发明实施例一的另一种曝光机器的示意图。曝光机器100a与曝光机器100的主要不同之处，在于增加电压施加模块160，其余与曝光机器100相同的元件继续沿用其标号。电压施加模块160包括第一电压施加装置162、第二电压施加装置164及第三电压施加装置166，可分别对第一LCD面板10、第二LCD面板20及第三LCD面板30施加电压。因此曝光机器100a可以同时进行施加电压进行曝光及不施加电压进行曝光的工艺，这是传统单一机器无法办到的。而本实施例的曝光机器100及100a不限制于三层，分层的数量可以视实际需要设计，不影响本发明的范围。此外，分别对应第一平台112、第二平台114及第三平台116的第一电压施加装置162、第二电压施加装置164及第三电压施加装置166，可用以同时或逐次分别施加电压于位于第一平台112、第二平台114及第三平台116上的多个LCD面板。
实施例二请参照图2，其绘示本发明实施例二的一种曝光机器的示意图。曝光机器200与实施例一的曝光机器100a的主要不同之处，在于本体210的第一平台212、第二平台214、第三平台216实质上与地面垂直，第一LCD面板10、第二LCD面板20及第三LCD面板30分别设置于第一平台212、第二平台214及第三平台216上以第一曝光源220、第二曝光源230及第三曝光源240进行曝光。其余与曝光机器100a相同的元件继续沿用标号并不再描述其功能。
实施例三请参照图3，其绘示本发明实施例三的一种曝光机器的示意图。曝光机器300与实施例一的曝光机器100a的主要不同之处，在于该第一平台312、第二平台314及第三平台316内还分别包括第一输送装置312a、第二输送装置314a及第三输送装置316a，用以分别输送第一LCD面板40、第二LCD面板50及第三LCD面板60。本实施例中第一输送装置312a、第二输送装置314a及第三输送装置316a分别包括多个滚轮以带动LCD面板。然而，也可采用输送带替代滚轮承载LCD面板。其余与曝光机器100a相同的元件继续沿用标号并不再描述其功能。此外，分别对应第一输送装置312a、第二输送装置314a及第三输送装置316a的第一电压施加装置162、第二电压施加装置164及第三电压施加装置166，可用以同时或逐次分别施加电压于位于第一输送装置312a、第二输送装置314a及第三输送装置316a上的多个LCD面板。
此外，如图3所示，以隔墙312b、314b及316b将第一平台312、第二平台314及第三平台316对应区分出第一～第三子区域(未标示)，仅留下供LCD面板输送通过的开口。而第一曝光源320、第二曝光源330及第三曝光源340亦对应区分出第一～第三子曝光源对应于各平台的第一～第三子区域。例如第一曝光源320的第一、第二、第三子曝光源320a、320b，320c，分别对应于第一平台312的第一～第三子区域(未标示)。因此在各平台上，即可分区控制曝光源的开关，可以更灵活的因应工艺上曝光的需求。当然，本实施例的曝光机器300并不限于仅区分为三个子区域，可以视实际需要区分出更多的子区域。
另外，本实施例的温控装置350，可以设计成能够分别控制LCD面板于各平台的第一～第三子区域时的温度，与子曝光源进行组合可以产生更具多样性的曝光环境。而隔墙312b、314b、316b优选地可以采用隔热及/或抗UV光的材料，例如为压克力、高分子材料、石棉或纳米材料。第一～第三子区域可视为多个腔体，各个腔体可独立控温，因此温控装置需连接至各个腔体(不一定要连至LCD面板)。
实施例四请参照图4，其绘示本发明实施例四的一种曝光机器的示意图。曝光机器400与曝光机器100a的主要不同之处，在于第一平台412、第二平台414及第三平台416实质上与地面形成锐角。而与曝光机器300相较，第一平台412与第二平台414的第一输送装置412a及第二输送装置414a的输送方向分别为往左下及右下，而第三平台416的第三输送装置416a亦往左下输送，因此构成一“之”字型的输送路径。而第一平台412及第二平台414之间透过传递装置470a传递LCD面板，第二平台414及第三平台416之间亦藉由传递装置470b进行传递LCD面板。本实施例中传递装置470a、470b以可转动的活动衔接板做说明，然而亦可以用升降装置传递LCD面板。本实施例中的曝光机器400可以将LCD面板由最上层直接输送到最下层，且各平台可分别控制曝光源的开启及电压的施加，产生灵活多样的曝光环境。并可视实际需要设计不同数量的平台以因应工艺的需求。其余与曝光机器100a相同的元件继续沿用标号并不再叙述其功能。
上述各实施例可个别或组合形成曝光系统，包括多个平台，位于不同平面上；多个液晶显示面板，设置于该些平台上；以及至少曝光源，设置于该些平台上方，用以分别曝光该些液晶显示面板。此外，多曝光机器可形成曝光系统。
本发明上述实施例所揭露的曝光机器及曝光系统，利用低成本的UV发光元件组成UV曝光机构，并且进一步扩充为多层式的设计，而成为多层式曝光系统。利用此多层式曝光系统，能够一次进行多片LCD面板半成品的曝光工艺，并可分别施加电压及分段曝光。除了可以节省工艺成本及设备空间外，在兼顾量产时程考虑下，可以更充裕的时间让单体充分反应，解决反应型单体技术的液晶显示面板的光学性质不稳定及残影问题。
综上所述，虽然本发明以优选实施例揭露如上，然而其并非用以限定本发明，本领域的技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围应当以权利要求所界定者为准。
权利要求
1.一种曝光机器，用于对至少一第一液晶显示面板及一第二液晶显示面板进行曝光，包括本体，具有至少一第一平台及一第二平台，该第二平台位于该第一平台之下，该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板分别置放于该第一平台及该第二平台上；以及至少一第一曝光源及一第二曝光源，分别设置于该第一平台及该第二平台之上，用以分别曝光该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板。
2.如权利要求1所述的曝光机器，其中该第一曝光源及该第二曝光源可独立开启或关闭。
3.如权利要求1所述的曝光机器，其中该第一曝光源及该第二曝光源分别包括至少一个紫外光灯。
4.如权利要求3所述的曝光机器，其中该紫外光灯所产生的光波的波长范围约在300纳米～400nm之间。
5.如权利要求1所述的曝光机器，还包括至少一第一电压施加装置及一第二电压施加装置，分别用以对该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板施加电压。
6.如权利要求1所述的曝光机器，其中该第一平台及该第二平台内还分别包括第一输送装置及第二输送装置，用以输送该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板。
7.如权利要求6所述的曝光机器，其中该第一输送装置及该第二输送装置分别包括多个滚轮。
8.如权利要求6所述的曝光机器，其中该第一输送装置及该第二输送装置分别包括输送带。
9.如权利要求6所述的曝光机器，其中该第一输送装置及该第二输送装置具有不同的输送方向。
10.如权利要求1所述的曝光机器，还包括至少一传递装置，用以从该第一平台传递该第一液晶显示面板至该第二平台上。
11.如权利要求1所述的曝光机器，还包括温控装置，其中该第一平台具有至少一第一子区域及一第二子区域，该温控装置用以控制该第一液晶显示面板位于该第一子区域及该第二子区域时具有不同温度。
12.如权利要求1所述的曝光机器，还包括温控装置，用以控制该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板的温度范围约于-20℃～120℃之间。
13.如权利要求1所述的曝光机器，还包括温控装置，用以控制该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板的温度范围约于25℃～60℃之间。
14.如权利要求1所述的曝光机器，其中该第一平台及该第二平台实质上与地面平行。
15.如权利要求1所述的曝光机器，其中该第一平台及该第二平台实质上与地面垂直。
16.如权利要求1所述的曝光机器，其中该第一平台及该第二平台实质上与地面形成锐角。
17.一种曝光系统，包括多个平台，位于不同平面上；多个液晶显示面板，设置于该些平台上；以及至少一曝光源，设置于该些平台上方，用以分别曝光该些液晶显示面板。
全文摘要
一种曝光机器，用于对至少一第一液晶显示面板及一第二液晶显示面板进行曝光，包括一本体及至少一第一曝光源及一第二曝光源。本体具有至少一第一平台及一第二平台，第二平台位于第一平台之下，第一液晶显示面板及第二液晶显示面板分别置放于第一平台及第二平台上。第一曝光源及第二曝光源分别设置于第一平台及第二平台之上，用以分别曝光第一液晶显示面板及第二液晶显示面板。
文档编号G03F7/20GK1869780SQ20061009409
公开日2006年11月29日 申请日期2006年6月22日 优先权日2006年6月22日
发明者林朝成, 郑德胜, 白家瑄, 谢忠憬, 丘至和, 杉浦规生, 廖唯伦, 连水池 申请人:友达光电股份有限公司