专利名称：用于评估具有重复图案的物体的方法和系统的制作方法
技术领域：
本发明主要涉及诸如包括重复图案的掩模或晶圆的物体的自动光学评估的领域。
背景技术：
诸如晶圆和光掩模的物体通过由辐射照明该物体并检测从该物体分散、从该物体反射或穿过该物体的信号而进行评估。辐射可包括光辐射、紫外线辐射和深紫外线辐射。
所检测的信号由少数个众所周知的缺陷检测方法中的其中一种进行处理。部分方法包括比较表示所检査图案的检测信号与表示参考图案的相应信号。后者可以为例如经检査的物体另一区域中的相应地类似图案(通常称为"芯片与芯片(Die-to-Die)"检査)。另一实施例为通过适当的物理模制而产生的具有期望设计的合成图案(称为"芯片与数据库"比较)。
在许多情形下，所检查的物体包括重复图案。重复图案包括多个规则重复的结构元素及它们的背景。这些多个规则重复的结构元素在光学上区别于它们的背景。例如，当多个规则重复的结构元素不透明时，背景为透明的。
对于任一方法，物体的检测信号(即可形成所检查物体的图像)被减去参考信号(即可形成参考物体的图像)，并且该差值的简单度量，诸如其最高绝对值，用于确定缺陷是否存在。
所检查图案的检测信号的强度与所检测物体相关联的电场的绝对(复)振幅平方成正比，但是其额外地或可选地，由于存在缺陷而与场扰动成正比。与在所产生的图像电场具有巨大振幅的图案的区域上出现的缺陷相比，表不在产生低振幅图像电场的图案的区域上出现的缺陷的缺陷信息通常较弱(并且甚至不显著)。
图1示出了物体10的重复图案11的部分12的非限制实施例。重复图案
ll包括多个基本不透明的规则重复结构元素，诸如线14 (1) 、 14 (2)和14(3)，其在背景诸如透明线15上形成。基本透明的缺陷16位于线14 (3)上(内)，而另一基本不透明的缺陷17位于背景15上(或内)。预期与缺陷16相关的缺陷信息将难以被注意到，或者不像位于图案信息的值(振幅、场强度)较高的位置处的缺陷17 —样被关注。注意到， 一般地，位于不同背景内的相似缺陷可产生不同的缺陷信号。
图2示出了扫描部分重复图案所获得的现有技术的检测信号。振动曲线24示出了由于理想的不含缺陷的参考重复图案而期望形成于传感器上的电磁场。在缺陷16位置处(在传感器处)收到的净电磁场表示为26，而在缺陷17位置处收到的电磁场表示为27。在图2的底部面板上，示出了在缺陷16和17的传感器处收到的净强度，分别表示为26'和27'。
如可从图2中清晰地看出的，由于缺陷16引起的电场差异远小于由于缺陷17引起的差异。因此，与缺陷16相关的缺陷信息难以通过检测工艺注意到。因此，需要能在图案场的振幅较小的位置处也能进行缺陷检测的系统和方法。
发明内容
一种用于评估具有重复图案的物体的系统，该系统包括包含光学单元；其中所述光学单元包含照明光学系统、采集光学系统和辐射检测器；其中所述照明光学系统适于以少量辐射扫描所述重复图案，从而产生包括多个衍射瓣(diffraction lobe))的衍射图案；其中所述采集光学系统适于将来自所述重复图案的辐射聚焦到检测器上；其中所聚焦的辐射包含单一衍射瓣而不包含其它衍射瓣；其中所述检测器响应所聚焦的采集辐射而产生检测信号；其中所述光学单元适于在检测器的检测表面保持辐射图案，该辐射图案包含由所述重复图案产生的第一辐射图案成分和由所述缺陷产生的第二辐射图案成分；其中所述第一辐射图案成分比所述第二辐射成分强。所述重复图案包含多个规则重复的结构元素，该规则重复的结构元素与其背景在光学上不同。便利地，所述第一辐射图案成分基本恒定。
便利地，所述采集光学系统适于采集包括多个衍射瓣的辐射，适于阻挡除了所述单一衍射瓣之外的所有衍射P十；以及适于将来自包含所述单一衍射瓣的所述重复图案的辐射聚焦到所述检测器上。
便利地，所述采集光学系统适于将来自所述重复图案的辐射聚焦到所述检测器上；其中所聚焦的辐射包含单一衍射瓣和部分其它衍射瓣。
便利地，所述采集光学系统适于采集包括多个衍射瓣的辐射，并适于阻挡除了所述单 一衍射瓣和所述部分其它衍射瓣之外的所有衍射瓣。
便利地，所述采集光学系统适于采集包括单一衍射瓣的辐射，而不采集其它衍射瓣。
便利地，所述采集光学系统适于采集包含单一衍射瓣以及至少部分其它衍射瓣的辐射，而不采集此外的衍射瓣。
便利地，除了所述多个规则重复的结构元素之外的至少一个实体及其背景为至少部分透明的，且其中所述采集光学系统的至少一个透镜和所述照明光学系统的至少一个透镜设置在所述物体的相对侧。
便利地，所述多个规则重复的结构元素及其背景为至少部分反射性的，以及其中所述采集光学系统的至少一个透镜和所述照明光学系统的至少一个透镜设置在所述物体的相同侧。
便利地，该系统包含处理单元，该处理单元适于处理所述检测信号以评估所述物体。
一种用于评估具有重复图案的物体的方法，该方法包含(i)以少量辐射扫描所述重复图案，从而产生包含多个辐射瓣的衍射图案；其中所述重复图案包含多个规则重复的结构元素，该结构元素与其背景在光学上不同；(ii)采集来自所述重复图案的辐射并将包含单一衍射瓣而不包含其它衍射瓣的聚焦辐射聚焦到检测器上；其中在检测器的检测表面，所聚焦的辐射具有包含由所述重复图案产生的第一辐射图案成分和由所述缺陷产生的第二辐射图案成分的辐射图案；其中所述第一辐射图案成分比所述第二辐射成分强；以及(iii)由所述检测器检测所聚焦的采集辐射并响应产生检测信号。
便利地，所述第一辐射图案成分基本恒定。
便利地，所述方法包含采集含有多个衍射瓣的辐射以及阻挡除了单一衍射瓣之外的所有衍射瓣。
便利地，所述采集包含将包含单一衍射瓣和部分其它衍射瓣的辐射聚焦到所述检测器上。
便利地，所述方法包含采集含有多个衍射瓣的辐射，以及阻挡除了单一衍射瓣和部分其它衍射瓣之外的所有衍射瓣。
便利地，所述方法包含采集含有的单一衍射瓣的辐射，而不釆集其它衍射瓣。
便利地，包含采集含有单一衍射瓣和至少部分其它衍射瓣的辐射，而不采集此外的衍射瓣。
便利地，所述多个规则重复的结构元素及其背景至少部分透明，并且其中所述方法包含采集穿过所述物体的辐射。
便利地，除了所述多个规则重复的结构元素及其背景之外的至少一个实体为至少部分反射性的，以及其中所述方法包含采集从所述物体反射的辐射。
便利地，所述方法包含除了所述检测信号以评估所述物体。
为了理解本发明并明白其实际上如何实施，限制将参照附图，仅以非限制实施例方式，描述实施方式，其中
图1示出了部分重复图案和两个缺陷；
图2示出了通过扫描部分重复图案获得的现有技术缺陷信号；图3示出了根据本发明的实施方式用于评估具有重复图案的物体的系统和光瞳缝隙；
图4示出了根据本发明的另一实施方式的在物镜上的辐射图案-，
图5示出了根据本发明的实施方式的由图3的系统扫描图案的部分重复图
案获得的检测信号；
图6示出了根据本发明的另一实施方式由图3的系统扫描部分重复图案所
获得的检测信号；
图7示出了根据本发明的实施方式用于评估具有重复图案的物体的方法；
以及
图8示出了由模拟掩模检查系统而获得的样品初步结果。
具体实施例方式
本发明提供一种用于评估包括重复图案的物体的方法和系统。注意到系统 (或方法)可应用透射检查方案、反射检查方案，可使用脉冲光源或连续光源， 可利用可见光，利用紫外光或利用深紫外光，可利用轴上照明、离轴照明，可
包括多个检测器，可包括一个或多个空间频率滤波器或缝隙(aperture)，可 执行缺陷检测、缺陷复验、度量等等。
为了便于解释，以下附图关于通过透射检测方案进行的掩模检查。注意到 可检査其它物体(诸如但是不限于晶圆)。注意到即使掩模也可以反射模式进
行检查。
本领域的普通技术人员将理解检测信号的强度与形成于检测器上的电场 的绝对(复)振幅平方成正比。因此，当检测信号与参考信号进行比较时，两 种信号之间的差值(W)可响应于以下的和(i)由缺陷引起的电磁场的微扰 的平方(|5E|2)，以及(ii)由缺陷引起的电磁场的微扰、无缺陷图案 引起的电磁场和这些电磁场之间的相位角的余弦(COS0)的乘积。
以数学术语，参考强度(/<)与所检査图案的强度(/)之间的差值(W) 可表述为
3/= I —V , + ￡re/|2H(|￡re/| 2 + 2|￡re/^|cos0 +网2) H 2|￡,e/<5￡|cos0 +|犯|2.
假设评估重复图案，则￡<")为期望来自理想的无缺陷参考重复图案(也
称为图案信息)的电磁场，犯(X)为由缺陷的存在而引起的对电磁场的微扰
(也称为缺陷信息)，并且^为这两个场之间的相位。 在由图案引起的电磁场与微扰3五相比较弱的掩模的图像区域中，(即，
，缺陷信号^受^:平方的控制，也就是，3i叫刮2。例如， 当透明缺陷位于不透明规则重复的结构元素内时，这将发生。
相反地，在由图案引起的电磁场与微扰(5五相比较强的区域中，即，|￡re/0c)| |^(x)|)，缺陷信号(5/受截项2l^,刮cos0控制，并因而随犯线性变化。 例如，当不透明缺陷位于透明规则重复的结构元素内时，这将发生。
当对这两个制度进行比较时，注意到第二种情况对缺陷检测更有利，原因 在于其可能增强弱缺陷信息，否则该缺陷信息将太弱而不能被检测系统捕获。
因此，所提议的方法和系统产生由没有减小到较小振幅值的图案所引起的电磁场，其中该较小振幅值低于由缺陷存在而引起的电磁场，即所提出的方法 和系统避免了其中lA;,(x)l《l秘(x)1的情形。在检测器处保持该关系。
便利地，该系统和方法在检测器的检测表面处提供辐射图案，该图案包括 由重复图案产生的第一辐射图案成分以及由缺陷产生的第二辐射图案成分。第 一辐射图案成分比第二辐射成分强。
上述检测器不同于"经典的"暗场检测器，原因在于其检测部分图案信息。 上述检测器包括与辐射相互作用的表面。该表面可称为感应表面或检测表面。
图3示出了根据本发明的实施方式的系统100。
系统100包括光学单元110。光学单元no适于关于缺陷信息光学地衰减 重复图案信息。光学单元iio抑制在检测器处辐射图案的调制并同时实现缺陷
信息的较强增加。
光学单元110包括照明光学系统120、采集光学系统130和检测器140。 注意到系统100可包括其它检测器。
照明光学系统120适于以少量辐射扫描掩模10的重复图案11，从而产生 包括多个衍射瓣(diffraction lobe)的衍射图案。为了便于解释，图3示出了 零级衍射瓣210，以及两个其它衍射瓣209 (负一级衍射瓣)和211 (第一级 衍射瓣)。
照明光学系统120或系统100可包括辐射源(未示出)，其可以为准单色 光源，诸如ArF Eximer 193nm激光器。
便利地，照明光学系统120包括含有缝隙(aperture,也称之为光瞳面缝 隙)的空间频率滤波器121，通过该缝隙辐射在到达掩模10之前传播。
空间频率滤波器121可使照明光学系统120的数值孔径区别于采集光学系 统120的数值孔径。5是照明光学系统数值孔径与采集光学系统数值孔径之间 的比率。空间频率滤波器121可影响S使其具有期望值。6可以为中等、较小、 非常小、较大以及甚至非常大。
采集光学系统130适于将来自重复图案11的辐射(也称为聚焦辐射)230 聚焦到检测器140上。聚焦辐射230包括单一的衍射瓣(诸如零级衍射瓣210) 而不包括其它衍射瓣。
采集光学系统130包括空间频率滤波器131和物镜132。其还可以包括其 它透镜(或其它光学组件)，其为了便于解释没有示出。这些其它透镜可用于转播已获得的图像、图像放大或图像縮小，但是这不是必须的。
注意到，尽管图3示出零级衍射瓣210被导引朝向检测器140，但是其它 衍射瓣可聚焦到检测器140上，例如通过执行离轴采集。还注意到可放置多个 检测器以接收不同级的衍射瓣。
检测器140响应聚焦辐射230而产生检测信号。该检测器可以为电荷耦合 器件(CCD)阵列，但是这不是必需的。可使用其它图像检测器。
根据本发明的实施方式，采集光学系统130的数值孔径足够大以采集多个 衍射瓣。为了仅允许单一衍射瓣聚焦到检测器140上，空间频率滤波器131 阻挡源自图案ll的所有衍射级(或除了一个之外的所有衍射级)。空间频率 滤波器131可先于物镜132或之后为物镜132。为了便于解释，空间频率滤波 器131示为先于物镜132。空间频率滤波器131可位于物镜132的后焦平面中。 物镜132可包括多个透镜并且在该情形下空间频率滤波器131甚至可位于多个 透镜之间。
注意到，轴上照明可用于二元掩模并且当交替相移掩模需要离轴照明时衰 减相移掩模。
注意到，当照明纯相移掩模时，在不存在任何吸收材料处，还可使用其中 一种类型的照明(轴上或离轴)。
辐射图案190示出在没有空间频率滤波器131时物镜132可使三个衍射瓣 209、 210和211朝向检测器140聚焦，但是由于空间频率滤波器131，在零级 衍射瓣210穿过空间频率滤波器131的缝隙时，衍射瓣209和211被阻挡。空 间频率滤波器131的效应通过围绕衍射瓣210而没有围绕其它衍射瓣209和 211的圆192示出。
由于可用于处理任何调制的像场，至少两个独特的相互相干光束必须投射 到检测器140上，系统100不仅确保像场不调制，而且其成为非零常数，其具 有由掩模10的重复图案中的结构元素的透射比、相位和填充因数(filling factor)所确定的振幅。
例如，如果掩模10为衰减相移掩模，则系统100可照明该掩模并产生像
场，由于掩模上的大透明区域，该像场的振幅为因数/敲[l+7^COS仰sM]乘以振 幅。这里/填充为透射TVl的图案面积的一部分，以及仰SM为与其相关联的相 移。对于在6。/。透射比MoSi相移掩模上的50n/。填充系数的线与空间图案，该因数等于0.377。这导致了基本为常数且高于缺陷信息振幅的检测信号的图案
信息部分，因而有助于能易于被检测到的强缺陷信号。
根据本发明的另-一实施方式，空间频率滤波器131经过零级衍射瓣210 和衍射瓣209及211之外的至少一个其它衍射瓣的一部分。便利地，部分衍射 瓣209和部分衍射瓣211经过空间频率滤波器131。该过滤方案在图4中示出。
图5示出了根据本发明的实施方式在检测器140的检测表面处获得的辐射 图案。辐射图案包括由重复图案产生的第一辐射图案成分29。该第一辐射图 案成分为平坦的，其在重复图案的图像中不变化。由缺陷16和17产生的第二 辐射图案成分(26和27)比第一辐射图案成分29弱。在第一辐射图案成分 29上成阶层。
图6示出了根据本发明的另一实施方式的检测器140的检测表面处获得的 辐射图案。辐射图案包括由重复图案产生的第一辐射图案成分28。该第一辐 射图案成分28不平坦，其包括以弱振荡方式在重复图案上变化的弱振荡成分。 由缺陷16和17产生的第二辐射图案成分(26，和27，)比第一辐射图案成分 28弱。第二辐射图案在第一辐射图案成分28上成阶层。弱振荡可以为正弦曲 线。
图7示出了根据本发明实施方式用于评估掩模或晶圆的图案的方法300。 方法300可由系统IOO执行，但这不是必须的。
方法300由阶段310开始，即以少量辐射扫描重复图案，从而产生包括多 个衍射瓣的衍射图案；其中重复图案包括与其背景在光学上不同的多个规则重 复的结构元素。
阶段310之后为阶段320，即采集来自重复图案的辐射并将包括单一衍射 瓣而不包括其它衍射瓣的聚焦辐射聚焦到检测器上。
阶段320之后为阶段330，即通过检测器检测聚焦采集辐射并响应产生检 测信号。在检测器的检测表面，聚焦辐射具有辐射图案，该辐射图案包含由重 复图案产生的第一辐射图案成分和由缺陷产生的第二辐射图案成分。第一辐射 图案成分比第二辐射成分强。
便利地，第一辐射图案成本基本恒定。
便利地，阶段320包括采集包括多个衍射瓣的辐射的阶段322和阻挡除 了单一衍射瓣之外的所有衍射瓣的阶段324。便利地，阶段320包括将包括单一衍射瓣和部分其它衍射瓣的辐射聚焦到 检测器上。
便利地，阶段320包括采集包括多个衍射瓣的辐射的阶段322和阻挡除 了单一衍射瓣和部分其它衍射瓣之外的所有衍射瓣的阶段234'。
便利地，阶段320包括采集包括单一衍射瓣的辐射而不采集其它衍射瓣的 阶段326。
便利地，阶段320包括采集包括单一衍射瓣以及至少部分其它衍射瓣的辐 射而不采集此外的衍射瓣的阶段326'。
图8示出了缺陷尺寸(x-轴)和缺陷信号的标准振幅(y-轴)之间的关系。 该缺陷为在衰减相移掩模的周期线与空间的周期图案中在或者6n/。MoSi线(不 透明图案)或者在玻璃背景上的小方形铬(不透明缺陷)。两个半间距(重复 图案的)被考虑(65 nm和45 nm @ IX,即在掩模平面的260 nm和180 nm)， 并且铬缺陷尺寸从10nm到半间距等级变化。
曲线302示出了当使用灰场检测时铬缺陷尺寸(当位于玻璃背景上时) 与缺陷信号之间的关系。曲线304示出了当使用亮场(虚像)检测时铬缺陷 尺寸(当位于玻璃背景上时)与缺陷信号之间的关系。曲线306示出了当使 用灰场检测时铬缺陷尺寸(当位于MoSi线上时)与缺陷信号之间的关系。 曲线308示出了当使用亮场(虚像)检测时铬缺陷尺寸(当位于MoSi线上 时)与缺陷信号之间的关系。
缺陷信号标准化为背景/图案强度的最大值，以反应与亮场检测相比，利 用灰场检测可得到的在动态范围中的显著增加。
在信噪比(SNR)为1%级别时，大约60nm的缺陷易于被检测到。事实 上，图8示出了通过应用上述方法和系统，所有小缺陷的信号随[NAX缺陷尺 寸]2，而不管缺陷的特殊本性。其中NA为采集路径的数值孔径。
本领域的普通技术人员将易于理解在以上和通过附属的权利要求所限定 的范围下，各种变形和变化都可应用到以上所限定的本发明的实施方式。
权利要求
1、一种用于评估具有重复图案的物体的系统，该系统包含光学单元；其中所述光学单元包含照明光学系统、采集光学系统和灰场检测器；其中所述照明光学系统适于以少量辐射扫描所述重复图案，从而产生包含多个衍射瓣的衍射图案；其中所述采集光学系统适于将来自所述重复图案的辐射聚焦到检测器上；其中所聚焦的辐射包含单一衍射瓣而不包含其它衍射瓣；其中所述灰场检测器响应所聚焦的采集辐射而产生检测信号；其中所述重复图案包含多个规则重复的结构元素，该规则重复的结构元素与其背景在光学上不同；以及其中所述光学单元适于在所述灰场检测器的检测表面保持辐射图案，该辐射图案包含由所述重复图案产生的第一辐射图案成分和由所述缺陷产生的第二辐射图案成分；其中所述第一辐射图案成分比所述第二辐射成分强。
2、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一辐射图案成分基 本恒定。
3、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光学单元适于光学地 衰减所述重复图案信息，使得所述检测信号包含缺陷部分和弱振荡衰减的重复 图案部分；其中所述缺陷部分与所述弱振荡衰减的重复图案部分不同。
4、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述采集光学系统适于采 集包含多个衍射瓣的辐射，适于阻挡除了所述单一衍射瓣之外的所有衍射叶； 以及适于将来自包含所述单一衍射瓣的所述重复图案的辐射聚焦到所述检测 器上。
5、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述采集光学系统适于将 来自所述重复图案的辐射聚焦到所述检测器上；其中所聚焦的辐射包含单一衍 射瓣和部分其它衍射瓣。
6、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述采集光学系统适于采 集包含多个衍射瓣的辐射，并适于阻挡除了所述单一衍射瓣和所述部分其它衍 射瓣之外的所有衍射瓣。
7、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述采集光学系统适于采集包含单一衍射瓣的辐射，而不采集其它衍射瓣。
8、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述采集光学系统适于采 集包含单一衍射瓣以及至少部分其它衍射瓣的辐射，而不采集此外的衍射瓣。
9、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，除了所述多个规则重复的 结构元素之外的至少一个实体及其背景为至少部分透明的，且其中所述采集光 学系统的至少一个透镜和所述照明光学系统的至少一个透镜设置在所述物体 的相对侧。
10、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述多个规则重复的结构 元素及其背景为至少部分反射性的，以及其中所述采集光学系统的至少一个透 镜和所述照明光学系统的至少一个透镜设置在所述物体的相同侧。
11、 根据权利要求1所述的系统，其特征在于，包含处理单元，该处理单 元适于处理所述检测系统信号以评估所述物体。
12、 一种用于评估具有重复图案的物体的方法，该方法包含 以少量辐射扫描所述重复图案，以产生包含多个辐射瓣的衍射图案；其中所述重复图案包含多个规则重复的结构元素，该结构元素与其背景在光学上不 同；采集来自所述重复图案的辐射并将包含单一衍射瓣而不包含其它衍射瓣 的聚焦辐射聚焦到检测器上；其中在灰场检测器的检测表面，所聚焦的辐射具有包含由所述重复图案产 生的第一辐射图案成分和由所述缺陷产生的第二辐射图案成分的辐射图案；其 中所述第一辐射图案成分比所述第二辐射成分强；以及由所述灰场检测器检测所聚焦的采集辐射并响应产生检测信号。
13、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述第一辐射图案成分 基本恒定。
14、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述检测信号包含缺陷 部分和弱振荡衰减重复图案部分；其中所述缺陷部分与弱振荡衰减重复图案部 分不同。
15、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，包含采集含有多个衍射 瓣的辐射以及阻挡除了单一衍射瓣之外的所有衍射瓣。
16、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述采集包含将包含单---衍射瓣和部分其它衍射瓣的辐射聚焦到所述检测器上。
17、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，包含采集含有多个衍射瓣的辐射，以及阻挡除了单一衍射瓣和部分其它衍射瓣之外的所有衍射瓣。
18、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，包含采集含有的单一衍 射瓣的辐射，而不采集其它衍射瓣。
19、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，包含采集含有单一衍射 瓣和至少部分其它衍射瓣的辐射，而不采集此外的衍射瓣。
20、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述多个规则重复的结 构元素及其背景至少部分透明，并且其中所述方法包含采集穿过所述物体的辐 射。
21、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，除了所述多个规则重复 的结构元素及其背景之外的至少一个实体为至少部分反射性的，以及其中所述 方法包含采集从所述物体反射的辐射。
22、 根据权利要求12所述的方法，其特征在于，包含除了所述检测信号 以评估所述物体。
全文摘要
本发明提供一种用于评估具有重复图案的物体的方法和系统。光学单元的照明光学系统适于以少量辐射扫描包括与其背景光学上不同的多个规则重复的结构元素的重复图案，产生包括多个衍射瓣的衍射图案。采集光学系统适于将来自重复图案的附图聚焦到检测器上。所聚焦的辐射包括单一衍射瓣而不包括其它衍射瓣。灰场检测器响应所聚焦的采集辐射而产生检测信号。光学单元适于在灰场检测器的检测表面保持辐射图案，该辐射图案包括由重复图案产生的第一辐射图案成分和由缺陷产生的第二辐射图案成分，其中所述第一辐射图案成分比第二辐射成分强。
文档编号G03F1/00GK101510047SQ20081013073
公开日2009年8月19日 申请日期2008年7月14日 优先权日2007年7月12日
发明者史密尔·曼甘, 阿米尔·莫什·萨吉夫 申请人:以色列商·应用材料以色列公司