专利名称：曝光设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及等离子显示屏制造领域，具体涉及用于光刻工艺的曝光i殳备。
背景技术：
目前，在等离子显示屏的制造中，主要应用光刻工艺在等离子
显示屏上形成线条图形(例如ITO线条图形)。在光刻工艺中，曝光机是制作图形的关键设备，通过曝光机制作图形的基本原理是利用具有光敏特性的感光材料，通过在其上方覆盖母版图形并通过曝光机发出的平行紫外光对感光材料进行曝光，从而获得与母版图形一致的感光图形。
在制作ITO线条图形时，首先利用石兹控溅射法在玻璃基板的整个表面上形成ITO薄膜，接着在覆盖有ITO薄膜的玻璃基板上贴附一层感光性干膜，随后利用具有特定线条图形的母版作为掩模板在曝光4几紫外光下进行曝光，随后对曝光后的感光干膜进行显影，没有被母版遮盖的感光干膜部分经过曝光、显影操作而消除，显影操作后玻璃基板上就显现出与母版上的特定线条图形相同的图形，此时再通过蚀刻工艺将显影后没有被感光干膜覆盖的ITO薄膜部分去除，这样就形成了相应的ITO线条图形。
如本领域4支术人员所知的那样，在利用曝光才几进4亍曝光时，需要对玻璃基板与母版之间的距离进行测定，测定的方法就是利用测定装置所发出的激光能量的反射量计算出母版厚度、母版与玻璃基板的距离、以及玻璃基板的厚度。如图1所示，除了形成由条形图
形3的区域之外，母版2的周围区域一^殳没有图形，因此这一区域是不透光的，如果需要利用激光测定玻璃基板5与母版2之间的距离就需要在母版2上开设用于距离测定的测量窗口 1。图2示处了距离测量的基本过程的示意图，距离测量装置发出的激光11可以从母版2上的测量窗口 l通过，经过母片反外表面10、母版内表面9、^皮璃基才反外表面8、以及玻璃基^反内表面7的反射，最后再次通过测量窗口 l而反射回距离测量装置，测量装置此时根据激光能量的损失计算出母版与玻璃基板之间的距离。由于母版2上开设的测量窗口 1在测量时作为激光的通道，因此在设计母片反2时这一区域需要一皮设计成透明的。但是，在曝光过程中，当曝光才几快门开启而对感光干膜进行曝光时，所发出的紫外光可以穿过测量窗口 1而使对应位置的感光干膜曝光，因此，在玻璃基板5上，除了希望得到的ITO线条图形6之外还形成了相应的窗口形状的图形4 (如图3所示)。这样在显影之后，在随后的蚀刻过程中，该窗口图形4会随着线条图形6—起保留下来。而事实上，该部分图形4是不需要的，在上下玻璃基板对合时此处多余的窗口形状的ITO图形4会对封接框的制作造成影响，降低封接排气时的气密性。
因此，需要4是供一种装置以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种曝光设备，其包括用于曝光4几的遮光装置，该遮光装置在曝光才几对感光干膜进行曝光时将遮挡母版上开设的测量窗口 ，从而4吏紫外光不能照射到感光干膜上，从而与测量窗口相对的感光干膜区就不会发生曝光。为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种曝光设备，其包
括曝光机，特别地，还包括遮光装置，该遮光装置包括连接元件，可转动地安装在曝光机的对位4竟头上；遮光元件，固定连接于上述连4妾元件；其中，遮光元件可选才奪i也遮盖母片反上的测量窗口。
根据本实用新型的曝光设备，其中，遮光元件在曝光机对感光干膜进行曝光时遮盖母版上的测量窗口 。
根据本实用新型的曝光设备,安装于日暴光才几上并马区动遮光元{牛；制上述驱动装置。
根据本实用新型的曝光设备，能够覆盖测量窗口。
根据本实用新型的曝光设备，椭圆形、或圆角矩形。
才艮据本实用新型的曝光设备,口的形^1犬一至丈。
才艮据本实用新型的曝光设备,
根据本实用新型的曝光设备，元件的不同形状进行调节。
根据本实用新型的曝光设备，
其中，曝光才几包括驱动装置，PLC才莫块，i殳置在曝光才几中并控
其中，遮光元件的形状一皮设计成
其中，遮光元件的形状为长方形、
其中，遮光元件的形状与测量窗
其中，连接元件为直线型或L型。其中，遮光4立置的坐标#4居遮光
其中，驱动装置还驱动对位4竟头。
本实用新型具有以下4支术J文果:根据本实用新型的曝光i殳备包括用于曝光才几的遮光装置，该遮
光装置能够在对感光干膜进行曝光时遮挡住母版上开设的测量窗口，使得紫外光无法穿过该遮光装置而照射到与测量窗口相对的感光干膜上，从而使该感光干膜区不会曝光，这样在随后的显影蚀刻
过程中，与该部分感光干膜区对应的ITO薄膜就会被蚀刻掉，而不会形成会对封排气密性造成影响的多余的ITO图形。
应该理解，以上的 一般性描述和以下的详细描述都是列举和说明性质的，目的是为了对要求保护的本实用新型提供进一步的说明。
附图构成本i兌明书的 一部分，用于帮助进一步理解本实用新型。这些附图图解了本实用新型的一些实施例，并与i兌明书一起用来i兌明本实用新型的原理。在附图中相同的部^f牛用相同的标号表示。其中
图1示出了作为掩模板的母版的正视图2是测量母版与玻璃基板之间的距离过程的示意图3示出了通过不具有才艮据本实用新型的遮光装置的曝光才几进行曝光后在玻璃基纟反上形成的与母版对应的图形；
图4是根据本实用新型的一个优选实施例的遮光装置的主视示意图5是才艮据本实用新型的另 一个优选实施例的遮光装置的主祸L示意图；图6是利用根据本实用新型的遮光装置进4亍遮光时的曝光过程示意图；以及
图7示出通过具有根据本实用新型的遮光装置的曝光机进行曝光后在玻璃基板上形成的与母版对应的图形。
具体实施方式
下面将参照附图对本实用新型的具体实施方式
进行说明。
首先参照图4和图5，其中分别示出了根据本实用新型的用于曝光机的遮光装置的两个优选实施例，该遮光装置包括连接支架(连接元件)14,它可转动i也安装在曝光才几的^H立4竟头13上；以及遮光板(遮光元件)12,它固定连4妻于连接支架14，用于遮挡曝光机发出的紫外光。为了保证遮光板12位置的稳定性，连接支架14应采用高石更度的材料(例如优质石灰素结构4岡或石更铝)制成，并且为了在满足连接支架14的强度要求的同时避免它遮挡母版2上的图形，才艮据实际应用的效果，该连4妄支架14的宽度优选地不大于12mm。遮光板12需要采用不透光的材料制成，例如通过涂覆黑色的金属材料或其他任何适合的材料而制成。应注意，由于遮光板12与母版2之间具有一定距离，为了确保完全i也遮挡住母版2上的测量窗口 1,则遮光一反12的外形应该i殳计成可以完全遮住测量窗口1,具体地，它的外围尺寸应大于测量窗口 1的外围尺寸，优选地，根据实际应用的结果，遮光板12的长或宽均应比测量窗口 1的长或宽大5-15mm。遮光^反12的形状可以为长方形、椭圓形、或圓角矩形、或者是任何与测量窗口 l的形状一致的形状。
进一步，由图4、 5中可见，图4的实施例中所示的连4妄支架14为"L"型，图5的实施例中所示的连4矣支架14为直线型，这两种形状的连接支架14不仅可以保证遮光板12稳、固地连接于曝光枳^的对位镜头13并且便于进4亍平移才乘作，同时还可以避免连接支架14在移动过程中不会遮挡母X反2上的线条图形。
特别地，根据本实用新型的遮光4反12具有特定的遮光位置，它可以在连^妄支架14的带动下沿垂直平面(与母W反2平ff的平面)平移，当到达上述遮光位置时，遮光板12就会遮盖住母版2上的测量窗口 1，从而防止曝光才几发出的紫外光照射到测量窗口 1上进而照射到对应位置的感光干膜15上(如图6所示)，以避免在感光干膜15与测量窗口 1相对的区域中发生不想要的曝光。应注意，遮光元件12在完成母版2与玻璃基板5之间的距离测量之后，并在曝光机对感光干膜15进4于曝光之前进入上述遮光位置中。下面将描述控制遮光才反12的位置的方式和装置，所涉及的装置在图中未示出。
用于驱动4艮据本实用新型的遮光装置的是安装在曝光4几上的驱动装置，它可以是专门用于本遮光装置的驱动装置，也可以是原本用于驱动曝光才几的对位4竟头13的驱动装置，在描述的优选实施例中，为了简化结构，采用原本用于驱动对位^:头13的驱动装置同时作为驱动本遮光装置的驱动装置。该驱动装置由设置在曝光机
中的PLC模块控制，根据实际的控制要求编写相应程序，将编好的控制程序输入到该PLC模块中就可以对驱动装置进行控制，进而控制才艮据本实用新型的遮光装置的移动以及对位4免头13。
具体地，由于遮光板12的形状和大小要才艮据测量窗口 1的不同位置和形状进行调节，因此遮光板12对应的遮光位置也需要进行相应的调整，遮光位置的调整通过改变它所对应的坐标值来实现。在本实用新型中，遮光才反12的遮光位置的坐标通过曝光4几的冲喿作面才反输入进而通过曝光才几的PLC才莫块进4于处理，PLC冲莫块响应于输入的坐标值来控制驱动装置对遮光板12的遮光位置进行调
9具体地4喿作方式如下，针对某个母X反2上的测量窗口 l的实际 位置确定遮光位置的坐标，将该确定下来的坐标值通过曝光冲几的控 制面板输入至PLC模块。当完成母版2与玻璃基板5之间的距离测 量之后，PLC模块控制驱动装置驱动遮光装置，即，驱动连接支架 14沿垂直平面移动，连接支架14进而带动遮光才反12移动，4艮据预 先输入的遮光位置坐标，PLC才莫块会控制驱动装置将遮光板12移 动到对应的遮光位置处(即，测量窗口 1的上方)，/人而将测量窗 口 1完全遮蔽，以阻止在随后的曝光过程中紫外光照射到测量窗口 l的区域中，具体的遮光状态如图6所示。这样，在曝光、显影完 成后，玻璃基板5上形成的线条图形就如图7中所示，即，在玻璃 基板5上只形成了与母版2上的线条图形对应的ITO图形6,而玻 璃基才反5上与测量窗口 1对应的区域由于遮光才反12的遮蔽作用而 没有形成对应的ITO图形。因此，在随后的上下基板对接的过程中， 由于^皮璃基板5上不再存在想要的ITO图形，因而就不会影响封4妻 排气的气密性。
以上 <又为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用 新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和 变化。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替 换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1. 一种曝光设备，包括曝光机，其特征在于，所述曝光设备还包括遮光装置，所述遮光装置包括连接元件(14)，可转动地安装在所述曝光机的对位镜头(13)上；遮光元件(12)，固定连接于所述连接元件(14)；其中，所述遮光元件(12)选择性地遮盖母版(2)上的测量窗口(1)。
2. 根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述遮光元件(12 )在所述曝光机对感光干膜(15 )进行曝光时遮盖所述母 片反(1 )上的所述测量窗口 ( 1 )。
3. 根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光机包 括驱动装置，安装于所述曝光一几上并驱动所述遮光元件 (12);PLC模块，设置在所述曝光机中并控制所述驱动装置。
4. 根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述遮光元件(12 )的形状设计成能够覆盖所述测量窗口 ( 1 )。
5. 根据权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，所述遮光元件(12)的形状为长方形、椭圓形、或圆角矩形。
6. 才艮据卄又利要求4所述的曝光i殳备，其特征在于，所述遮光元件(12)的形状与所述测量窗口 (1)的形状一致。
7. 根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述连接元件(14)为直线型或L型。
8. 根据权利要求5或6所述的曝光设备，其特征在于，所述遮光 位置的坐标根据所述遮光元件(12)的不同形状进行调节。
9. 根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述驱动装置 还驱动所述对位4竟头(13 )。
专利摘要本实用新型提供了一种曝光设备，其包括曝光机，特别地，还包括遮光装置，该遮光装置包括连接元件，可转动地安装在曝光机的对位镜头上；遮光元件，固定连接于上述连接元件；其中，遮光元件可选择地遮盖母版上的测量窗口。具体地，根据本实用新型的遮光元件在曝光机对感光干膜进行曝光时遮盖母版上的测量窗口。紫外光无法穿过本遮光装置而照射到与测量窗口相对的感光干膜上，从而使感光干膜区不会曝光，这样在随后的蚀刻显影过程中，与该部分感光干膜区对应的ITO薄膜就会被蚀刻掉，而不会形成会对封排气密性造成影响的多余的ITO图形。
文档编号G03F7/20GK201281804SQ20082010880
公开日2009年7月29日 申请日期2008年6月24日 优先权日2008年6月24日
发明者田玉民 申请人:四川虹欧显示器件有限公司