专利名称：有源矩阵基板、显示面板、显示装置和激光照射方法
技术领域：
本发明涉及显示面板中包含的有源矩阵基板、显示面板自身、搭载显示面板的显示装置，进而涉及对有源矩阵基板照射激光的方法。
背景技术：
在液晶显示装置这样的显示装置中，像素控制使用TFT(Thin Film Tra nsistor, 薄膜晶体管)这样的开关元件。搭载有这种开关元件的基板被称为有源矩阵基板，不仅用于液晶显示装置，还能够被各种显示装置采用。于是，对这种搭载有源矩阵基板的显示面板，近年来提出了高精细化的要求，像素数达到数十万个以上。但是，制造仅由完全没有缺陷的像素构成的显示面板是极其困难的。 这是因为，通常在显示面板的制造工序中，因灰尘或成膜条件等易引起各配线的断线、短路或开关元件的特性不良等，由此导致很多像素的一部分成为点状或线状的缺陷(亮点等)。 一直以来提案有修正这样的像素缺陷的技术(例如专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2003-241155号公报
发明内容
发明要解决的课题作为修正像素缺陷的技术的一个例子，能够列举如图14所示的例子使电容信号线125与TFTllO的漏极电极115短路，该电容信号线125与被栅极信号线121和源极信号线122划分的、成矩阵配置的像素(像素电极124)重叠。在该技术中，为了将电容信号线125的信号供给至像素电极124，首先，从漏极电极115的顶端1 起至TFTllO为止的一部分用激光切断(其中，对切断位置标注附图标记 151)。由此，可靠地切断源极信号向像素电极124的供给。接着，对隔着TFTllO的栅极绝缘膜与电容信号线125重叠的漏极电极115的顶端 126(后面称为辅助电容电极126)照射激光(其中，对激光的照射区域标注附图标记152)。 具体而言，如作为图14的b-b’线向视截面图的图15所示，对成为层的电容信号线125、栅极绝缘膜112和辅助电容电极1 照射激光(其中，标记w指的是激光光斑sp的直径)。 但是，该激光的强度调整需要适当设定。例如，如果激光的强度过强，则如图16所示，虽然在栅极绝缘膜112形成接触孔 hl，但是辅助电容电极1 飞散，导致该辅助电容电极1 与电容信号线125难以连接。反之，如果激光的强度过弱，则如图17所示，在栅极绝缘膜112没有形成接触孔hl，导致辅助电容电极126与电容信号线125没有连接。从而，在这些情况下，流过电容信号线125的信号不会变换成源极信号供给至像素电极124(即像素)，亮点等不被消除。本发明为了解决上述问题而完成，其目的在于提供一种在对有源矩阵基板照射激光时，能够对被照射部件供给多种激光能量的有源矩阵基板等，进而提供一种这样的能够供给多种激光能量的激光照射方法。用于解决课题的技术手段一种有源矩阵基板包括基板；安装于基板的开关元件；与开关元件的栅极电极连接的栅极信号线；与开关元件的源极电极连接的源极信号线；开关元件的漏极电极；作为漏极电极的一部分的部分电极；与部分电极相对的电容信号线；和存在于部分电极与电容信号线之间的绝缘膜。而且，在该有源矩阵基板中，在部分电极形成缺口或开孔。在内置于显示面板中的有源矩阵基板，包括控制像素的开关元件。该开关元件基于流过栅极信号线的栅极信号，将流过源极信号线的源极信号供给至像素。而且，为了保持该源极信号，作为漏极电极的一部分的部分电极，隔着绝缘膜与电容信号线相对，由此成为辅助电容。但是，在这样的有源矩阵基板，也存在开关元件破损的情况，此时，被开关元件控制的像素例如成为亮点，成为画质劣化的一个原因。为了尽可能地消除亮点等，对有源矩阵基板的一部分照射激光，供给激光能量的技术是已知的。详细而言，为了将流过电容信号线的信号变换为源极信号供给至像素，对有源矩阵基板的一部分照射激光，由此使部分电极与电容信号线熔接(熔敷)。而且，像这样照射激光的情况下，在有源矩阵基板的部分电极形成有缺口或开孔时，缺口等的空缺部分使激光光斑的一部分通过，另一方面缺口等的周缘部分遮挡激光光斑的其他部分。而且，通过是否对这样的激光进行遮光，实现下述情况。例如，在要防止部分电极过度熔化而飞散时，将激光的强度设定得比较低。另一方面，激光的强度过低时，也存在在被部分电极覆盖的绝缘膜，不能够形成用于连接部分电极与电容信号线的接触孔的情况。但是，在部分电极形成有缺口等的情况下，当朝向该缺口等照射不使部分电极过度熔化的程度的激光时，与激光光斑重叠的缺口等的周缘部分适度地熔化。另一方面，与缺口等的空缺部分重叠的激光光斑，不经由部分电极地将激光能量供给至绝缘膜，因此不发生损耗地将激光能量供给至绝缘膜，从而形成接触孔。S卩，无论激光的强度变化与否，都能够对被照射部件供给多种激光能量。其结果是，采用这样的有源矩阵基板，能够供给与所需的加工(例如向绝缘膜的接触孔的形成、或通过使部分电极熔化而与电容信号线熔接)相应的激光能量。其结果是，部分电极的一部分经由接触孔可靠地与电容信号线熔接(总之，使得像素接受电容信号线的信号供给，不容易成为亮点)。但是，通常情况下，对激光光斑的中心部分和边缘部分的激光强度进行比较，则中心部分比边缘部分强。因此，通过照射激光，在部分电极的一部分与电容信号线熔接时，优选成为下述情况。S卩，优选缺口的缺口宽度或开孔的开孔宽度比激光光斑的直径窄，由此缺口的空缺部分或开孔的空缺部分使激光光斑的中心部分的光通过，并导向绝缘膜，作为部分电极的一部分的、缺口的周缘部分或开孔的周缘部分接受激光光斑的边缘部分的光。这样，强度比较强的激光光斑的中心部分通过缺口等的空缺部分照射到绝缘膜， 可靠地形成接触孔。另一方面，照射到缺口等的周缘部分的激光光斑的边缘部分的光与激光光斑的中心部分相比较弱，因此不会使部分电极过度熔化而飞散。因此，部分电极的一部分经由接触孔与电容信号线可靠地熔接。另外，缺口的周缘部分或开孔的周缘部分，与激光光斑的边缘部分的重叠部分的形状，优选为将缺口的空缺部分包围的包围形状或将开孔的空缺部分包围的包围形状(L 形、V形、U形、C形或0形)。这样，激光光斑的中心部分照射到部分电极中的缺口等的空缺部分，激光光斑的边缘部分照射到部分电极中的缺口等的周缘部分。此外，本发明也提供搭载以上的有源矩阵基板的显示面板。另外，本发明也提供搭载这样的显示面板的显示装置。另外，对有源矩阵基板的一部分照射激光并供给激光能量的激光照射方法如下所述，其中该有源矩阵基板包括基板；安装于基板的开关元件；与开关元件的栅极电极连接的栅极信号线；与开关元件的源极电极连接的源极信号线；开关元件的漏极电极；作为漏极电极的一部分的部分电极；与部分电极相对的电容信号线；和存在于部分电极与电容信号线之间的绝缘膜。即，绝缘膜接受的激光能量根据有无部分电极进行遮光而变化。这样，在被部分电极覆盖的绝缘膜和不被部分电极覆盖的绝缘膜，所接受的激光能量不同。换言之，部分电极吸收被供给至绝缘膜的一部分的激光能量，被该部分电极覆盖的绝缘膜的一部分接受的激光能量与其以外的绝缘膜(不被部分电极覆盖的绝缘膜)接受的激光能量之间存在差异。于是，无论激光的强度变化与否，都能够对被照射部件供给多种激光能量，能够供给与所需的加工相应的激光能量。例如，利用经过在部分电极不遮光而使光通过的部分的激光，对绝缘膜供给激光能量，使得在该绝缘膜形成接触孔，利用照射到在部分电极进行遮光的部分的激光的激光能量，使部分电极的一部分熔化，通过接触孔，使部分电极与电容信号线熔接。这样，部分电极的一部分经由接触孔与电容信号线可靠地熔接，流过电容信号线的信号变换为源极信号被供给至像素，像素的亮点变得不明显。另外，对在部分电极进行遮光的部分照射激光光斑的边缘部分，对在部分电极不遮光而使光通过的部分照射激光光斑的中心部分。这样，强度比较强的激光光斑的中心部分不经由部分电极地照射到绝缘膜，可靠地形成接触孔。另一方面，激光强度较低的激光光斑的边缘部分照射到部分电极，因此该部分电极不会过度熔化而飞散，经由接触孔与电容信号线可靠地熔接。总之，根据有无部分电极进行遮光和激光自身的强度分布差，能够进一步供给与所需的加工相应的激光能量。其结果是，流过电容信号线的信号变换为源极信号被供给至像素，像素的亮点等变得不明显。此外，优选在部分电极形成有缺口或开孔，在部分电极进行遮光的部分为缺口的周缘部分或开孔的周缘部分，在部分电极不遮光而使光通过的部分为缺口的空缺部分或开孔的空缺部分。另外，优选使激光光斑的边缘部分照射到缺口的周缘部分或开孔的周缘部分，使该照射部分的形状为将缺口的空缺部分包围的包围形状或将开孔的空缺部分包围的包围形状(例如为L形、V形、U形、C形或0形)。发明的效果
根据本发明，在对有源矩阵基板照射激光时，能够改变被照射部件所接收的激光能量。因此，能够供给与所需的加工对应的激光能量。
图1是液晶显示面板的部分平面图。图2是图1的液晶显示面板的部分截面图的A-A’线向视截面图。图3是图1的液晶显示面板的部分截面图的B-B’线向视截面图。图4是表示通过激光照射形成第二接触孔等的液晶显示面板的截面图。图5是图1的部分放大图。图6是改变了激光光斑的位置的图5的其他例子的图。图7是改变了缺口的周缘部分的形状的图5的其他例子的图。图8是改变了缺口的周缘部分的形状的图5 图7的其他例子的图。图9是改变了缺口的周缘部分的形状的图5 图8的其他例子的图。图10是改变了激光光斑的位置的图9的其他例子的图。图11是包括形成有开孔的辅助电容电极的液晶显示面板的部分平面图。图12是图11的部分放大图。图13是改变了激光光斑的位置的图12的其他例子的图。图14是表示现有的液晶显示面板的部分平面图。图15是图14的液晶显示面板的部分截面图中的b-b’线向视截面图。图16是表示通过激光照射形成接触孔等的现有的液晶显示面板的截面图。图17是表示通过激光照射没有形成接触孔的现有的液晶显示面板的截面图。
具体实施例方式(实施方式1)以下，根据附图对一实施方式进行说明。此外为了方便，也存在省略阴影和部件附图标记等情况，在该情况下参照其他附图。液晶显示装置包括作为照明装置的背光源；和能够通过接收来自该背光源的光来显示图像的液晶显示面板。而且，如图1的部分平面图和图2的部分截面图(图1的A-A’ 线向视截面图)所示，在液晶显示面板49中，由彩色滤光片基板39和有源矩阵基板四夹持液晶41 (此外，在彩色滤光片基板39与有源矩阵基板四之间，为了确保用于夹持液晶41 的间隔，夹持有未图示的间隔体。)彩色滤光片基板39包括第一透明基板TBI、彩色滤光片31、黑矩阵32、保护涂层 (overcoating) 33、共用电极；34和第一取向膜ALl。第一透明基板TBl是具有绝缘性和透过型的基板，成为彩色滤光片基板39的基座。此外，对第一透明基板TBl的材质没有特别的限定，例如可以为玻璃，也可以为树脂。彩色滤光片31是通过与朝向液晶41 一侧的第一透明基板TBl的一面重叠而使经过液晶41向外部行进的光透过的膜。即，该彩色滤光片31向外部供给通过使光透过而着色的光。作为一个例子，能够列举光的三原色即红色(RED)、绿色(GREEN)和蓝色(BLUE)的彩色滤光片31。
此外，红色彩色滤光片31R、绿色彩色滤光片31G、蓝色彩色滤光片31B具有一定规则性地排列。例如能够列举彩色滤光片31R、31G、31B呈三角状排列的三角(delta)排列； 彩色滤光片31R、31G、31B交替呈列状排列的条纹排列；彩色滤光片31R、31G、31B呈马赛克状排列的马赛克排列。黑矩阵32与彩色滤光片31同样，与朝向液晶41 一侧的第一透明基板TBl的一面重叠。但是，黑矩阵32通过个别地包围各色的彩色滤光片31来进行划分(其中，被划分的区域为1个像素)。而且，该黑矩阵32由具有反射性的金属(例如铝、铬或银)形成。因此，光不会通过彩色滤光片31彼此的边界从一个彩色滤光片31向另一个彩色滤光片31透过。S卩，黑矩阵14确保每个像素的光的遮光性(防止光的混色)。保护涂层33例如为丙烯酸树脂层，通过与彩色滤光片31和黑矩阵32重叠来保护它们。共用电极34是与保护涂层33重叠并且朝向液晶41的透明导电性电极。而且，该共用电极34与后述的有源矩阵基板四的像素电极M夹持液晶41，并且对该液晶41施加控制电压(此外，将被供给至共用电极的信号称为共用信号)。此外，对共用电极34的材质没有特别的限定，例如能够列举ITOandium Tin Oxide，氧化铟锡)。第一取向膜ALl是通过与共用电极34重叠而直接接触液晶41的膜。而且，由该第一取向膜ALl和后述的有源矩阵基板四的第二取向膜AL2夹持液晶41，使该液晶41的取向向一定方向排列。接着对有源矩阵基板四进行说明。有源矩阵基板四包括第二透明基板TB2、栅极信号线21、源极信号线22、TFT (Thin FiIm Transistor，薄膜晶体管)10、层间绝缘膜23、像素电极对、第二取向膜AL2和电容信号线25。第二透明基板(基板)TB2与彩色滤光片基板39的第一透明基板TBl同样，是具有绝缘性和透过性的基板。而且，该第二透明基板TB2成为有源矩阵基板四的基座。此外， 第二透明基板TB2的材质与第一透明基板TBl—样没有特别的限定，例如可以为玻璃，也可以为树脂。栅极信号线21是在未图示的栅极驱动器的管理下，对TFTlO供给作为控制用信号的栅极信号的导线。此外，栅极信号线21在第二透明基板TB2朝向液晶41的一面呈列状排列。源极信号线22是在未图示的源极驱动器的管理下，通过TFTlO将源极信号(图像数据)供给至像素的导线。此外，该源极信号线22在与栅极信号线21的排列方向交叉的方向上呈列状排列。因此，被源极信号线22和栅极信号线21划分的区域呈矩阵状，并且所划分的1个区域为像素。TFTlO是形成在源极信号线22与栅极信号线21的交点附近的、控制每个像素的动作的半导体开关元件。即，TFTlO是图像数据的写入用晶体管。而且，TFT(开关元件)10 包括栅极电极U、栅极绝缘膜12、半导体层13、源极电极14和漏极电极15。栅极电极11由栅极信号线21的一部分形成。因此，栅极电极11在第二透明基板 TB2朝向液晶41的一面形成(此外，栅极电极11相对于栅极信号线21的突出方向与源极信号线22的延伸方向相同；参照图1)。
栅极绝缘膜(绝缘膜)12以覆盖栅极电极11的方式形成，防止泄漏(leak)电流的产生。半导体层13隔着栅极绝缘膜12形成在栅极电极11上。而且，利用该半导体层13 的特性，TFTlO根据施加在栅极电极11的电压来控制源极信号的流动。此外，对于半导体层13的材质，例如能够列举非晶体硅，但并非限定于此。源极电极14以覆盖半导体层13和栅极绝缘膜12的方式形成，并且由源极信号线 22的一部分形成(此外，源极电极14相对于源极信号线22的突出方向与栅极信号线21的延伸方向相同；参照图1)。漏极电极15与源极电极14同样，以覆盖半导体层13和栅极绝缘膜12的方式形成。即，漏极电极15与源极电极14在半导体层13和栅极绝缘膜12之上相对。而且，根据施加在栅极电极11的电压，控制电流的从源极电极14向漏极电极15的流动。此外，漏极电极15以与后述的电容信号线25重叠的方式延长(详细内容在后面叙述)。层间绝缘膜23通过覆盖TFT10，确保TFTlO等与其他部件(例如像素电极24)之间的绝缘性。另外，为了使像素电极M平坦地形成，该层间绝缘膜23也发挥覆盖凹凸的 TFTlO的作用。像素电极对与共用电极34同样是例如由ITO形成的电极，与平坦的层间绝缘膜 23重叠。而且，该像素电极M通过在层间绝缘膜23形成的第一接触孔HL1，与漏极电极 15 (详细而言是后述的辅助电容电极26)导通。从而，在TFTlO导通(ON)时，源极信号经由漏极电极15流至像素电极M，在TFTlO截止(OFF)时，向像素电极M的源极信号的供给被切断。即，根据对该像素电极M施加的电压，控制施加在被该像素电极M与共用电极34 夹着的液晶41的电压(此外，通过夹持液晶41的像素电极M与共用电极34，形成液晶电容)。第二取向膜AL2是通过与像素电极M重叠而直接接触液晶41的膜。而且，该第二取向膜AL2与彩色滤光片基板39的第一取向膜ALl夹持液晶41，使该液晶41的取向在一定方向上排列。电容信号线25是用于形成辅助电容的流过信号的导线，与栅极信号线21在同方向上排列，并且位于包围各像素的栅极信号线21彼此之间。另外，电容信号线25与栅极电极11和栅极信号线21同样，在第二透明基板TB2朝向液晶41的一面形成，被栅极绝缘膜
12覆盖。而且，以相对于该电容信号线25重叠的方式，漏极电极15的一端26(未与TFTlO 连接的一端)延伸。因此，电容信号线25与漏极电极15的一端沈隔着成为电介质层的栅极绝缘膜12相对，形成辅助电容(此外，将漏极电极15的一端沈称为辅助电容电极26)。在上述情况下，在由多层叠层结构的2个基板TBI、TB2夹持液晶(例如为向列型液晶)41的液晶显示面板49中，如以下这样显示图像。S卩，在以上这样的液晶显示面板49中，当通过经由栅极信号线21而被施加的栅极信号电压使TFTlO导通时，经由该TFTlO的源极电极14、漏极电极15，源极信号线22中的源极信号电压被施加至像素电极24。而且，根据该源极信号电压，将源极信号的电压写入被像素电极M和共用电极；34夹持的液晶(液晶电容)。
另一方面，在TFTlO截止时，源极信号电压处于被液晶电容和辅助电容保持的状态(在直到施加下一个源极信号电压为止的期间，通过液晶电容和辅助电容，来保持源极信号电压)。即，通过TFTlO的导通/截止的反复进行，液晶41使光的透过量变化，在液晶显示面板49显示图像。而且，对于如上所述的液晶显示面板49，在出货前进行有无缺陷像素的检查。在该检查中，首先常白模式的液晶显示面板49经由像素电极M和共用电极34，被施加使液晶41进行黑显示的电压。如果在应当进行黑显示的像素之中，存在成为亮点的像素，则该像素作为缺陷被检测出(此外，该检查既可以通过人的视觉进行，也可以通过自动检测亮点的装置进行)。此外，能够考虑成为亮点的像素的各种故障原因。例如在形成TFTlO的情况下，作为原因能够列举灰尘混入到栅极绝缘膜12，或者被图案化的半导体层13、像素电极M的一部分未被除去而残留的情况。例如如图1所示，在TFTlO的一部分发生故障(BREAKDOWN)，在源极信号未经由漏极电极15被供给至像素电极M的情况下，对被该TFTlO控制的像素的液晶41，例如未适当地施加使其进行黑显示的电压，由此该像素成为亮点(缺陷)。在此，为了不使亮点变得明显，经由漏极电极15，使流过电容信号线25的信号变换为源极信号供给至像素电极对(该实现方法也称为缺陷修正方法)。究其原因是，这样的话，使像素电极M接受流过电容信号线25的信号的供给，与共用电极34 —起对液晶41施加电压。为了将电容信号线25的信号供给至像素电极对，如下述这样对有源矩阵基板四的一部分照射激光。首先，用激光例如YAG (Yatrium Alumium Garnet，钇铝石榴石)激光器产生的波长为1064nm的激光将从漏极电极15的辅助电容电极沈起至TFTlO为止的一部分切断(其中，对切断部位标注附图标记51)。由此，将对像素电极M的源极信号的供给可靠地切断。接着，隔着栅极绝缘膜12，对与电容信号线25重叠的辅助电容电极沈照射激光 (此外，从液晶显示面板49的与面内方向垂直的方向观察，电容信号线25具有包含辅助电容电极26的面积)。详细而言，对与电容信号线25重叠的辅助电容电极沈的外缘部分照射激光(此外，对激光的照射区域标注附图标记52)。但是，在该辅助电容电极(部分电极)26的外缘部分，形成缺口 27 (详细而言，因缺口 27集合而形成梳齿状的外缘部分)。于是，激光中的光的一部分(激光光斑SP的一部分)如图1的B-B’线向视截面图即图3所示，通过缺口 27的空缺部分27P，到达栅极绝缘膜12。另外，激光中的光的其他部分，到达辅助电容电极沈的缺口 27的周缘部分27S。这样，栅极绝缘膜12接受的激光能量因有无辅助电容电极沈进行遮光而变化。详细而言，在被辅助电容电极沈覆盖的栅极绝缘膜12和未被辅助电容电极沈覆盖的栅极绝缘膜12，接受的激光能量不同。总之，辅助电容电极沈吸收被供给至栅极绝缘膜12的一部分的激光能量，在被该辅助电容电极26覆盖的栅极绝缘膜12的一部分接受的激光能量，与其以外的栅极绝缘膜 12 (未被辅助电容电极沈覆盖的栅极绝缘膜1 接受的激光能量之间产生差异。于是，无论激光的强度变化与否，能够将各种激光能量供给至被照射部件，能够供给与所需的加工对应的激光能量。例如，在想要防止辅助电容电极沈过度熔化而飞散时，将激光的强度设定得比较低。另一方面，激光的强度过低时，在被辅助电容电极26覆盖的栅极绝缘膜12，有时也不能够形成用于连接辅助电容电极26与电容信号线25的(用于使其短路的)第二接触孔HL2。但是，在辅助电容电极沈形成有缺口 27时，向着该缺口 27照射不使辅助电容电极26过度熔化的程度的激光即可。这样，与激光光斑SP重叠的缺口 27的周缘部分27S (在部分电极进行遮光的部分)适度熔化。另一方面，与缺口 27的空缺部分27P (在部分电极不遮光而使光通过的部分)重叠的激光光斑SP，不经由辅助电容电极沈地，将激光能量供给至栅极绝缘膜12，因此将比较高的激光能量供给至栅极绝缘膜12。从而，在栅极绝缘膜12可靠地形成第二接触孔HL2。总之，如图3和图4(图3的照射激光后的图)所示，经过辅助电容电极沈中的缺口 27的空缺部分27P的激光，对栅极绝缘膜12供给激光能量，在该栅极绝缘膜12可靠地形成第二接触孔HL2。此外，照射到辅助电容电极沈中的缺口 27的周缘部分27S的激光的激光能量，使该周缘部分27S熔化，通过第二接触孔HL2，与电容信号线25可靠地熔接(此外，要熔化的辅助电容电极26包围第二接触孔HL2，因此熔化后的辅助电容电极沈的一部分容易流入第二接触孔HL2，辅助电容电极沈容易与电容信号线25短路)。于是，流过电容信号线25的信号，变换为源极信号被供给至像素电极对(即像素)，亮点变得不再明显。换言之，即使激光照射次数少，缺陷修正也可靠地实现(另外，即使激光的发生器的动作不稳定，缺陷修正也容易实现)。因此，该激光的照射方法，不使激光的生产量 (through-put)高至过剩，短时间且低成本地使辅助电容电极沈的一部分(周缘部分 27S)，经由第二接触孔HL2，可靠地与电容信号线25熔接，修正缺陷像素。由此，有源矩阵基板29、以及液晶显示面板49的成品率提高。并且，在通过照射激光使辅助电容电极沈的一部分与电容信号线25熔接的情况下，缺口 27的缺口宽度W27比激光光斑SP的直径(激光光斑直径；记作W)窄，由此缺口 27 的空缺部分27P使激光光斑SP的中心部分SPc的光通过，将其导向栅极绝缘膜12，缺口 27 的周缘部分27S接受激光光斑SP的边缘部分SPs的光。换言之，对辅助电容电极沈进行遮光的周缘部分27S，照射激光光斑SP的边缘部分SPs，对在辅助电容电极沈不遮光而使光通过的空缺部分27P，照射激光光斑SP的中心部分SPc。这样，强度比较强的激光光斑SP的中心部分SPc，不经由辅助电容电极沈地照射到栅极绝缘膜12，可靠地形成第二接触孔HL2。另一方面，激光强度比较低的激光光斑SP 的边缘部分SPs，照射到辅助电容电极沈中的缺口 27的周缘部分27S，因此该周缘部分27S 不会过度熔化而飞散，经由第二接触孔HL2，可靠地与电容信号线熔接(此外，图3中的表示激光的浓淡中，浓的部分与淡的部分相比表示激光强度更高)。总之，根据有无辅助电容电极沈进行遮光，和激光自身的强度分布差，能够进一步供给与所需的加工相应的激光能量。其结果是，能够可靠地形成第二接触孔HL2，进而能够使辅助电容电极26与电容信号线25可靠地短路。此外，为了使激光光斑SP的中心部分SPc照射到辅助电容电极沈中的缺口 27的空缺部分27P，使激光光斑SP的边缘部分Sb照射到辅助电容电极沈中的缺口 27的周缘部分27S，优选下述方式。S卩，缺口 27的周缘部分27S和激光光斑SP的边缘部分SI3s的重叠部分的形状，可以为包围缺口 27的空缺部分27P的U形(参照图5的最粗的点划线)或者可以为L形(参照图6的最粗的点划线)。另外，使缺口 27的周缘部分27S的形状进行各种变化，由此重叠部分的形状也改变。例如如图7所示，与缺口 27的底部相当的周缘部分27S弯曲时，重叠部分容易成为C 形。另外，如图8所示，与缺口 27的底部相当的周缘部分27S逐渐较细时，重叠部分容易成为V形。另外，如图9和图10所示，与缺口 27的底部相当的周缘部份27S有时也成为具有曲折点的形状。此时，重叠部分可以成为包围缺口 27的空缺部分27P的形状(参照图9和图10的最粗的点划线)。(其他实施方式)此外，本发明不仅限于上述实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内，能够进行种种变更。例如，如上所述，在辅助电容电极沈形成有缺口 27，但并不限定于此，也可以如图 11的部分平面图所示，在辅助电容电极26形成有开孔观。究其原因是，根据通过开孔观的激光和不通过开孔观的激光的存在，即根据有无辅助电容电极沈进行遮光，栅极绝缘膜 12接受的激光能量改变(总之，无论激光的强度改变与否，都能够对被照射部件供给多种激光能量，能够供给与所需的加工相应的激光能量)。从而，在搭载具有开孔观的辅助电容电极沈的有源矩阵基板四，与搭载具有缺口 27的辅助电容电极沈的有源矩阵基板四同样，能够进行缺陷修正。S卩，利用经过在辅助电容电极沈可使光通过的开孔观的激光，对栅极绝缘膜12 供给激光能量，在该栅极绝缘膜12形成第二接触孔HL2。另外，由于照射到在辅助电容电极26进行遮光的部分(开孔观的周缘部分观幻的激光的激光能量，周缘部分28S熔化， 通过第二接触孔HL2，辅助电容电极沈与电容信号线25熔接。由此，流过电容信号线25的信号变换为源极信号而被供给至像素电极对，亮点变得不明显。另外，如果开孔观的开孔宽度W28比激光光斑SP的直径窄，则辅助电容电极26 中的开孔28的空缺部分^P(在部分电极不遮光而使光通过的部分)使激光光斑SP的中心部分SPc的光通过，导向栅极绝缘膜12。并且，辅助电容电极沈中的开孔观的周缘部分
在部分电极进行遮光的部分)接受激光光斑SP的边缘部分SPs的光。S卩，与缺口 27的情况相同，强度比较强的激光光斑SP的中心部分SPc，不经由辅助电容电极26地照射到栅极绝缘膜12，可靠地形成第二接触孔HL2。另一方面，激光强度比较低的激光光斑SP的边缘部分SPs，照射到辅助电容电极沈中的开孔洲的周缘部分^S， 因此该周缘部分28S不会过度熔化而飞散，通过第二接触孔HL2，可靠地与电容信号线25熔接。另外，如图12和图13所示，为了使激光光斑SP的中心部分SPc照射到辅助电容电极26中的开孔28的空缺部分^P，使激光光斑SP的边缘部分Sb照射到辅助电容电极 26中的开孔28的周缘部分^S，优选下述方式。
即，开孔观的周缘部分28S与激光光斑SP的边缘部分SI3S的重叠部分的形状，可以为包围开孔观的空缺部分^P的0形(参照图12的最粗的点划线)或者可以为C形 (参照图13的最粗的点划线)。总之，重叠部分优选为包围开孔观的空缺部分^P的形状即可。换言之，优选使激光光斑SP的边缘部分Sb照射到缺口 27的周缘部分27S或开孔观的周缘部分^S，使其照射部分的形状为包围缺口 27的空缺部分27P的包围形状或包围开孔28的空缺部分^P的包围形状(例如L形、V形、U形、C形或0形)。此外，在辅助电容电极沈形成的开孔观或缺口 27的个数可以为一个也可以为多个。究其原因是，即使只存在一个开孔观或缺口 27，也能够通过对其照射激光光斑SP，来对被照射部件供给多种激光能量，能够供给与所需的加工相应的激光能量。另外，由于激光能量，辅助电容电极沈(和漏极电极15)熔化。因此，只要是能够因一定的激光能量而熔化的导体即可，对材质没有特别的限定(例如只要是金属即可)。同样地，栅极绝缘膜12也因激光能量而熔化。因此，只要是能够因一定的激光能量而熔化的绝缘体即可，对材质没有特别的限定(例如只要是树脂即可)。另外，如上所述，作为激光器的一例，能够列举YAG (Yttrium Aluminum Garnet，钇铝石榴石)激光器为例，但对此没有限定，也可以是其他的激光器。另外，激光的照射可以通过搭载激光发生器的自动控制型的缺陷修正装置(激光照射装置)进行，也可以用其他的方法进行。此外，通过自动控制型的缺陷修正装置对有源矩阵基板四照射激光时，内置于该缺陷修正装置中的微型计算机(micro computer unit)对激光照射位置(激光光斑SP的位置)进行调整。该调整通过激光光斑位置调整程序实现。另外，该程序是能够在计算机执行的程序，也可以记录在能够由计算机读取的记录介质中。究其原因是，记录在记录介质中的程序是便携的。此外，作为该记录介质，例如能够列举分离的磁带、卡式磁带等带类，磁盘、CD-ROM 等光盘的盘类，IC卡(包括存储卡)、光卡等卡类，或者闪存存储器等的半导体存储器类。另外，微型计算机也可以通过基于通信网络的通信取得激光光斑位置调整程序。 此外，作为通信网络，不管是有线还是无线，能够列举因特网、红外线通信等。另外，在上述情况中，作为显示装置的一例列举了液晶显示装置，但并非限定于此。例如也可以是等离子体显示装置、有机EL (Electro-Luminescence，场致发光)显示装置等。总之，只要是搭载有源矩阵基板四的显示面板、显示装置即可。附图标记说明10 TFT (开关元件)11栅极电极12栅极绝缘膜(绝缘膜)HL2第二接触孔(接触孔)13半导体层14源极电极15漏极电极21栅极信号线
22源极信号线23层间绝缘膜HLl第一接触孔24像素电极25电容信号线26辅助电容电极(部分电极)27缺口27P缺口的空缺部分(在部分电极不遮光而使光通过的部分)27S缺口的边缘部分(在部分电极进行遮光的部分)W27缺口宽度28开孔28P开孔的空缺部分(在部分电极不遮光而使光通过的部分)28S开孔的边缘部分(在部分电极进行遮光的部分)W28开孔宽度SP激光光斑SPc激光光斑的中心部分SPs激光光斑的边缘部分W激光光斑的直径TB2第二透明基板(基板)AL2第二取向膜29有源矩阵基板31彩色滤光片32黑矩阵33保护涂层34共用电极TBl第一透明基板ALl第一取向膜39彩色滤光片基板49液晶显示面板
权利要求
1.一种有源矩阵基板，其特征在于，包括 基板；安装于所述基板的开关元件；与所述开关元件的栅极电极连接的栅极信号线；与所述开关元件的源极电极连接的源极信号线；所述开关元件的漏极电极；作为所述漏极电极的一部分的部分电极；与所述部分电极相对的电容信号线；和存在于所述部分电极与所述电容信号线之间的绝缘膜，其中在所述部分电极形成有缺口或开孔。
2.如权利要求1所述的有源矩阵基板，其特征在于在通过照射激光使所述部分电极的一部分与所述电容信号线熔接的情况下， 所述缺口的缺口宽度或所述开孔的开孔宽度比激光光斑直径窄，由此， 所述缺口的空缺部分或所述开孔的空缺部分使激光光斑的中心部分的光通过并导向所述绝缘膜，作为所述部分电极的一部分的所述缺口的周缘部分或所述开孔的周缘部分接受激光光斑的边缘部分的光。
3.如权利要求2所述的有源矩阵基板，其特征在于所述缺口的周缘部分或所述开孔的周缘部分，与所述激光光斑的边缘部分的重叠部分的形状，为将所述缺口的空缺部分包围的包围形状或将所述开孔的空缺部分包围的包围形状。
4.如权利要求3所述的有源矩阵基板，其特征在于 所述包围形状为L形、V形、U形、C形或0形。
5.一种显示面板，其特征在于搭载有权利要求1 4中任一项所述的有源矩阵基板。
6.一种显示装置，其特征在于搭载有权利要求5所述的显示面板。
7.一种激光照射方法，其特征在于对有源矩阵基板的一部分照射激光并供给激光能量，所述有源矩阵基板包括 基板；安装于所述基板的开关元件；与所述开关元件的栅极电极连接的栅极信号线；与所述开关元件的源极电极连接的源极信号线；所述开关元件的漏极电极；作为所述漏极电极的一部分的部分电极；与所述部分电极相对的电容信号线；和存在于所述部分电极与所述电容信号线之间的绝缘膜，所述激光照射方法中，使所述绝缘膜接受的激光能量根据有无所述部分电极进行遮光而变化。
8.如权利要求7所述的激光照射方法，其特征在于利用经过在所述部分电极不遮光而使光通过的部分的激光，向所述绝缘膜供给激光能量，使得在该绝缘膜形成接触孔，利用照射到在所述部分电极进行遮光的部分的激光的激光能量，使所述部分电极的一部分熔化，通过所述接触孔，使所述部分电极与所述电容信号线熔接。
9.如权利要求7或8所述的激光照射方法，其特征在于 对在所述部分电极进行遮光的部分照射激光光斑的边缘部分，对在所述部分电极不遮光而使光通过的部分照射激光光斑的中心部分。
10.如权利要求7 9中任一项所述的激光照射方法，其特征在于 在所述部分电极形成有缺口或开孔，在所述部分电极进行遮光的部分为所述缺口的周缘部分或所述开孔的周缘部分， 在所述部分电极不遮光而使光通过的部分为所述缺口的空缺部分或所述开孔的空缺部分。
11.如权利要求10所述的激光照射方法，其特征在于使激光光斑的边缘部分照射到所述缺口的周缘部分或所述开孔的周缘部分，使该照射部分的形状为将所述缺口的空缺部分包围的包围形状或将所述开孔的空缺部分包围的包围形状。
12.如权利要求11所述的激光照射方法，其特征在于 所述包围形状为L形、V形、U形、C形或0形。
全文摘要
本发明提供有源矩阵基板、显示面板、显示装置和激光照射方法。在TFT(10)的漏极电极(15)的一部分(辅助电容电极26)与电容信号线(25)重合而成的有源矩阵基板(29)，辅助电容电极(26)包含缺口(27)。
文档编号G02F1/1368GK102365668SQ20098015837
公开日2012年2月29日 申请日期2009年12月28日 优先权日2009年4月10日
发明者金子俊博 申请人:夏普株式会社