专利名称：评估掩模相关误差源的系统和方法
技术领域：
本发明一般涉及到评估掩模，且特别是用于评估光刻掩模相关误差源的领域。
背景技术：
微电子器件性能通常受到术语称作临界尺寸或CD的临界特征尺寸中出现的变化 的限制。在光刻工艺中微电子器件通常使用光刻掩模(也称作掩模或刻线)来制造。后者 是半导体器件制造中的一种重要工艺，且包括根据被制造半导体器件的电路设计图案化晶 片表面。这种电路设计首先在掩模上被图案化。由此，为了实现操作半导体器件，掩模必须 没有缺陷。掩模通过复杂工艺被制造且能够容许一个或多个误差源。而且，通常重复使用掩模从而在晶片上制造很多管芯。由此，掩模上的任何缺陷都 将在晶片上被重复多次并且将引起很多器件有缺陷。建立有制造价值的工艺需要严格控制 整个光刻工艺。在该工艺中，⑶控制是器件性能和产量的决定因素。 已经开发了各种掩模检验工具且都可在商业中应用。根据设计和评估掩模的公知 技术，制造和使用掩模以通过其暴露出晶片，且此时进行检查以根据设计确定掩模的特征 是否已经转移到晶片上。最终特征与预定设计有任何变化都必须改进设计，以产生新的掩 模并曝光新的晶片。开发了栅格设计规则(OTR)掩模以利于制造非常小尺寸的特征。由于⑶R掩模包 括具有平行线和这些平行线之间的间距的图案，因此其术语也称作单维掩模(1D掩模)。需要提供评估掩模的至少一个误差源的系统和方法。
发明内容
用于评估掩模相关误差源的方法，该方法包括接收表示多个掩模图像的数据，该 多个图像在不同曝光条件下获得；对于多个图像的多个子帧中的每一个子帧，计算子帧像 素强度的函数以提供多个计算值；和响应于计算值和响应于函数对每个误差源的敏感度检 测误差源。用于评估掩模相关误差源的方法，该方法包括接收表示掩模图像的数据；对于 掩模图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素敏感度的多个函数以提供多个计算值；响应 于计算值和响应于对于每个误差源的每个函数的敏感度检测误差源。用于评估掩模相关误差源的方法，该方法包括接收表示掩模图像的数据；对于 每个掩模图像多个子帧中的每个子帧计算表示子帧像素敏感度多个函数的值之间关系的 关系值；和响应于多个图像子帧关系值补偿影响到多个图像的照明功率变化。用于评估掩模相关误差源的系统，该系统包括接收表示在不同曝光条件下获得 的多个掩模图像的数据的界面；和对于多个图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素强度的函数，以提供多个计算值的处理器；和响应于计算值和响应于每个误差源的函数敏感度 检测误差源。用于评估掩模相 关误差源的系统，该系统包括接收表示掩模图像的数据的界 面；和对于每个掩模图像的多个子帧，计算多个强度函数的值以提供多个计算值的计算 器；和响应于计算值和响应于对于每个误差源的函数敏感度确定每个误差源所起的作用 (contribution)。用于评估掩模相关误差源的系统，该系统包括接收表示多个掩模图像的数据的 界面；其中每个图像都包括多个子帧；和对于每个掩模图像多个子帧中的每个子帧计算表 示多个子帧强度函数值的之间关系的关系值；和响应于不同图像子帧关系值补偿影响到多 个图像的照明功率变化。用于评估掩模相关误差源的方法，该方法包括接收表示掩模区域图像的图像数 据；其中掩模区域包括掩模图像；和基于图像数据和基于掩模图像获得工艺对于第一和第 二误差源的敏感度，检测掩模图案中的至少一个误差源；其中掩模图像获得工艺对第一和 第二误差源的敏感度如下计算接收表示参考图案图像、第一干扰图案图像和第二干扰图 案图像的校准数据，其中第一干扰图案反映出第一误差源对参考图案的感应，其中第二干 扰图案反映出第二误差源对参考图案的感应；和基于所接收到的校准数据之间的关系评估 掩模图像获得工艺对第一和第二误差源的敏感度。用于评估掩模相关误差源的方法，该方法包括接收表示参考图案图像、第一干扰 图案图像和第二干扰图案图像的校准数据，其中第一干扰图案反映出第一误差源对参考图 案的感应，其中第二干扰图案反映出第二误差源对参考图案的感应；基于所接收到的校准 数据之间的关系评估掩模图像获得工艺对第一和第二误差源的敏感度；接收表示掩模区域 图像的图像数据；基于图像数据和基于掩模图像获得工艺对第一和第二误差源的敏感度检 测掩模图案中的至少一个误差源。用于评估掩模相关误差源的系统，该系统包括接收表示掩模区域图像的图像数 据的界面；其中掩模区域包括掩模图案；和基于图像数据和基于掩模图像获得工艺对第一 和第二误差源的敏感度检测掩模图案中至少一个误差源的处理器；其中掩模图像获得工艺 对第一和第二误差源的敏感度如下计算接收表示参考图案图像、第一干扰图案图像和第 二干扰图案图像的校准数据，其中第一干扰图案反映出第一误差源对参考图案的感应，其 中第二干扰图案反映出第二误差源对参考图案的感应；和基于所接收的校准数据之间的关 系评估掩模图像获得工艺对第一和第二误差源的敏感度。
为了理解本发明和了解实践中怎样实施，将借助于仅为非限制性的实例、参考附 图描述实施例，附图中图1是根据本发明实施例的方法的流程图；图2是根据本发明实施例的方法的流程图；图3是根据本发明实施例的方法的流程图；图4是根据本发明实施例的方法的流程图；图5示出了根据本发明实施例的系统；
图6A-6C示出了根据本发明实施例的几个孔径；图7示出了根据本发明实施例的敏感度的实例；图8示出了根据本发明实施例的方法；图9示出了根据本发明实施例的两个孔径；图IOA和IOB示出了根据本发明实施例，每个所获得图像子帧的平均强度(δ I)和对于不同照明条件每个图案临界尺寸差别O⑶)之间的关系；图11A-11D示出了根据本发明实施例对于多个照明条件的强度和估计误差。
具体实施例方式提供了用于评估掩模误差源的方法和系统。在光刻工艺期间使用该掩模。在一个 或多个曝光条件下获得该掩模的一个或多个图像。曝光条件可相互不同。计算一个或多个 图像子帧像素强度的一个或多个函数。计算结果称作计算值。这些计算值提供掩模中误差 源的指示。注意，可以获得一个或多个掩模图像，同时可以获得部分掩模的一个或多个图像。 为了简化说明，“掩模图像”也包括部分掩模的图像。根据本发明的各实施例，获得多个掩模图像和通过采用单个函数处理这些图像的 子帧。这种情况称作“多个图像，单个函数”。根据本发明的各实施例，获得单个掩模图像和通过采用多个函数处理该图像的一 个或多个子帧。这种情况称作“单个图像，多个函数”。仍根据本发明的各实施例，获得多个掩模图像和通过采用多个函数处理每个图像 的一个或多个子帧。多个图像，单个函数图1示出了根据本发明实施例的方法100。方法100评估掩模相关误差源，更具体 地，能够提供存在误差源的指示以及其对掩模图像所起的作用。方法100从步骤110、120或130开始。步骤110包括光学获得掩模图像，其中图像在不同的曝光条件下获得。每个图像 都包括子帧。每个图像的子帧都是相同尺寸和相同形状的。响应于所关注图案的形状和尺 寸选择其尺寸和形状。例如，可选择子帧包括形成重复图案的多重整体的特征。注意，可在相同曝光条件下获得一个或多个图像，同时可在另一曝光条件下获得 一个或多个其它图像。凭经验，特别是当对较大子帧进行平均时，通过选择较大子帧有助于计算子 帧像素强度函数的精确度。选择较小子帧能提供子帧强度部分的更多函数值。例如， 1，000, 000X 1, 000, 000像素的掩模图像可被分成多个子帧，每个都包括1，000X1, 000个 像素，但是并非必须如此。可响应于所关注的误差源选择不同的曝光条件。例如，不同的曝光条件可被设置 成使得不同的曝光条件增强不同误差源在不同照明条件下的效果。由此，选择第一照明条 件以获得更容易被第一误差源影响(和甚至被第一误差源控制)的图像，而选择第二照明 条件以获得更容易被第二误差源影响(和甚至被第二误差源控制)的图像。步骤110可通过诸如空间图像器(Aerial imager)的图像获取系统执行，尤其可通过来自加利福尼亚的Santa Clara的应用材料公司的AREA 193来执行。步骤110之后 是步骤120。曝光条件可包括数值孔径值，孔径的尺寸和形状，光学相干性等。根据本发明的实施例，图像中的一个通过采用空间图像条件获得，至少一个其它 图像在不同于空间图像条件的曝光条件下获得。期望空间图像条件与诸如步进器的光刻制 造工具所利用的照明条件相似。根据本发明另一实施例，图像中的一个通过采用空间图像条件获得，至少一个其 它图像在低数值孔径下获得。根据本发明的再一实施例，多个图像可在不同光学成像条件下获得。步骤120包括预先处理掩模图像。步骤120输出表示图像的数据。处理步骤120包括产生灰度级图像、执行聚焦校 正、色差补偿、图像向所需数据格式的转换等。步骤120之后是步骤130。 步骤130包括接收表示在不同曝光条件获得的多个掩模图像的数据。每个图像都 包括多个子帧。步骤130之后是对于多个图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素强度的函数 以提供多个计算值的步骤140。注意，步骤140可包括对于图像的所有子帧、对于所有图像的所有子帧、对于图像 的某些子帧或对于所有图像的某些子帧计算函数。根据本发明的实施例，该函数可以是像素子帧的强度积分，像素强度的总和，像 素强度的加权和，像素强度的平均值等。仍根据本发明的另一实施例，该函数可以是子帧像素强度的方差。仍根据本发明的另一实施例，该函数可以是子帧像素强度的标准差。注意，可使用 其它统计函数、概率函数或其它函数。注意，可忽略掉一些像素。子帧像素强度积分的计算函数的实例在名称为“用于评估图案参数中变化的方法 和系统”的PCT专利申请公开序列No. W02007/088542A2中示出，在此将其整体并入本文。已 经示出了考虑到子帧强度积分的平均值，可评估掩模所产生的图案特征(诸如临界尺寸) 的变化。根据本发明的再一实施例，步骤140可包括计算子帧像素强度的多个函数以提供 多个计算值。计算多个函数能降低为检测误差源所应获得的图像数目，且，另外或替换地，可用 于增加检测误差源的可靠性。步骤140之后是响应于计算值和响应于函数对每个误差源的敏感度来检测误差 源的步骤150。函数对某一误差源的敏感度可表示函数值和该某一误差源对该值的作用之间的比率。步骤150可包括评估误差源对一个或多个函数值的作用。评估可包括确定掩模的 误差源，指示掩模是否可操作等。误差源可以是掩模或者是掩模的一个部件的参数变化；可以是不同于所期望值的 掩模参数值等。误差源可限于掩模的小区域；可出现在掩模的不同部分上甚至在整个掩模上。误差源的非限制性实例包括掩模厚度变化、掩模反射性变化、图案化掩模的占空比的变 化、掩模层透明性变化、掩模衰减度(attenuation)变化、掩模衰减中的变化、掩模图案宽 度变化、掩模引入的相移变化、掩模的硅化钼(MoSi2)层厚度不均勻性，等等。可通过比较每个子帧整体像素强度函数的多个值获知多个误差源或者更确切地 说多个误差源中的每个误差源的作用，在不存在误差源的情况下期望该多个值相互相 等。该比较包括在于不同帧内相同位置处的子帧相关计算值之间进行比较。这些敏感度可提供给方法100或者可在方法100期间计算。图2示出了根据本发明实施例用于计算对于每个误差源的函数敏感度的方法 200。方法200重复模拟被模拟掩模中的变化，模拟从被模拟掩模的照明中获得的图 像，计算用于被模拟子帧像素的强度函数，和在计算值之间进行比较。方法200起始于模拟掩模的步骤210。步骤210之后是模拟从被模拟掩模的(被模拟)照明获得的图像的步骤220。步骤220之后是对于图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素强度函数的步骤 230。步骤230之后是模拟被模拟掩模变化的步骤240。步骤240之后是步骤220，直到实现了控制标准。控制标准可以是允许重复的最大 值，但是不是必须这样且可以定义其它控制标准。根据本发明的另一实施例，步骤230之后是改变照明条件和跳到步骤220的步骤 250。虽然方法200示出了基于模拟的敏感度计算，但是应注意，这些敏感度可以以其 它方式计算。例如，已经知道了误差源的掩模图像可被照明以提供随后被处理以评估敏感 度的图像。这些图像可在不同照明条件下获得。往回参考图1，步骤150之后是响应所检测的误差源。该步骤可包括修复掩模、将 掩模定义成缺陷掩模、将掩模定义成可操作、产生掩模修复指示等。步骤160可包括通过评估误差源的适印性，或者评估这些误差源是否将影响通过 照亮掩模所制造的图案，来确定怎样响应于被检测的误差源。步骤160可包括确定通过利 用掩模所制造的图案特征的变化。如果这些变化不可接受，则该掩模被送去修复或者被拒 收。步骤160可包括以下步骤中的至少一个或组合(i)对将被装运出掩模商店的掩 模提供质量合格标准；(ii)提供输入给掩模产生工艺；(iii)提供输入给图案制造工艺； (iv)提供输入给光刻模拟中使用的掩模模型；(V)提供用于光刻步进器的修正图；(Vi)识 别特征比所期望的特征参数变化大的区域。根据本发明的实施例，掩模可以是栅格设计规则掩模。单个图像，多个函数图3示出了根据本发明实施例的方法300。方法300评估掩模相关误差源，更具 体地提供存在误差源的指示以及其对掩模图像的作用。方法300开始于步骤310，320或330中的任一个。步骤310包括光学获得掩模图像。掩模图像包括子帧。该子帧可以是相同尺寸和相同形状。响应于所关注图案的形状和尺寸选择子帧的尺寸和形状。例如，可选择包括形成重复图案的多重整体特征的子帧。步骤310可通过诸如空间图像器的图像获得系统执行，具体地可通过来自加利福 尼亚的Santa Clara的应用材料公司的AREA 193来执行。步骤310之后是步骤320。图像可通过采用空间图像条件获得，但不是必须这样。步骤320包括预先处理掩模图像，其中图像在不同曝光条件下获得。步骤320输 出表示图像的数据。步骤330包括接收表示掩模图像的数据。步骤330之后是对于掩模图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素强度的多个 函数以提供多个计算值的步骤340。步骤340之后是响应于计算值和响应于每个函数对每个误差源的敏感度来检测 一个或多个误差源的步骤350。步骤350之后是响应所检测误差源的步骤360。照明波动补偿图4示出了用于评估掩模相关误差源的方法400。方法400包括接收表示掩模多个图像的数据的步骤410。每个图像都包括子帧。步骤410之后是对于多个图像多个子帧中的每个子帧计算表示子帧像素强度的 多个函数值之间关系的关系值的步骤420。步骤420包括对于属于不同图像尤其是属于在照明源输出改变强度的光时获得 的不同图像的子帧计算关系值。步骤420之后是响应于不同图像子帧的关系值补偿影响多个图像的照明功率变 化的步骤430。步骤420包括计算表示子帧强度积分的平均值和子帧强度积分的标准差之间比 率的关系值。系统参考图5，其借助于框图示意性示出了根据本发明实施例的系统500的实例。系统500包括界面510和处理器520。图5也示出了系统500包括图像获取器530， 其在不同曝光条件下获取掩模的多个图像。图像获取器包括照明源531，光学元件532，掩 模支撑件533和检测器534。图像获取器可以是空间观测工具(Aerial inspection tool) 或者可包括在这种工具中。光学元件532包括位于照明源531和由掩模支撑件533支撑的 掩模之间的一个或多个光学元件(诸如透镜，孔径536，空间频率滤波器等)，以及位于掩模 支撑件533和检测器534之间的一个或多个光学元件。界面510可接收表示在不同曝光条件下获得的掩模的多个图像的数据。处理器520可实施方法100，200，300，300中的至少一种或其组合。例如，处理器520可对于多个图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素强度函数 以提供多个计算值；和响应于计算值和响应于函数对每个误差源的敏感度来检测误差源。对于另一实例，处理器520可对于掩模每个图像的多个子帧计算强度的多个函数 值以提供多个计算值；和响应于计算值和响应于函数对每个误差源的敏感度来确定每个误 差源的作用。
对于另一实例，处理器520可对于掩模每个图像的多个子帧中的每个子帧计算表 示子帧强度的多个函数值之间关系的关系值；和响应于不同图像子帧关系值补偿影响多个 图像的照明功率变化。数学分析-GDR掩模为了处理掩模误差源的修复，采取了用于运算所获得图像的TCC (传输交叉系数) 方法。在“薄”(即Kirchhoff)掩模近似和Hopkins近似支持的假定条件下调整该TCC方 法。该TCC对于具有很好限定的波谱含量的掩模图案形式特别简单。实际上，密集的ID GDR 掩模图案实质上通过单个空间频率表不。TCC方法可用于对于在特定组曝光条件下空间图像平均强度对⑶R掩模参数的小 扰动(误差源)的响应取得表达式。该数学分析将展示出在不同曝光条件下进行的两次或多次平均强度测量的组合 足以修复掩模误差源的性质和强度。具体地，以下数学分析集中在衰减的(嵌入的)相移 掩模上，尽管结果也用于(通过适当修改)其它类型的ID掩模图案。空间图案的波谱通过等式(1)给出
I ( /, = I f TCC( f + f , g+ g! ■ f' , g' ) δ (/+/·'’g + g' ) δ* { f ‘ , g' )df ‘ dg' (1)其中，f，g，f'，g'表示空间频率，7是空间图像强度，d是描述掩模传输(包括 相位)的函数，上标 表示变量的傅里叶变换，即x( f, g) 二 F{X (X,TCC(传输交叉系数)
是完整描述光学系统效果的四个变量的函数，且被定义为
TCCXf ‘ , g' ■’ f ‘ ‘ , g' ‘ ) 二 H J(f,g)H(f+f',g + g' ) H ( f+ f ‘ ‘ , g+ g' ‘ ) df dg . (2)此处，7和i 分别表示照明源的共同强度和汇聚光学元件转移函数。空间图像子帧像素强度函数提供这些像素的平均强度的指示，对应于f = g = 0 Lv = 7 (0，0) 二 f f TCC (f, g； f，g ) \Q(f,gf df dg . (3)注意这种情况，假设TCC为特别简单的形式
TCC (f' , g' ·, f' , gJ ) =IfJ if, g) \H(f + f',g + gf dfdg. ⑷由于图像结构上的光学相差影响通过及相位整体捕获，因此等式(4)表示平均强 度对相差不敏感。TCC用于ID(线和间隔)掩模图案。令ρ为节距，和d为线宽。此外，分别通过tbg 和tfg表示图案线和间距的传输(transmission)和相位。例如，衰减低传输MoSi (6% )相 移掩模(PSM)对应于tfg = -0. 25和tfg = 1。通过这些限定，这种图案的波谱通过以下公
式给出
注意，该波谱包括在空间频率k/p下的谐波。由于实际情况下，TCC(0，0) = 1，因
此我们可在(3)中替换并获得
/,=/(0,0) = [Ci 十( -U]2+[ +(6)
LJρ [ πΚα ι ρρρρ ρ J实际上，在⑶R图案中，通常仅Oth和1st (或者Oth和-1st)衍射阶对图像形成 有影响。这反应出故意使用GDR以将kl尽实际可能地靠近其最低理论极限，因此从在MEEF 和极化方面的两光束成像以及当然也从管芯尺寸的优势受益(参见§2)。等式(5)和(6)中的表述更加常用且利于推广到更一般的情况。实际对空间图像 结构起作用的衍射阶的“选择”隐含在等式(6)的TCC中。根据一般公式(6)可明显看出，子帧像素强度的平均值具有两个不同的作用。第 一个作用-以下称作IcT只取决于掩模图案，且完全不依赖于图像获取系统光学结构的细 节
-dyI0= tbg+{tfg-tbg)-. (7)取决于特定光学条件的第二个作用，也取决于较高的图案谐波
“小[叫W叫A-M . (8)
^ ρ k y πΜ Ipρ ρρ ρ J由此，Iav= lQ+Ihigher。掩模图案(误差源)参数的小干扰在等式(6)中表明。通过集中在衰减相移掩模 线图案(attPSM L&S图案)上，两种类型的可行(和常用)干扰相互区分。首先，掩模上的特征占空比-d/p-与指定值不同。由于掩模写入误差(由写入光 束的宽度变化导致)或者在掩模显影期间会发生这种情况。由此，这种特殊类型误差的根 本原因暗示了掩模图案具有指定节距，但是线宽d与预定值相比有变化。假设与指定线宽 值的偏差很小，则通过简单的泰勒级数(通常1st或者2nd阶幂项就足够了)就可以获得 对平均强度的影响。该影响可通过以下等式表示
γ-jγSIav(Ad) ^-^Ad + -~a^Ad2+.... (9)
flV dd 2 dd2此处，δ Iav = (Iav-Iav,noffl)/Iav,noffl是平均强度相对于标称的无缺陷掩模获得的指定 平均强度Iav,n。m的变化。第二，会发生MoSi沉积误差，导致薄膜中相移Φ变化，其与传输值变化是耦合的。 由于衰减是薄膜厚度的指数函数，因此虽然相移与厚度成正比，但是可示意性将其写成
权利要求
一种评估掩模相关误差源的方法，该方法包括接收表示掩模多个图像的数据，该多个图像在不同曝光条件下获得；对于多个图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素强度函数以提供多个计算值；和基于计算值和基于函数对每个误差源的敏感度检测误差源。
2.根据权利要求1的方法，其中该函数是强度积分。
3.根据权利要求1的方法，包括对于至少一个子帧计算至少一个子帧的像素强度的多 个函数，以提供多个计算值。
4.根据权利要求3的方法，其中一个函数是强度积分。
5.根据权利要求3的方法，其中一个函数是强度方差。
6.根据权利要求1的方法，包括在设置在不同帧内相同位置处的子帧相关的计算值之 间进行比较。
7.根据权利要求1的方法，其中一个图像组通过采用空间图像条件获得，和至少一个 另一图像组在不同于空间图像条件的曝光条件下获得。
8.根据权利要求1的方法，其中一个图像组通过采用空间图像条件获得，和至少一个 另一图像组在低数值孔径下获得。
9.根据权利要求1的方法，包括通过模拟被模拟掩模中的变化，通过模拟由被模拟掩 模照明获得的图像，计算被模拟子帧的函数以提供计算值以及在计算值之间进行比较，来 计算函数对每个误差源的敏感度。
10.根据权利要求1的方法，包括通过模拟被模拟掩模中的变化，在多个照明条件下模 拟由被模拟掩模的照明获得的图像，计算被模拟子帧的函数以提供计算值以及在计算值之 间进行比较，来计算函数对每个误差源的敏感度。
11.根据权利要求1的方法，包括确定通过利用掩模制造的图案特征的变化。
12.根据权利要求1的方法，包括确定与掩模的衰减相移层厚度变化相关的误差源的 作用。
13.一种评估掩模相关误差源的系统，该系统包括接收表示多个图像的数据的界面， 该多个图像在不同曝光条件下获得；和处理器，对多个图像多个子帧中的每个子帧计算子 帧像素强度函数，以提供多个计算值；和基于计算值和响应于函数对每个误差源的敏感度 检测误差源。
14.根据权利要求13的系统，其中函数是强度积分。
15.根据权利要求13的系统，其中处理器对于至少一个子帧计算至少一个子帧的像素 强度的多个函数以提供多个计算值。
16.根据权利要求15的系统，其中一个函数是强度积分。
17.根据权利要求15的系统，其中一个函数是强度差分。
18.根据权利要求13的系统，其中处理器在设置在不同帧内相同位置处的子帧相关的 计算值之间进行比较。
19.根据权利要求13的系统，其中一个图像通过采用空间图像条件获得和至少一个另 一图像在不同于空间图像条件的曝光条件下获得。
20.根据权利要求13的系统，其中一个图像通过采用空间图像条件获得和至少一个另 一图像在低数值孔径下获得。
21.根据权利要求13的系统，其中处理器通过模拟被模拟掩模的变化，模拟由被模拟 掩模的照明获得的图像，对于多个被模拟子帧计算子帧像素强度函数以及在计算值之间进 行比较，来计算函数对每个误差源的敏感度。
22.根据权利要求13的系统，其中处理器通过模拟被模拟掩模中的变化，在多个照明 条件下模拟由被模拟掩模的照明获得的图像，对于多个被模拟子帧计算子帧像素强度函数 以及在计算值之间进行比较，来计算函数对每个误差源的敏感度。
23.根据权利要求13的系统，其中处理器确定利用该掩模制造的图案特征的变化。
24.根据权利要求13的系统，其中处理器确定与掩模衰减相移层厚度变化相关的误差 源的作用。
全文摘要
评估掩模相关误差源，包括(i)接收表示在不同曝光条件下获得的掩模多个图像的数据；(ii)对于掩模每个图像的多个子帧计算每个子帧像素强度函数的值以提供多个计算值；和(iii)响应于计算值和响应于函数对每个误差源的敏感度检测误差源。
文档编号G03F1/14GK101957557SQ20101013463
公开日2011年1月26日 申请日期2010年3月1日 优先权日2009年2月27日
发明者埃米尔·莫什·萨基乌, 瑟基·赫日斯托, 舍缪尔·孟甘, 莱维·法维舍维斯基 申请人:以色列商·应用材料以色列公司