专利名称：一种光罩清洗甩干装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及PCB、OLED、TFT制造领域使用的小型光罩清洗设备，特别涉及 OLED制造中黄光区光罩的清洗甩干装置。
背景技术：
在OLED生产过程中，黄光区的制造是生产过程中最为关键的环节之一。在这个 制程中需对ITO、Mo/AL/Mo、绝缘层和隔离柱进行4道膜的加工，在加工过程中，采用接近式 1 1曝光技术，对光罩图形进行转印。光罩与基板的距离只有60um左右，曝光解析度要达到 Sum左右。光罩表面的各种污染缺陷都对整个制程的图形转印良率造成很大影响。特别是 随着产品品种的频繁切换，光罩频繁更换，污染的几率增大。要求对光罩进行清洗，清洗后 的光罩要求无污染、无水痕、水渍。现在通用的清洗方法是洗洁剂清洗、纯水清洗、高速旋转 甩干。为了确保光罩中心纯水的有效甩出，在甩干过程中利用氮气对中心进行吹淋，由于氮 气的洁净度影响，容易带来二次污染，同时在吹淋过程中也容易产生水痕。
发明内容本实用新型的目的在于克服上述清洗方法的缺陷，提供一种简单实用的装置，完 成对光罩的清洗。为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的，设计一种光罩清洗甩干 装置，它包括甩干支撑机构及设置在甩干支撑机构上的浮动平台，光罩置于该浮动平台上， 其特征在于所述浮动平台通过设置在甩干支撑机构上端面的浮动支撑滚珠支撑，浮动轴 贯穿于甩干支撑机构的中心孔并与浮动平台底面开设的凹槽滑动连接，浮动平台的一侧连 接有侧向弹力机构。作为该结构的进一步改进，增加了浮动轴与浮动平台的有效位移设计，所述浮动 轴的轴端为矩形结构，截面为正方形，该轴端矩形的高度与浮动平台底面凹槽高度相同。所 述浮动平台底面凹槽为矩形槽，该矩形槽宽度与浮动轴轴端的正方形边长相同，浮动平台 矩形槽长度大于浮动轴轴端正方形边长。浮动轴与浮动平台之间形成了可传递力矩的滑动连接方式，从而实现浮动平台与 浮动轴之间的径向位移，并随浮动轴高速旋转。作为该结构的进一步改进，本实用新型增加了甩干平台的浮动设计，所述浮动平 台侧壁周边设置有容纳侧向弹力机构端头限位球的滑轨，该限位球与浮动平台的滑轨滑动 连接。浮动平台的周边一侧所设置的侧向弹力机构可以使浮动平台在水平方向做有限 移动，同时做旋转运动。作为该结构的进一步改进，增加了浮动平台的有效滚动位移设计，所述浮动支撑 滚珠有3 6个，分别置于甩干支撑机构上端面所设凹槽内，浮动支撑滚珠的直径大于凹槽 的半径。[0010]本实用新型浮动平台与浮动轴连接点位置在侧向弹力机构侧向力的作用下，可以 改变连接点，从而改变浮动平台的旋转中心。通过浮动机构在高速旋转中移动光罩的旋转 中心位置，而使光罩的几何中心与旋转中心不在一条直线上，从而使几何中心处滞留纯水 产生一个离心力矩，在高速旋转过程中，将几何中心的纯水有效甩出中心上述结构改进，克服了以前清洗结构不能将光罩几何中心纯水有效甩出的问题， 同时有效解决氮气二次污染与水痕、水迹产生的问题。
图1是本实用新型结构示意图；图2是图1甩干支撑机构截面仰视图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型做进一步说明。参照图1所示，该光罩清洗甩干装置包括甩干支撑机构2及设置在甩干支撑机构 2上的浮动平台3，光罩4置于该浮动平台3上，其中所述浮动平台3通过设置在甩干支撑 机构2上端面的浮动支撑滚珠1支撑，浮动轴6贯穿于甩干支撑机构2的中心孔并与浮动 平台3底面开设的凹槽滑动连接，浮动平台3的一侧连接有侧向弹力机构5。作为该结构的进一步改进，增加了浮动轴6与浮动平台3的有效位移设计。将浮 动轴6的轴端设计为矩形结构，其截面设计为正方形，该轴端矩形的高度与浮动平台3底面 凹槽高度相同。并且，将浮动平台3底面凹槽设计为矩形槽，该矩形槽的宽度与浮动轴6的 轴端正方形边长相同，该矩形槽长度大于浮动轴6轴端正方形边长；浮动轴6的矩形轴端嵌 于浮动平台3底面凹槽中，可沿浮动平台3底面凹槽成径向滑动，见图2所示。由于浮动轴 6的轴端与浮动平台3的底面凹槽之间是滑动连接方式，浮动平台3在旋转过程中与浮动轴 6之间形成不同心的可传递扭矩的滑动连接方式，产生径向位移。作为该结构的进一步改进，本实用新型增加了浮动平台3的浮动设计。在浮动平 台3侧壁周边设置有容纳侧向弹力机构5端头限位球的滑轨，该限位球与浮动平台3的滑 轨滑动连接。浮动平台3在旋转过程中在侧向弹力机构5的作用下，可以在水平方向做有限移 动，同时做旋转运动。作为该结构的进一步改进，增加了浮动平台3的有效滚动位移设计。在所述浮动 平台3通过设置在甩干支撑机构2上端面的浮动支撑滚珠1支撑，浮动支撑滚珠1有3 6 个，分别置于甩干支撑机构2上端面所设凹槽内，浮动支撑滚珠1的直径大于凹槽的半径。在旋转过程中，由于上述结构方式，浮动轴6与浮动平台3产生一个相对位移，改 变光罩旋转中心位置，从而实现甩干功能。本实用新型的原理是在甩干装置运行时，浮动轴6高速旋转，通过浮动轴6带动浮动平台3高速旋转， 同时设置在甩干支撑机构2上端面的浮动支撑滚珠1随浮动平台3 —起旋转，在旋转过程 中由侧向弹力机构5施加作用力于浮动平台3上，双向改变浮动平台3的旋转中心，使光罩 4上每一点都会相对于旋转中心产生一个水平离心力；而使光罩4在高速旋转过程中，将几何 中心的纯水有效甩出中心。
权利要求一种光罩清洗甩干装置，它包括甩干支撑机构(2)及设置在甩干支撑机构(2)上的浮动平台(3)，光罩(4)置于该浮动平台(3)上，其特征在于所述浮动平台(3)通过设置在甩干支撑机构(2)上端面的浮动支撑滚珠(1)支撑，浮动轴(6)贯穿于甩干支撑机构(2)的中心孔并与浮动平台(3)底面开设的凹槽滑动连接，浮动平台(3)的一侧连接有侧向弹力机构(5)。
2.如权利要求1所述的一种光罩清洗甩干装置，其特征在于所述浮动轴(6)的轴端 为矩形结构，截面为正方形，该轴端矩形的高度与浮动平台(3)底面凹槽高度相同。
3.如权利要求1所述的一种光罩清洗甩干装置，其特征在于所述浮动平台(3)底面 凹槽为矩形槽，该矩形槽宽度与浮动轴(6)轴端的正方形边长相同，浮动平台(3)矩形槽长 度大于浮动轴(6)轴端正方形边长。
4.如权利要求1所述的一种光罩清洗甩干装置，其特征在于所述浮动平台(3)侧壁 周边设置有容纳侧向弹力机构(5)端头限位球的滑轨，该限位球与浮动平台(3)的滑轨滑 动连接。
5.如权利要求1所述的一种光罩清洗甩干装置，其特征在于所述浮动支撑滚珠(1) 有3 6个，分别置于甩干支撑机构(2)上端面所设凹槽内，浮动支撑滚珠(1)的直径大于 凹槽的半径。
专利摘要本实用新型公开了一种光罩清洗甩干装置，它包括甩干支撑机构(2)及设置在甩干支撑机构(2)上的浮动平台(3)，光罩(4)置于该浮动平台(3)上，其特征在于所述浮动平台(3)通过设置在甩干支撑机构(2)上端面的浮动支撑滚珠(1)支撑，浮动轴(6)贯穿于甩干支撑机构(2)的中心孔并与浮动平台(3)底面凹槽滑动连接，浮动平台(3)的一侧连接有侧向弹力机构(5)。在旋转过程中，浮动轴与浮动平台产生一个相对位移，改变光罩旋转中心位置，实现甩干功能。
文档编号G03F1/82GK201773262SQ201020140660
公开日2011年3月23日 申请日期2010年3月25日 优先权日2010年3月25日
发明者李宪龙 申请人:彩虹显示器件股份有限公司