专利名称：多层镀膜的太阳镜片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种多层镀膜的太阳镜片。
背景技术：
现有技术中，多层镀膜的太阳镜片结构大致如图I和图2所示，是在镜片10表面真空电镀形成一层Ti3O5膜层20，在此Ti3O5膜层20上真空电镀形成一层SiO2膜层30，然后在SiO2膜层30上真空电镀形成一层Ti3O5膜层20，在此Ti3O5膜层20上真空电镀形成一层SiO2膜层30,依此交替反复四至五次,一共形成四至五层Ti3O5膜层20和四至五层SiO2膜层30，即制成表面具有多层彩色水银镀膜的太阳镜片。其中，镜片10可采用TAC (三烯丙基氰脲酸酯)、PC (聚碳酸酯)、TR (热塑性橡胶化合物)、CR等各种光学材料，每一层Ti3O5膜层20的厚度为132. 5 159. Onm,每一层SiO2膜层30的厚度为198. 7 265. Onm。 现有多层镀膜的太阳镜片具有如下缺点一、镀膜反射率高，无吸收，颜色鲜艳，不美观；二、镀膜的互补色对太阳镜片的颜色有很严重干扰，镀膜严重破坏可见光的平衡，使各色光透过比例很不均匀，长波透光下降较大，物体颜色易失真，立体感下降；三、镀膜厚，内应力大,与太阳镜片的结合不牢固，容易破坏太阳镜片。有鉴于此，本发明人对上述问题进行研究，研制出一种新型多层镀膜的太阳镜片，本案由此产生。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种多层镀膜的太阳镜片，以降低镀膜反射率，避免物体颜色失真，保护太阳镜片。为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下多层镀膜的太阳镜片，在镜片表面真空电镀形成一层厚度为66. 25 119. 25nm的第一 Ti3O5膜层，在第一 Ti3O5膜层上真空电镀形成一层厚度为53 92. 75nm的第一 SiO2膜层，然后在第一 SiO2膜层上真空电镀形成一层厚度为49. 02 88. 78nm的第二 Ti3O5膜层。所述第二 Ti3O5膜层上还真空电镀形成一层厚度为53 92. 75nm的第二 SiO2膜层。采用上述方案后，本实用新型通过改变镀膜的层数和厚度，从而改变镀膜的结构，这样，本实用新型与现有结构相比，具有如下优点一、镀膜反射率低，无吸收，颜色柔和，更加美观；二、镀膜的互补色对太阳镜片的颜色几乎无干扰，各色光透过比例均匀，保持长波透光率高，物体颜色不失真，增强物体立体感；三、镀膜的层数和厚度变化使内应力变小，与太阳镜片的结合更加牢固，保护太阳镜片。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型做进一步说明。
[0017]图I是现有广品的结构不意图；图2是图I的局部放大图；图3是本实用新型的结构示意图；图4是图3的局部放大图。现有产品标号说明镜片10Ti3O5 膜层 20SiO2 膜层 30本案广品标号说明镜片ITi3O5 膜层 21Ti3O5 膜层 22SiO2 膜层 31SiO2 膜层 32。
具体实施方式
如图3和图4所示，是本实用新型揭示的多层镀膜的太阳镜片，在镜片表面真空电镀形成一层厚度为66. 25 119. 25nm的第一 Ti3O5膜层,在第一 Ti3O5膜层上真空电镀形成一层厚度为53 92. 75nm的第一 SiO2膜层,然后在第一 SiO2膜层上真空电镀形成一层厚度为49. 02 88. 78nm的第二 Ti3O5膜层，为了使镀膜具有更佳的机械性能，在第二 Ti3O5膜层22上还真空电镀形成一层厚度为53 92. 75nm的第二 SiO2膜层。这样，本实用新型改变了镀膜的层数和厚度，改变了镀膜的结构，使镀膜反射率低，颜色柔和，对太阳镜片的颜色几乎无干扰，物体颜色不失真，与太阳镜片的结合更加牢固，保护太阳镜片。以上仅为本实用新型的具体实施例，并非对本实用新型的保护范围的限定。凡依本案的设计思路所做的等同变化，均落入本案的保护范围。
权利要求1.多层镀膜的太阳镜片，其特征在于在镜片表面真空电镀形成一层厚度为66.25 119. 25nm的第一 Ti3O5膜层，在第一 Ti3O5膜层上真空电镀形成一层厚度为53 92. 75nm的第一 SiO2膜层，然后在第一 SiO2膜层上真空电镀形成一层厚度为49. 02 88. 78nm的第二Ti3O5膜层。
2.如权利要求I所述多层镀膜的太阳镜片，其特征在于所述第二Ti3O5膜层上还真空电镀形成一层厚度为53 92. 75nm的第二 SiO2膜层。
专利摘要本实用新型公开了多层镀膜的太阳镜片，在镜片表面真空电镀形成一层厚度为66.25～119.25nm的第一Ti3O5膜层，在第一Ti3O5膜层上真空电镀形成一层厚度为53～92.75nm的第一SiO2膜层，然后在第一SiO2膜层上真空电镀形成一层厚度为49.02～88.78nm的第二Ti3O5膜层。此结构可降低镀膜反射率，避免物体颜色失真，保护太阳镜片。
文档编号G02B1/10GK202362538SQ20112042736
公开日2012年8月1日 申请日期2011年11月2日 优先权日2011年11月2日
发明者陈宇翔 申请人:厦门虹泰光学有限公司