专利名称：一种液晶显示器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示器。
背景技术：
目前常用的平板显示器为液晶显示器，其中，薄膜晶体管液晶显示器(TFT-IXD，Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)是液晶显不器中的主流产品。液晶面板是液晶显示器的重要部件，目前按照如下过程制作液晶面板步骤I、首先分别制作阵列(Array)基板和彩膜(CF, Color Filter)基板；步骤2、通过对盒工艺将彩膜基板和阵列基板进行对盒，形成液晶面板。其中，对盒工艺可以包括通过液晶滴注(ODF，One Drop Filling)工艺在阵列基板或者彩膜基板中的任一基板上滴注液晶，在另一基板上涂敷封框胶，将阵列基板和彩膜基板进行对盒形成液晶面板，并对封框胶进行固化处理以使封框胶固化。为了便于说明，以封框胶涂敷在彩膜基板上为例，如图I所示，为现有技术中，涂敷封框胶的TFT-LCD面板结构示意图的俯视图，包括彩膜树脂11，薄膜晶体管12，栅极线13，支撑隔垫物14和封框胶15。但是，对于小尺寸的液晶显示器，因为对产品品质和终端设计的要求，一般要求液晶面板的非显示区域尽可能小。一般尺寸的液晶显示器非显示区域直径通常为3_，而目前的手机等终端的小尺寸液晶显示器的非显示区域要求不超过I. 5mm，这就要求封框胶的断面直径小于0. 7mm,由于封框胶的黏附面积较小，黏附力不足，使得封框胶与阵列基板和彩膜基板的接触部位出现缝隙，甚至出现封框胶脱落，导致气体侵入，进而导致产品不良或者产品报废。
实用新型内容本实用新型实施例提供一种液晶显示器，用以提高封框胶与阵列基板和彩膜基板的接触部位的黏附力度，提升产品品质。本实用新型实施例提供一种液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶，设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物，以及粘合所述彩膜基板和阵列基板的封框胶，所述彩膜基板21上与封框胶25接触的部位为公共电极层215，所述公共电极层215上设置有凹凸结构216，用于增加所述封框胶25与所述彩膜基板21的接触面积。本实用新型实施例提供一种液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶，设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物，以及粘合所述彩膜基板和阵列基板的封框胶，所述阵列基板22上与封框胶25接触的部位为绝缘层226，所述绝缘层226上设置有凹凸结构228，用于增加所述封框胶25与所述阵列基板22的接触面积。本实用新型实施例提供一种液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶，设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物，以及粘合所述彩膜基板和阵列基板的封框胶，所述彩膜基板21上与封框胶25接触的部位为公共电极层215，所述公共电极层215上设置有第一凹凸结构216，用于增加所述封框胶25与所述彩膜基板21的接触面积；所述阵列基板22上与封框胶25接触的部位为绝缘层226，所述绝缘层226上设置有第二凹凸结构228，用于增加所述封框胶25与所述阵列基板22的接触面积。本实用新型实施例提供的第一种液晶显示器，在彩膜基板上与封框胶接触的部倥设置有凹凸结构，这样，在彩膜基板上涂敷封框胶时，增加了封框胶与彩膜基板接触面积，从而提高了封框胶与彩膜基板的接触部位的黏附力度，防止封框胶与彩膜基板接触部位出 现缝隙，甚至出现封框胶脱落，从而防止了气体侵入，提升了产品品质。本实用新型实施例提供的第二种液晶显示器，在阵列基板上与封框胶接触的部位设置有凹凸结构，这样，在阵列基板上涂敷封框胶时，增加了封框胶与阵列基板的接触面积，从而提高了封框胶与阵列基板的接触部位的黏附力度，防止封框胶与阵列基板的接触部位出现缝隙，甚至出现封框胶脱落，从而防止了气体侵入，提升了产品品质。本实用新型实施例提供的第三种液晶显示器，在彩膜基板上与封框胶接触的部位和在阵列基板上与封框胶接触的部位均设置有凹凸结构，这样，在彩膜基板或者阵列基板上涂敷封框胶时，增加了封框胶与彩膜基板和阵列基板的接触面积，从而提高了封框胶与彩膜基板和阵列基板的接触部位的黏附力度，防止封框胶与彩膜基板和阵列基板的接触部位出现缝隙，甚至出现封框胶脱落，从而防止了气体侵入，提升了产品品质。
图I为现有技术中，TFT-IXD面板结构示意图的俯视图；图2为现有技术中，对盒形成的液晶面板结构的剖面图；图3为本实用新型中，对盒形成的液晶面板结构的剖面图；图4a为本实用新型中，接触部位设置为凸点结构时的TFT-LCD面板结构示意图的俯视图；图4b为本实用新型中，接触部位设置为凸起的环形结构时的TFT-LCD面板结构示意图的俯视图。
具体实施方式
为了提高封框胶与阵列基板和彩膜基板的接触部位的黏附力度，提升产品品质，本实用新型实施例提供一种液晶显示器。如图2所示，为现有技术中，对盒形成的液晶面板的剖面图，包括对盒设置的彩膜基板21和阵列基板22，即彩膜基板21和阵列基板22的电极相互面对。彩膜基板21和阵列基板22之间设置有支撑隔垫物23，使得二者之间形成一定的空间，在该空间内填充有液晶24。传统的彩膜基板21制作方法包括如下步骤步骤I、采用涂敷工艺，在玻璃基板211上制备一层厚度约在I. 5微米左右的黑矩阵(Black Matrix,BM)层212，黑矩阵材料可以采用挡光高分子树脂，用掩膜板通过曝光和化学刻蚀工艺在玻璃基板211上形成黑矩阵图形；[0026]步骤2、在经过步骤I处理后的玻璃基板211上，采用涂布分散法在玻璃基板上涂布厚度约在2. 5微米左右的红色像素树脂层213，像素树脂层213材料通常是丙烯酸类感光性树脂或其他羧酸型色素颜料树脂步骤3、通过曝光工艺和化学显影工艺，在经过步骤I和步骤2处理后的玻璃基板211的一定区域上形成红色像素图形；步骤4、采用和制备红色像素树脂层相同的工艺方法，在经过步骤I 3处理后的玻璃基板211上，制备蓝色、绿色像素树脂层图形，蓝色像素树脂层图形和绿色像素树脂层图形厚度各约为2. 5微米；非显示区树脂214在制作显示树脂的过程中形成；步骤5、在经过上述步骤I 4处理的玻璃基板211上，采用溅射工艺镀一层公共电极层215，此公共电极层为透明电极，常用的透明电极包括ITO(铟锡氧化物)或者IZO (铟锌氧化物)，厚度约为1000 A;步骤6、在经过上述步骤I 5处理的玻璃基板211上，涂布支撑隔垫物层23，通过曝光、光刻工艺，形成柱状隔垫物。其中，支撑隔垫物的截面可以但不限于为八边形、四边形或者圆形等结构。特别的，支撑隔垫物直径约30微米，高度约为3. 5微米。传统的阵列基板的制作方法如下在玻璃基板221上依次制作栅极(Gate)层222、栅极绝缘(Gate Insulator)层 223、有缘(Active Multi)层 224、Data (数据)层 225、绝缘(PVX)层226、然后对基板进行VIA Hole (导通孔)工艺处理和玻璃ITO (铟锡氧化物，也称为透明电极)工艺处理。其中，VIAHole工艺通过掩膜曝光，在ITO层227与Data层225之间挖孔，使得ITO层227与Data层225导通，ITO工艺处理是指在玻璃基板上形成ITO 层 227。在彩膜基板和阵列基板制成后，通过对盒工艺形成液晶面板的过程中，在彩膜基板或者阵列基板上涂敷封框胶25，使得彩膜基板21和阵列基板22粘合在一起。但是，按照现有的工艺，封框胶与彩膜基板21和阵列基板22的接触面积较小，封框胶与阵列基板22和彩膜基板21的接触部位出现缝隙，甚至出现封框胶脱落，导致气体侵入，进而导致产品不良或者产品报废。基于此，本实用新型实施例将提供一种液晶显示器，用以增加封框胶25与彩膜基板21和阵列基板22的接触面积，提高封框胶25与阵列基板22和彩膜基板21的接触部位的黏附力度，防止由于封框胶25与彩膜基板21和阵列基板22的黏附力度小而产生缝隙，甚至出现封框胶脱落，导致气体侵入，进而使得产品不良或者产品报废。以下结合说明书附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型，并且在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。本实用新型实施例提供的第一种液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板21和阵列基板22，彩膜基板21与阵列基板22之间设置有支撑隔垫物23，彩膜基板21和阵列基板22之间填充有液晶24，以及粘合彩膜基板21和阵列基板22的封框胶25，彩膜基板21上与封框胶25接触的部位为公共电极层215，公共电极层215上设置有凹凸结构216，用于增加封框胶25与彩膜基板21的接触面积。其中，公共电极层215上设置的凹凸结构216可以但不限于为凸点结构、凹槽结构、棱结构，凸起的环形结构，或凹陷的环形结构，凡是能够增大封框胶25与彩膜基板21的接触面积的结构均可以。特别的，若凹凸结构216设置为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构时，凸起的高度不超过支撑隔垫物23的高度；若凹凸结构216设置为凹槽结构，或者凹陷的环形结构时，凹陷的深度低于公共电极层215厚度。另外，本实用新型还提供另外一种液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板21和阵列基板22，彩膜基板21与阵列基板22之间设置有支撑隔垫物23，彩膜基板21和阵列基板22之间填充有液晶24，以及粘合彩膜基板21和阵列基板22的封框胶25，阵列基板22上与封框胶25接触的部位为绝缘层226，绝缘层226上设置有凹凸结构228，用于增加封框胶25与阵列基板22的接触面积。其中，绝缘层226上设置的凹凸结构228可以但不限于为凸点结构、凹槽结构、棱结构、凸起的环形结构，或者凹陷的环形结构，凡是能够增大封框胶25与阵列基板22的接触面积的结构均可以。特别的，若当凹凸结构228设置为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构时，凸起的高度不超过支撑隔垫物23的高度；若凹凸结构228设置为凹槽结构或者凹陷的环形结构时，凹陷的深度低于绝缘层226的厚度。如图3所示，为本实用新型实施例提供的对盒形成的液晶面板结构的剖面图，包括对盒设置的彩膜基板21和阵列基板22，彩膜基板21与阵列基板22之间设置有支撑隔垫物23，彩膜基板21和阵列基板22之间填充有液晶24，以及粘合彩膜基板21和阵列基板22的封框胶25，其中彩膜基板21上与封框胶25接触的部位为公共电极层215，公共电极层215上设置有第一凹凸结构216，用于增加封框胶25与所述彩膜基板21的接触面积；阵列基板22上与封框胶25接触的部位为绝缘层226，绝缘层226上设置有第二凹凸结构228，用于增加封框胶25与阵列基板22的接触面积。其中，第一凹凸结构216和第二凹凸结构228可以但不限于为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者凹槽结构，或者凹陷的环形结构，或者棱结构。特别的，若第一凹凸结构216和第二凹凸结构228为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构时，凸起的高度不超过设置于彩膜基板21和阵列基板22之间的支撑隔垫物23的高度；若第一凹凸结构216为凹槽结构或者凹陷的环形结构时，凹陷的深度小于公共电极层215的厚度；若第二凹凸结构228为凹槽结构或者凹陷的环形结构时，凹陷的深度小于绝缘层226的厚度。本实用新型中，公共电极层215上设置的凹凸结构216和绝缘层226上设置的凹凸结构228，可以采用Half Tone曝光工艺实现。特别的，公共电极层215上设置的凹凸结构216，还可以采用如下工艺实现在彩膜基板21的制作过程中的步骤5中，在形成公共电极层215时，采用Pattern设计，通过曝光工艺形成凹凸结构216 ;绝缘层226上设置的凹凸结构228，可以采用如下工艺实现在VIA Hole工艺处理过程中，以半色调网印Half Tone工艺形成预设高度的凹凸结构228。 如图4a所示，为本实用新型实施例中，阵列基板上的凹凸结构设置为凸点结构时的TFT-LCD面板结构示意图的俯视图，包括彩膜树脂41，薄膜晶体管42，栅极线43，支撑隔物垫44，封框胶45以及设置的凸点结构46 ;如图4b所示，为本实用新型实施例中，阵列基板上的凹凸结构设置为环形结构时的阵列基板结构示意图的俯视图，包括彩膜树脂41，薄膜晶体管42，栅极线43，支撑隔垫物44，封框胶45以及设置的环形结构46。本实用新型实施例提供的液晶显示器，在彩膜基板上与封框胶接触的部位、和/或阵列基板上与封框胶接触的部位设置有凹凸结构，这样，在彩膜基板或者阵列基板上涂敷封框胶时，增加了封框胶与彩膜基板和/或阵列基板的接触面积，从而提高了封框胶与彩膜基板和/或阵列基板的接触部位的黏附力度，防止封框胶与彩膜基板和/或阵列基板的接触部位出现缝隙，甚至出现封框胶脱落，从而防止了气体侵入，提升了产品品质。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含 这些改动和变型在内。
权利要求1.一种液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶，设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物，以及粘合所述彩膜基板和阵列基板的封框胶，其特征在于， 所述彩膜基板上与封框胶接触的部位为公共电极层，所述公共电极层上设置有凹凸结构，用于增加所述封框胶与所述彩膜基板的接触面积。
2.如权利要求I所述的液晶显示器，其特征在于，所述凹凸结构设置为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构，或者凹槽结构，或者凹陷的环形结构。
3.如权利要求2所述的液晶显示器，其特征在于，若所述凹凸结构设置为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构时，凸起的高度不超过设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物的高度；若所述凹凸结构设置为凹槽结构，或者凹陷的环形结构时，凹陷的深度小于公共电极层的厚度。
4.一种液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶，设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物，以及粘合所述彩膜基板和阵列基板的封框胶，其特征在于， 所述阵列基板上与封框胶接触的部位为绝缘层，所述绝缘层上设置有凹凸结构，用于增加所述封框胶与所述阵列基板的接触面积。
5.如权利要求4所述的液晶显示器，其特征在于，所述凹凸结构设置为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构，或者凹槽结构，或者凹陷的环形结构。
6.如权利要求5所述的液晶显示器，其特征在于，若所述凹凸结构设置为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构时，凸起的高度不超过设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物的高度；若所述凹凸结构设置为凹槽结构，或者凹陷的环形结构时，凹陷的深度小于绝缘层的厚度。
7.一种液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶，设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物，以及粘合所述彩膜基板和阵列基板的封框胶，其特征在于， 所述彩膜基板上与封框胶接触的部位为公共电极层，所述公共电极层上设置有第一凹凸结构，用于增加所述封框胶与所述彩膜基板的接触面积； 所述阵列基板上与封框胶接触的部位为绝缘层，所述绝缘层上设置有第二凹凸结构，用于增加所述封框胶与所述阵列基板的接触面积。
8.如权利要求7所述的液晶显示器，其特征在于，所述第一凹凸结构和第二凹凸结构为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构，或者凹槽结构，或者凹陷的环形结构。
9.如权利要求8所述的液晶显示器，其特征在于，若所述第一凹凸结构和所述第二凹凸结构为凸点结构，或者凸起的环形结构，或者棱结构时，凸起的高度不超过设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的支撑隔垫物的高度； 若所述第一凹凸结构为凹槽结构，或者凹陷的环形结构时，凹陷的深度小于公共电极层的厚度； 若所述第二凹凸结构为凹槽结构，或者凹陷的环形结构时，凹陷的深度小于绝缘层的厚度。
专利摘要本实用新型公开了一种液晶显示器，用以提高封框胶与阵列基板和/或彩膜基板的接触部位的黏附力度，提升产品品质。所述液晶显示器，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板与阵列基板之间设置有支撑隔垫物，所述彩膜基板和阵列基板之间填充有液晶，以及所述彩膜基板和阵列基板之间涂敷有封框胶，所述彩膜基板上与封框胶接触的部位为公共电极层，所述公共电极层上设置有凹凸结构，用于增加所述封框胶与所述彩膜基板的接触面积；和/或，所述阵列基板上与封框胶接触的部位为绝缘层，所述绝缘层上设置有凹凸结构，用于增加所述封框胶与所述阵列基板的接触面积。
文档编号G02F1/1339GK202372734SQ20112052696
公开日2012年8月8日 申请日期2011年12月15日 优先权日2011年12月15日
发明者李京鹏, 林海云, 赵承潭, 闵泰烨, 陈旭 申请人:北京京东方光电科技有限公司