专利名称：一种彩膜基板的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及薄膜晶体管液晶显示器(TFT-IXD)，尤其涉及一种彩膜基板。
背景技术：
发绿(Greenish)是新产品开发过程中经常遇到的一种画面显示问题。为了解决Greenish这一问题，除了在电路上做一些公共电压(Vcom)的补偿电路设计以外，在阵列基板的设计过程中，还通常在亚像素(DOT)设计时引入矩阵式公共电压(Matrix Vcom)。Matrix Vcom通常设计为以1/6或1/3为一个周期，所述1/6或1/3的周期是指每隔三个亚像素或六个亚像素设置一个Matrix Vcom ;并且Matrix Vcom均设计在彩膜基板和阵列基板对盒后的对应蓝色像素的位置上。虽然Matrix Vcom的引入改善了产品因Greenish导致的画面显示问题，但是也损失了蓝色亚像素的开口率，通常蓝色亚像素的开口率会降低4% -5%。
·[0003]莫来石是Al2O3-SiO2 二元系中常压下唯一稳定存在的二元化合物，化学式为3Al203-2Si02。天然莫来石非常少，因此莫来石通常用烧结法或电熔法等人工合成。它具有膨胀均匀、热震稳定性极好、荷重软化点高、高温蠕变值小、硬度大、抗化学腐蚀性好等特点。此外，莫来石还具有光学特性，经光照后可放射出蓝光。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。在PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应。现有技术在沉积非金属氧化物膜时，一般都采用PECVD法。
实用新型内容有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种彩膜基板，能够提高蓝色亚像素的开口率。为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的—种彩膜基板，包括基板、黑矩阵及彩膜层；所述彩膜层包括蓝色像素层；其中，所述蓝色像素层上设置有莫来石层。进一步地，所述莫来石层通过等离子体增强化学气相沉积法沉积在所述蓝色像素层上。进一步地，所述彩膜层还包括红色像素层和绿色像素层。进一步地，所述蓝色像素层与莫来石层的厚度之和与红色像素层以及绿色像素层的厚度相同。 进一步地，所述彩膜基板还包括透明导电层。一种液晶显示器，包括上述的彩膜基板。由以上技术方案可以看出，在彩膜基板的蓝色像素层上设置莫来石层，可以利用莫来石在光照下放射出蓝光的特性，来补偿因Matrix Vcom的设计造成的蓝色像素开口率的损失。
图I为本实用新型实施例彩膜基板的结构示意图；图2为本实用新型实施例在蓝色像素层上沉积有莫来石层的示意图；图3为现有技术中阵列基板的不意图；图4为本实用新型实施例彩膜基板与阵列基板对盒后的示意图；图5为本实用新型实施例彩膜基板上沉积莫来石层后的光致发光特性测试图。附图标记说明 I-基板2-黑矩阵3-红色像素层4-绿色像素层 5-蓝色像素层6-透明导电层7-莫来石层8-Matrix Vcom
具体实施方式
本实用新型的基本思想是利用莫来石在光照下放射出蓝光的特性，将莫来石设置在蓝色像素层的表面，以补偿因Matrix Vcom的设计而造成的蓝色像素开口率的损失。如图I所示，根据本实用新型的一个实施例，彩膜基板包括基板I、黑矩阵2及彩膜层；所述彩膜层包括蓝色像素层5 ;其中，蓝色像素层5上设置有莫来石层7。从图I可以看出，彩膜层还可包括红色像素层3和绿色像素层4 ;彩膜基板还可包括透明导电层6。本实用新型彩膜基板中黑矩阵2、彩膜层及透明导电层6的制作工艺与现有技术相同，在此不再详述。下面详细说明本实用新型彩膜基板中莫来石层7的制作工艺。在基板上的彩膜制作完成后，通过PECVD法在基板的整个表面沉积莫来石，并通过构图工艺在蓝色像素层5的位置上形成莫来石层7，如图2所示。另外，通过PECVD法沉积时的温度可以在350°C左右。另外，在实际制作过程中，保持蓝色像素层5与莫来石层7的厚度之和与其他像素层(即红色像素层3或绿色像素层4)的厚度相同。彩膜基板与阵列基板(如图3所示)对盒后的示意图如图4所示。Matrix Vcom8处在对应蓝色像素层的位置上，本实用新型利用莫来石在光照下放射出蓝光的特性，将莫来石设置在蓝色亚像素层的表面，可以补偿因Matrix Vcom 8造成的蓝色像素的开口率的损失。对本实用新型彩膜基板上沉积莫来石层后的光致发光特性进行测试，其中，激发波长为255nm，测试结果如图5所示。从图5可以看出，在399nm、452nm、469nm处有激发现象，这是由于莫来石自身结构中的氧空位激发产生的。在可见光范围内，蓝光波长为435-480，因此，莫来石经光照后放射出的蓝光可以补偿因Matrix Vcom 8造成的蓝色像素开口率的损失，有效提高蓝色像素的开口率。本实用新型提供的彩膜基板能够应用于液晶显示器。以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用于限定本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种彩膜基板，包括基板、黑矩阵及彩膜层；所述彩膜层包括蓝色像素层；其特征在于，所述蓝色像素层上设置有莫来石层。
2.根据权利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述莫来石层通过等离子体增强化学气相沉积法沉积在所述蓝色像素层上。
3.根据权利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层还包括红色像素层和绿色像素层。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述蓝色像素层与莫来石层的厚度之和与红色像素层以及绿色像素层的厚度相同。
5.根据权利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括透明导电层。
6.一种液晶显示器，包括权利要求I至5任一项所述的彩膜基板。
专利摘要本实用新型公开了一种彩膜基板，包括基板、黑矩阵及彩膜层；所述彩膜层包括蓝色像素层；其中，所述蓝色像素层上设置有莫来石层。采用本实用新型能够提高蓝色亚像素的开口率。
文档编号G02F1/1335GK202472181SQ20122006696
公开日2012年10月3日 申请日期2012年2月27日 优先权日2012年2月27日
发明者木素真, 李成, 许睿, 黎蔚 申请人:北京京东方光电科技有限公司