专利名称：胶片曝光装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及向胶片状的被曝光体上曝光各种图形一的胶片曝光装置。
技术背景 已知有一种曝光装置,它一边沿一个方向来运送胶片状的基材，一边向该基材上曝光相位差图形、滤光片图形、电路图形等各种图形。例如，下述专利文献I中记载的曝光装置将具有规定宽度的胶卷状的被曝光体送入到曝光部上，将掩模的图形曝光到被曝光体上，包括供给卷盘旋转部，使送出被曝光体的供给卷盘旋转；导辊，引导从该供给卷盘送出的被曝光体；以及对准标记绘制部，被配置在该导辊和曝光部之间，向被曝光体上绘制与图形掩模对位用的对准标记。此外，包括拍摄该对准标记的对准摄像机，根据对准摄像机的图像来进行胶片状的被曝光体和掩模的位置调整。现有技术文献专利文献专利文献I :(日本)特开2009-53383号公报在这种曝光装置中，胶片状的被曝光体由于曝光而被加热，从而有时在被曝光体的曝光面上沿运送方向产生条状的褶皱。在曝光面上产生这种褶皱后，在曝光面上形成掩模的图形时，有时对图形的尺寸造成不良影响，产生在曝光面上不能形成高精度的图形的问题。此外，在用对准摄像机来拍摄被曝光体的胶片面上形成的对准标记时，如果在胶片面上产生了前述褶皱，则对准摄像机的焦点位置变化，取得图像的鲜明度降低，而产生不能高精度地进行胶片状的被曝光体和掩模的位置调整的问题。对此，作为抑制被曝光体的曝光面形成的褶皱的方法，可以使直径比较大的支承辊接触被曝光体的曝光面的相反一侧的面，用该支承辊的曲面来压平褶皱。然而根据该方法，被曝光体的曝光面的相反一侧的空间由支承辊占有，产生想在曝光面的相反一侧配置的对准摄像机等器材的配置空间受到制约的问题。假如将对准摄像机配置在被曝光体的曝光面侧，则不仅产生本来必须配置在曝光面侧的光源和掩模保持部的配置和对准摄像机的配置冲突这一问题，而且由于用对准摄像机来拍摄支承辊的曲面反射的光，所以支承辊的曲面将光反射到各种各样的方向，入射到摄像机中的光的光量降低，产生取得图像的对比度降低的问题。
实用新型内容本实用新型就是将处理这种问题作为课题的一例。即，本实用新型的目的是在向胶片状的被曝光体上曝光掩模图形的曝光装置中，通过抑制曝光面上产生的褶皱，能够在曝光面上形成高精度的图形，或者高精度地进行胶片状的被曝光体和掩模的位置调整；能够在曝光面的相反一侧确保可配置对准摄像机等器材的有效空间；能够提高对准摄像机的取得图像的对比度等。为了实现这种目的，本实用新型至少具备以下结构。一种胶片曝光装置，向胶片状的被曝光体上曝光掩模图形，其特征在于，包括胶片运送部，沿一个方向运送上述被曝光体；光掩模，被接近配置在上述被曝光体的曝光面上；掩模保持部，将上述光掩模保持在上述被曝光体的曝光面上；以及光照射部，向上述光掩模的掩模图形上照射光；上述光掩模具有沿上述被曝光体的运送方向配置的第I掩模图形和第2掩模图形；上述胶片运送部具有与上述第I掩模图形和上述第2掩模图形的位置对应而配置的一对支承辊，用上述一对支承辊来支持曝光上述第I掩模图形和上述第2掩模图形的曝光面的相反一侧的面。根据具备这种特征的本实用新型的胶片曝光装置，用一对支承辊来支持曝光第I掩模图形和第2掩模图形的被曝光体的曝光面的相反一侧的面，所以曝光面接触支承辊的表面而成为难以产生褶皱的状态。由此，能够抑制被曝光体的曝光面上产生的褶皱，能够在 曝光面上形成高精度的图形。此外，通过抑制被曝光体的曝光面上产生的褶皱，能够无焦点偏差地拍摄被曝光体的对准标记，能够高精度地进行被曝光体和掩模的位置调整。此外，通过设一对支承辊，能够在一对支承辊之间确保空间，能够在该空间中配置对准摄像机等调整器材。由此，对准摄像机能够用透过光掩模和被曝光体的光来拍摄对准标记，能够充分确保入射到对准摄像机中的光，来得到高对比度的图像。
图I是本实用新型的实施方式的胶片曝光装置的整体结构的说明图。图2是本实用新型的实施方式中的光掩模的掩模图形的说明图(图2(a)是平面图，图2(b)是A-A剖面图)。图3是本实用新型的实施方式中的掩模保持部的具体结构例的说明图(图3(a)是B-B剖面图，图3 (b)是A-A剖面图)。标号说明I :胶片曝光装置，2 :胶片运送部，3 :光掩模，4:掩模保持部，4&:开口，5(5八、58):光照射部，6(6A、6B):对准摄像机，7 :位置调整部，8 :间隙传感器，9 :位置调整用光源，21、22 :支承辊，23、24 :运送辊，31 :第I掩模图形，32 :第2掩模图形，33、34、35 :对准开口部，41 :遮光板,43 :支持框,44 :框体，45 :掩模吸附孔F :被曝光体，a:曝光面
具体实施方式
以下，参照附图来说明本实用新型的实施方式。图I是本实用新型的实施方式的胶片曝光装置的整体结构的说明图。胶片曝光装置I是向胶片状的被曝光体F上曝光掩模图形的装置，包括胶片运送部2,沿一个方向来运送被曝光体F ;光掩模3,被配置在接近被曝光体F的曝光面a上；掩模保持部4，将光掩模3保持在被曝光体F的曝光面a上；以及光照射部5，向光掩模3的掩模图形上照射光。被曝光体F在表面或内部具有通过对沿一个方向长的胶片状的基材照射紫外线等光而变性的感光性树脂层。被曝光体F上形成的曝光图形可以是相位差图形、滤色片图形、电路图形等各种图形，图形的形态没有特别的限定，但是是一边沿一个方向来运送被曝光体F，一边形成图形，所以沿运送方向形成线状的图形。胶片运送部2沿图示的箭头沿一个方向来运送胶片状的被曝光体F。该胶片运送部2相对于光掩模3在被曝光体F的运送方向上游侧和下游侧具有一对支承辊21、22，在该支承辊21、22上配置有被曝光体F的曝光面a。图示的胶片运送部2在一对支承辊21、22的上游侧及下游侧具有多个运送辊23、24。光掩模3在支承辊21、22上被配置在接近被曝光体F的曝光面a上，具有沿被曝·光体F的运送方向配置的第I掩模图形31和第2掩模图形32。图2是本实用新型的实施方式中的光掩模的掩模图形的说明图(图2(a)是平面图，图2(b)是A-A剖面图)。在图示的例子中，第I掩模图形31被配置在被曝光体F的运送方向上流侧，第2掩模图形32被配置在被曝光体F的运送方向下流侧。第I掩模图形31和第2掩模图形32分别在被曝光体F的曝光面a上的不同位置上形成线状的图形。光掩模3在第I掩模图形31和第2掩模图形32之间具有对准开口部33、34、35。对准开口部33、34本身具有对准标记的功能，用它来进行光掩模3的初始状态下的位置调整。对准开口部35是狭缝状的开口部，在其内部沿被曝光体F的运送方向设有线状的标记(图示省略)。通过对齐被曝光体F上所设的线状的对准标记和对准开口部35内的线状的标记，来进行被曝光体F的运送中的位置调整。此外，光掩模3通过溅射等在透明的石英玻璃基板3A的一面上形成了铬等的遮光层3B，在该遮光层3B上用光刻工序等形成了第I掩模图形31、第2掩模图形32、对准开口部33、34、35。掩模保持部4将光掩模3保持在被曝光体F的曝光面a上,并且具有与光掩模3的对准开口部33、34、35对应的开口 4a。在图示的例子中，掩模保持部4在大致中央部包括遮光板41。在掩模保持部4保持的光掩模3上，配置向第I掩模图形31和第2掩模图形32分别照射光的光照射部5 (5A、5B)。光照射部5 (5A、5B)将来自图中省略的一个或多个光源的光分别引导到光掩模3的第I掩模图形31和第2掩模图形32上。说明光照射部5 (5A、5B)的一例将不同的直线偏光分量(P偏光和S偏光)从各个光照射部5A、5B以倾斜的角度照射到曝光面a上。由此，能够在曝光面a上形成条状的相位差图形。此外，本实用新型的实施方式的胶片曝光装置I包括位置调整部7，在一对支承辊21、22间配置拍摄对准标记的对准摄像机6(6A、6B)，根据对准摄像机6(6A、6B)的取得图像来进行掩模保持部4和被曝光体F的位置调整。位置调整部7经掩模保持部4的支持框43来进行掩模保持部4保持的光掩模3和被曝光体F的位置调整。对准摄像机6用从位置调整用光源9照射、并透过对准开口部33、34、35及被曝光体F的光，来取得对准标记的图像。对准摄像机6的图像由图中省略的控制部进行图像处理，通过该控制部的输出使位置调整部7动作。对准摄像机6包括初始调整用摄像机6A，用于拍摄对准开口部33、34和对准标记；和跟踪用摄像机6B，用于拍摄对准开口部35内的线状标记和被曝光体F上所设的线状的对准标记。此外，可以在一对支承辊21、22间设间隙传感器8，用于检测被曝光体F和光掩模3的间隔并调整到适当的间隔。图3是本实用新型的实施方式中的掩模保持部的具体结构例的说明图(图3(a)是B-B剖面图，图3(b)是A-A剖面图)。图示的例子的掩模保持部4吸附并保持光掩模3，具有框体44，该框体44具有与光掩模3的外周缘对应的外缘。该掩模保持部4在第I掩模图形31和第2掩模图形32之间保持光掩模3。在框体44上设有开口 4a，用于使光透过到光掩模3的对准开口部33、34、35。在框体44的大致中央设有遮光板41，该遮光板41沿与被曝光体F的运送方向交叉的方向延设，设有支持框43，使其横跨遮光板41。遮光板41被设置成使得照射到第I掩模图形31上的光和照射到第2掩模图形32上的光不相互交错。再者，在框体44的底面上设有掩模吸附孔45，用该掩模吸附孔45中产生的负压将光掩模3吸附在框体44的底面上。具备这种结构的胶片曝光装置I的光掩模3沿被曝光体F的运送方向包括第I掩模图形31和第2掩模图形32，其胶片运送部2具有与第I掩模图形31和第2掩模图形32的位置对应而配置的一对支承辊21、22。用一对支承辊21、22支持曝光第I掩模图形31和第2掩模图形32的曝光面a的相反一侧的面。由此，如图2所示，通过在光掩模3的第I掩模图形31和第2掩模图形32之间设比较宽的间隔，能够将与这些位置对应而配备的一对支承辊21、22之间的空间取得比较大。由此，能够在一对支承辊21、22之间的空间中配置对准摄像机6 (6A、6B)和间隙传感器8等调整器材。一对支承辊21、22之间的空间位于与被曝光体F的曝光面a相反一侧，成为与掩模保持部4和光照射部5的配置不冲突的空间。此外，由于在光掩模3的第I掩模图形31和第2掩模图形32之间有比较广的空间，能够在该空间的任意的位置上配置对准开口部33、34、35，所以对准摄像机6(6A、6B)的位置也能够与之相应而任意设定。此外，由于对准摄像机6用从位置调整用光源9出射并透过对准开口部33、34、35及被曝光体F的光，来得到对准开口部33、34、35和被曝光体F的对准标记的图像，所以能够以足够的光量来取得图像，能够根据高对比度的图像来进行位置调整。由此，能够高精度地进行被曝光体F和光掩模3的位置调整。由于与光掩模3的第I掩模图形31和第2掩模图形32对应的被曝光体F的曝光面a分别由支承辊21、22的曲面从背面侧支持着，所以各个曝光面a由支承辊21、22的曲面拉伸，该曝光面a成为即使加热也难以产生褶皱的状态。由此，能够在没有褶皱的曝光面a上曝光第I掩模图形31和第2掩模图形32，能够形成尺寸精度高的掩模图形。此外，通过抑制曝光面a的褶皱，其间的被曝光体F的胶片面也难以产生褶皱，用对准摄像机6来拍摄被曝光体F上所设的对准标记时难以产生焦点偏差。由此，能够高精度地进行被曝光体F和光掩模3的位置调整。与光掩模3的第I掩模图形31和第2掩模图形32对应的被曝光体F的曝光面a并不被限定在支承辊21、22的曲面上，也可以形成在离支承辊21、22的曲面近的被曝光体F的平面部分上。离支承辊21、22的曲面近的被曝光体F的平面部分与支承辊21、22的曲面上同样是难以产生褶皱的部分，通过将该部分作为曝光面a，能够将曝光领域取得很广。通过这样拓广曝光领域，能够降低光源照度。[0045]以上参照附图详述了本实用新型的实施方式，但是具体结构并不限于这些实施方式，即使有不脱离本实用新型的要旨的范围内的设计的变更等，也包含在本实用新型中。此 夕卜，上述各实施方式的目的及结构等只要没有特别的矛盾和问题，就可以挪用并组合相互的技术。
权利要求1.一种胶片曝光装置，向胶片状的被曝光体上曝光掩模图形，其特征在于， 包括胶片运送部，沿一个方向运送上述被曝光体； 光掩模，被配置在接近上述被曝光体的曝光面上； 掩模保持部，将上述光掩模保持在上述被曝光体的曝光面上；以及 光照射部，向上述光掩模的掩模图形上照射光； 上述光掩模具有沿上述被曝光体的运送方向配置的第I掩模图形和第2掩模图形； 上述胶片运送部具有与上述第I掩模图形和上述第2掩模图形的位置对应而配置的一对支承辊，用上述一对支承辊来支持曝光上述第I掩模图形和上述第2掩模图形的曝光面的相反一侧的面。
2.如权利要求I所述的胶片曝光装置，其特征在于，在上述一对支承辊间的空间配置拍摄上述被曝光体上所设的对准标记的对准摄像机。
3.如权利要求2所述的胶片曝光装置，其特征在于，上述光掩模在上述第I掩模图形和上述第2掩模图形之间具有与上述对准标记对应的对准开口部。
4.如权利要求I 3中任一项所述的胶片曝光装置，其特征在于，上述掩模保持部在上述第I掩模图形和上述第2掩模图形之间保持上述光掩模。
专利摘要一种胶片曝光装置，向胶片状的被曝光体上曝光掩模图形，通过抑制曝光面上产生的褶皱，而在曝光面上形成高精度的图形。确保用于配置对准摄像机的空间。胶片曝光装置(1)包括胶片运送部(2)；光掩模(3)；掩模保持部(4)，将光掩模(3)保持在被曝光体F的曝光面a上；以及光照射部(5(5A、5B))，向光掩模(3)的掩模图形照射光。光掩模(3)具有沿被曝光体F的运送方向配置的第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)。胶片运送部(2)具有与第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)的位置对应而配置的一对支承辊(21、22)，用一对支承辊(21、22)支持曝光第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)的曝光面a的相反一侧的面。在一对支承辊(21、22)之间确保配置对准摄像机6的空间。
文档编号G03F7/20GK202794848SQ201220408290
公开日2013年3月13日 申请日期2012年8月17日 优先权日2011年8月24日
发明者金尾正康, 佐藤敬行, 冨塚吉博 申请人:株式会社V技术