偏振结构、其制造方法和包括该偏振结构的显示器件的制作方法

偏振结构、其制造方法和包括该偏振结构的显示器件的制作方法
【专利摘要】本发明公开了偏振结构、制造所述偏振结构的方法和包括所述偏振结构的显示器件。所述偏振结构可包括至少一个粘附层，设置在所述粘附层上方的相位延迟层，设置在所述相位延迟层上方的偏振层，和设置在所述偏振层外周部分上方、所述偏振层外周部分下或在所述相位延迟层的外周部分下的遮光部件。当显示器件包括具有所述遮光部件的所述偏振结构时，虽然所述显示器件具有最小化的边框或不具有任何边框，但是所述显示器件可在整个显示面积上显示具有改善的可见度和均匀性的图像。
【专利说明】偏振结构、其制造方法和包括该偏振结构的显示器件
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请根据35U.S.C.§ 119要求2012年6月20日提交的韩国专利申请号10-2012-0066168的优先权，其全部内容公开的通过引用合并于此。
【技术领域】
[0003]本公开涉及偏振结构、制造偏振结构的方法和包括偏振结构的显示器件。
【背景技术】
[0004]例如有机发光显示(OLED)器件或液晶显示(LCD)器件的显示器件通常可包括--覆盖显示面板的外周部分的前盖，其中所述显示面板显示图像。此外，可在显示面板的后侧设置后盖，以使前盖与后盖结合。可使显示器件的显示面板组件固定在前盖和后盖中的一个上以便将该显示面板组件固定在前后盖之间。前后盖可主要由金属或塑料制成。
[0005]轴套部分通常可设置到前盖或后盖上，以便随着显示器件的尺寸的增加在显示面板组件和盖子间提供足够的结合力。当用轴套部分将显示面板组件固定到前盖或后盖时，可增加覆盖显示面板的外周部分的边框的尺寸。即，显示图像的显示面板的一部分可被具有增加的尺寸的边框部分覆盖，这样会减小显示器件的有效显示面积。这个问题可对显示器件的尺寸的增加有不良影响，并且可造成显示器件重量的增加。此外，由于用于将显示面板与盖结合的轴套部分和相关部件，显示器件可具有相对复杂的构造，并且因此可增加用于制造该显示器件的成本。
[0006]同时，如韩国专利公开2009-0122138中所说明的，光可透入显示面板的外周部分，在所述外周部分中在将偏振层附着于显示面板的整个区域后没有放置反射部件。由于入射光的透射，图像可能在显示面板的外周部分形成毛刺，因此在显示面板的整个区域上会损害图像的均匀性和可见度。为改善图像的`均匀性，设置具有相对较大宽度的边框以覆盖没有设置例如金属布线、驱动电路和控制器的反射部件的显示面板的外周部分。但是，由于边框具有增加的尺寸，不能确保显示器件的大尺寸和轻重量。
[0007]近来，已经开发了有机发光显示器件作为具有最小的边框的大尺寸显示器件。但是，在显示面板的外周部分(例如固定的面板部分)部分存在或不存在金属布线和驱动电路，因此图像在显示面板的整个显示区域会不均匀，并且还会劣化显示面板的外周部分的图像可见度。此外，由于在显示面板上附着偏振层后在显示面板的外周部分的入射光透射，显示器件可具有差的外观。

【发明内容】

[0008]实施方式提供了包括遮光部件的偏振结构，以便在改善显示面板上的图像的可见度和均匀性的同时减小边框的尺寸或去除边框。
[0009]实施方式提供了制造包括遮光部件的偏振结构的方法，以便在改善显示面板上的图像的可见度和均匀性的同时减小边框的尺寸或去除边框。[0010]实施方式提供了通过包括遮光部件的偏振结构来改善图像的可见度和均匀性的显示器件，以减小边框的尺寸或去除边框。
[0011]一个方面提供了偏振结构，包括第一粘附层；设置在所述第一粘附层上方的相位延迟层；设置在所述相位延迟层上方的偏振层和设置在所述偏振层外周部分上方的遮光部件。
[0012]在实施方式中，所述遮光部件可具有大体上框的形状或大体上环的形状。所述遮光部件可包括金属、合金、金属化合物、黑色材料、绝缘树脂和阻光漆等。例如，所述遮光部件可包括碳化钴(CoCx)、氧化铁(FeOx)、铽(Tb)类化合物、类金刚石碳、钛黑、铬(Cr)、钥(Mo)、氧化铬(CrOx)、氧化钥(MoOx)、亚苯基黑(phenylene black)、苯胺黑、花青黑(cyanine black)、尼格洛辛酸性黑(nigrosine acid black)、黑色树脂、含聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)类树脂的油墨和含聚氨酯树脂的油墨等。
[0013]在实施方式中，可另外在所述偏振层上方设置保护层。这里，所述遮光部件可被设置在所述保护层的外周部分上方。在一些实施方式中，可另外在所述保护层和所述遮光部件上方设置低反射层。
[0014]在一些实施方式中，可在所述偏振层上方设置第二粘附层。这里，所述遮光部件可被设置在所述第二粘附层的外周部分上。此外，可在所述遮光部件和所述第二粘附层上方设置保护层，并且可在所述保护层上方设置低反射层。
[0015]在一些实施方式中，可在所述相位延迟层和所述偏振层上方设置第一保护层，并且可在所述遮光部件和所述第二粘附层上方设置第二保护层。此外，可在所述第二粘附层上方设置低反射层。
[0016]另一个方面提供了偏振结构，包括粘附层、设置在所述粘附层的外周部分上方的遮光部件、设置在所述遮光部件和所述粘附层上方的相位延迟层、设置在所述相位延迟层上方的偏振层、设置在所述偏振层上方的保护层和设置在所述保护层上方的低反射层。
[0017]再一个方面提供了偏振结构，包括第一粘附层、设置在所述第一粘附层上方的相位延迟层、设置在所述相位延迟层上方的第二粘附层、设置在所述第二粘附层的外周部分上方的遮光部件、设置在所述遮光部件和所述第二粘附层上方的偏振层、设置在所述偏振层上方的保护层和设置在所述保护层上方的低反射层。
[0018]再一个方面提供了制造偏振结构的方法。在所述方法中，在提供基膜后，可在所述基膜上方形成第一粘附层。可在所述第一粘附层上方形成相位延迟层。可在所述相位延迟层上方形成偏振层。在所述偏振层的外周部分上方可形成遮光部件。可在所述遮光部件和所述偏振层上方形成低反射层。
[0019]根据实施方式形成所述遮光部件时，可在所述偏振层上方形成遮光层。在所述遮光层上方形成掩膜后，可用所述掩膜图案化所述遮光层。
[0020]根据实施方式形成所述遮光部件时，可在所述偏振层的外周部分上方形成初级遮光部件。可热处理所述初级遮光部件。
[0021]在实施方式中，可用包括黑色染料的粘合剂形成所述遮光部件。
[0022]在实施方式中，可在所述偏振层上方另外形成保护层。这里，所述遮光部件可被设置在所述保护层的外周部分上。
[0023]在一些实施方式中，可在所述偏振层上方另外形成第二粘附层。这里，所述遮光部件可被设置在所述第二粘附层的外周部分上方。可在所述遮光部件和所述第二粘附层上方另外形成保护层。
[0024]在一些实施方式中，可在所述相位延迟层和所述偏振层之间另外形成第一保护层。可在所述遮光部件和所述第二粘附层之间另外形成第二保护层。
[0025]再一个方面提供了制造偏振结构的方法。在所述方法中，可提供基膜。可在所述基膜上方形成粘附层。可在所述粘附层的外周部分上方形成遮光部件。可在所述遮光部件和所述粘附层上方形成相位延迟层。可在所述相位延迟层上方形成偏振层。可在所述偏振层上方形成保护层。可在所述保护层上方形成低反射层。
[0026]一个方面提供了制造偏振结构的方法。在所述方法中，在提供基膜后，可在所述基膜上方形成第一粘附层。可在所述第一粘附层上方形成相位延迟层。可在所述相位延迟层上方形成第二粘附层。可在所述第二粘附层的外周部分上方形成遮光部件。可在所述遮光部件和所述第二粘附层上方形成偏振层。可在所述偏振层上方形成保护层。可在所述保护层上方形成低反射层。
[0027]—个方面提供了包括偏振结构显示器件。所述显示器件可包括具有开关器件的第一基板、电连接至所述开关器件的第一电极、设置在所述第一电极上方并具有暴露出所述第一电极的开口的像素限定层、设置在所述暴露的第一电极上方的发光结构、设置在所述发光结构上方的第二电极、设置在所述第二电极上方的第二基板和设置在所述第二基板上方的偏振结构。所述偏振结构可包括设置在外周部分上方的遮光部件。
[0028]根据实施方式，所述偏振结构可包括设置在所述偏振层的外周部分的上方或下面、或所述相位延迟层的外周部分的下面的遮光部件。所述遮光部件可防止在所述显示面板的外周部分上入射光的透射，以便改善所述显示面板的外观，并且也可在所述显示器件的整个显示区域上改善图像均匀性和可见度。
【专利附图】

【附图说明】
[0029]通过以下说明结合附图，可更详细地理解实施方式，其中:
[0030]图1至图3为说明制造根据实施方式的偏振结构的方法的截面视图。
[0031]图4至图6为说明制造根据一些实施方式的偏振结构的方法的截面视图。
[0032]图7和图8为说明制造根据实施方式的偏振结构的方法的截面视图。
[0033]图9和图10为说明制造根据实施方式的偏振结构的方法的截面视图。
[0034]图11和图12为说明制造根据实施方式的偏振结构的方法的截面视图。
[0035]图13为说明具有根据实施方式的偏振结构的显示器件的截面视图。
【具体实施方式】
[0036]下文将参照附图，更全面地说明实施方式。然而，本发明可以多种不同形式实施，并且不应解释为被这里说明的实施方式所限制。附图中，为了清楚，可扩大层和区域的尺寸和相对尺寸。
[0037]应理解，当称元件或层“在”另一元件或层“上面”、“连接至”或“耦合至”另一元件或层时，它可直接在另一元件或层上面，或连接或耦合至另一元件或层，或可存在中间的元件或层。相反，当称一个元件“直接”在另一元件或层“上面”、“直接连接至”或“直接耦合至”另一元件或层时，则不存在中间的元件或层。相似或类似的附图标记始终表示相似或类似的元件。如这里所用，术语“和/或”包括一种或更多种相关所列项目的任意和全部组
口 O
[0038]应理解，虽然这里可使用术语第一、第二、第三等描述各元件、组件、区域、层、图案和/或部分等，但是这些元件、组件、区域、层、图案和/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用于区别一种元件、组件、区域、层、图案或部分与另一种区域、层、图案或部分。因此，以下讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被称为第二元件、组件、区域、层或部分而不背离实施方式的教导。
[0039]这里可使用空间相关术语，例如“以下”、“下面”、“下方” “上面”、“上方”等，为了便于说明如在图中说明的一种元件或特征与另一种元件或特征的关系。将理解，除了图中说明的取向外，空间相关术语旨在涵盖用途或操作中的器件的不同取向。例如，如果翻转图中的器件，那么被描述为在其它元件或特征的“下面”、“下方”的元件则取向在其它元件或特征的“上面”。因此，示例性术语“下面”可涵盖上面和下面的这两个方向。器件可另外取向(旋转90度或在其它方向)，并且相应地对这里使用的空间相对描述符做出解释。
[0040]这里所用的术语仅用于描述特定实施方式的目的，并且不旨在限制本发明。如这里所用，除非上下文另外清楚地说明，否则单数形式“一个(a)”、“一个(an)”和“所述(the)”旨在也包括复数形式。进一步理解当在说明书中使用“包含(comprise)”和/或“包含(comprising)”时,详细说明了所述的特征、整件、步骤、操作、元件和/或组件的存在，但是不排除存在或增加一种或更多种其它特征、整件、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
[0041]本文参照截面图解描述了实施例，所述截面图解为本发明理想化的说明性实施例(和中间结构)的示例性图解。因此,作为例如生产技术和/或耐受性(tolerance)的结果，可以预期图解的形状变化。因此，实施例不应解释为受到本文所说明的区域的具体形状限制，而要包括由例如生产导致的形状偏差。图中说明的区域实际上是示意性的，其形状并非旨在说明器件区域的实际形状也非旨在限制本发明构思的范围。
[0042]除非另外定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。应该进一步理解，除非本文中明确定义，诸如那些在通常所用的词典中定义的术语应该解释为具有与相关领域的语境中的含义一致的含义，而不应按理想化的或过于正规的意义解释。
[0043]图1至图3为说明根据实施方式制造偏振结构的方法的截面视图。
[0044]参照图1，可在基膜10上形成粘附层15。基膜10可保护其上形成的粘附层15。由于基膜10的特性，粘附层15可容易地从基膜10脱离。例如，基膜10可包括用硅树脂、氟塑料等涂布的离型纸(即防粘纸)。当偏振结构附着于例如液晶显示(LCD)器件、有机发光显示(OLED)器件、电泳显示器件等的显示器件的显示面板上时，可从粘附层15去除基膜
10。因此，可直接将偏振结构附着于显示器件的显示面板上。例如，基膜可具有约5μπι至约20 μ m范围内的厚度。
[0045]粘附层15可使偏振结构与显示器件的显示面板结合。例如，粘附层15可包括橡胶类粘合剂、丙烯醛类粘合剂、乙烯基醚类粘合剂、硅类粘合剂、聚氨酯类粘合剂等。从基膜10的上表面测量，粘附层15可具有约5 μ m至约20 μ m的厚度。当粘附层15包括例如丙烯醛类聚合物粘合剂或乙烯基醚类聚合物粘合剂的压敏粘合剂时，当在偏振结构和/或显示面板上施加压力时，由于粘附层15的存在，可增强偏振结构和显示面板之间的粘合强度。
[0046]可在粘附层15上形成相位延迟层20。相位延迟层20可包括含聚合物的双折射膜、液晶取向膜、形成在预定基材上的液晶聚合物的取向层等。双折射膜中的聚合物的实例可包括聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯、聚烯烃、聚芳酯、聚酰胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素等。相位延迟层20可包括单轴膜或双轴膜。
[0047]在实施方式中，可直接在粘附层15上形成相位延迟层20，以使相位延迟层20的厚度可减小。例如，基于粘附层15的上表面，相位延迟层20可具有约5 μ m至约50 μ m的厚度。相位延迟层20可包括λ/4延迟膜或波片。λ/4延迟膜可引起相对于入射光的两个正交的偏振分量λ/4的相位延迟，这样λ/4延迟膜可使线性偏振分量转变成圆偏振分量或可使圆偏振分量转变成线性偏振分量。例如，相位延迟层20可使来自显示器件的显示面板的圆偏振光转变成线偏振光，或可使线偏振光转变成圆偏振光。在一些实施方式中，根据具有偏振结构的显示器件的构造相位延迟层20可包括λ /4延迟膜和λ /2延迟膜。
[0048]参照图2，可在相位延迟层20上形成偏振层或偏振层25。偏振层25可使入射光的偏振分量沿预定的偏振方向透过。例如，偏振层25可包括碘类材料、含染料的材料、多烯类材料等。此外，从相位延迟层20的上表面测量，偏振层25可具有约10 μ m至约50 μ m的相对大的厚度。
[0049]在实施方式中，偏振层25可具有吸收轴和偏振轴。偏振层25的吸收轴可大体对应于二色性染料或碘离子链的拉制取向轴。这里，沿吸收轴振荡的入射光偏振分量通过与在偏振层25中包括的电子的相互作用而消失。同时，偏振轴可大体地垂直于吸收轴，因而沿偏振轴振荡的入射光的偏振分量可透过偏振层25。
[0050]可在偏振层25的上形成保护层30。保护层30可保护偏振层25，并且还可作为其上形成的遮光部件35的基膜(参照图3)。保护层30包括光学各向同性膜，这样保护层30对入射光的偏振特性不会具有任何实质的影响。例如，保护层30可包括三乙酰纤维素(TAC)、环烯聚合物、环烯共聚物、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚甲基丙烯酸甲酯等。
[0051]在实施方式中，基于偏振层25的上表面,保护层30可具有小于20 μ m的相对小的厚度。在一些实施方式中，根据显示器件的构造，保护层30可具有约20 μ m至约50 μ m的相对大的厚度。
[0052]参照图3，可在保护层30上形成遮光部件35。在实施方式中，遮光部件35可具有大体上多边形框的形状或大体上多边形环的形状。例如，从保护层30的上表面测量，遮光部件35可具有约3 μ m至约10 μ m的相对小的厚度。
[0053]遮光部件35可设置在保护层30的外周部分上方或保护层30的边缘上方(即偏振结构的外周部分或边缘)。因此，当偏振结构与显示面板结合时，遮光部件35可基本覆盖大体相应于偏振结构的边缘或外周部分的显示面板的边缘或外周部分(例如显示面板的边缘部分)。例如，遮光部件35可具有大体多边的环的形状，例如大体上的矩形环状以与显示面板的形状一致。然而，遮光部件35的形状可根据显示面板的形状和/或偏振结构的形状而变化。在这种情况下，遮光部件35可具有根据显示面板的尺寸、位于显示面板的外周部分的布线的尺寸而变化的宽度。即，遮光部件35的宽度可根据显示器件的构造而增加或减小。
[0054]在实施方式中，遮光部件35可阻止由外部入射到显示面板的外周部分的光的透射。因此，遮光部件35可减小边框的宽度以改善显示在显示面板上的图像的整体可见度。此外，由于遮光部件35，当显示器件不包括边框时，在显示面板的整个显示区域可均匀显示图像。因此，可改善在显示器外周部分的图像的均匀性和可见度。
[0055]在实施方式中，可使用金属化合物、黑色材料、具有相对低的反射性的金属、合金、绝缘树脂、阻光漆等形成遮光部件35。例如，遮光部件35可包括碳化钴(CoCx)、氧化铁(FeOx)、铽(Tb)类化合物、碳(C)、类金刚石碳、钛黑、铬(Cr)、钥(Mo)、氧化铬(CrOx)、氧化钥(MoOx)、亚苯基黑、苯胺黑、花青黑、尼格洛辛酸性黑、黑色树脂、含聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂的油墨、含聚氨酯树脂的油墨等。它们可单独使用或以其组合使用。此外，可通过印刷方法、旋涂方法、喷涂方法、化学气相沉积方法等在保护层30上形成遮光部件35。
[0056]根据实施方式形成遮光部件35时，可在保护层30上形成遮光层(未绘出)，然后可在遮光层上形成掩膜(未绘出)。这里，掩膜可包括光致抗蚀剂图案或另一种含硅化合物的蚀刻掩膜。使用掩膜作为蚀刻掩膜，可使遮光层图案化，以在保护层30上形成遮光部件35。在这个情况下，遮光部件35可具有根据显示面板形状的预定形状。
[0057]根据一些实施方式形成遮光部件35时，可在保护层30的外周部分上形成初级遮光部件(未绘出)，然后可热处理初级遮光部件以在保护层30上方提供遮光部件35。在这种情况下，根据显示面板的形状，遮光部件35可具有各种形状，例如，大体多边的环形、大体圆形的环形、大体椭圆形的环形等。
[0058]根据实施方式形成遮光部件35时，可用包含黑色染料的粘合剂在保护层30上形成遮光部件35。例如，具有预定形状的遮光部件35可通过在其间插入粘合剂而附着到保护层30的外周部分。在这种情况下，遮光部件35可阻止在显示面板的外周部分的光的透射，以及遮光部件35可将保护层30附着到之后形成的低反射层40上。用于遮光部件35的粘合剂可包括粘合剂树脂，例如丙烯醛类树脂、聚氨酯类树脂、聚异丁烯类树脂、苯乙烯-丁二烯橡胶类树脂、橡胶类树脂、聚乙烯醚类树脂、环氧类树脂、三聚氰胺类树脂、聚酯类树月旨、苯酚类树脂、硅类树脂等。它们可单独使用或以其组合使用。此外，黑色染料的实例可包括碳黑、氧化铬、氧化钥、氧化铁、钛黑、亚苯基黑、苯胺黑、花青黑、尼格洛辛酸性黑、黑色树脂等。它们可单独使用或以其组合使用.[0059]现在参照图3，可在保护层30上形成低反射层40以覆盖遮光部件35。可用氮化娃(SiNx)、氧化娃(SiOx)、金属化合物等形成低反射层40。例如,基于保护层30的上表面，低反射层40可具有约0.1 μ m至约5.0 μ m的相对小的厚度。
[0060]在实施方式中，低反射层40可具有含微凹和微凸结构的表面，以减小入射光的反射性。在一些实施方式中，低反射层40可另外地包括硬涂膜、防粘膜、抗眩光膜等。
[0061]当低反射层40包括硬涂膜时，使用例如硅类树脂的紫外可固化聚合物的低反射层40可具有良好的硬度和滑动特性，这样低反射层40可使对偏振结构的表面的损伤和划伤最小化。在低反射层40包括防粘层的情况下，由于防止了低反射层40和保护片45的紧密粘合，保护片45可易于从低反射层40分离。当低反射层40的包括抗眩光膜时，通过例如喷砂方法或压花方法，或透明的细颗粒混合方法等粗化方法等，可使低反射层40具有包括微凹和微凸结构的表面。因此，低反射层40可防止外部光的反射，从而改善显示面板上图像的可见度。透明的细颗粒的实例可包括氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化铟(InOx)、氧化镉(CdOx)、导电无机颗粒、含透明聚合物颗粒的有机颗粒等。
[0062]如图3中说明，可在低反射层40上形成保护片45。偏振结构包括基膜10、粘附层
15、相位延迟层20、偏振层25、保护层30、遮光部件35、低反射层40和保护片45。从低反射层40的上表面测量，保护片45可具有约5 μ m至约20 μ m的相对大的厚度。例如，保护片45可包括聚酯类树脂、聚烯烃类树脂、聚丙烯类树脂等。保护片45可保护低反射层40和遮光部件35。在偏振结构与显示面板结合后，可从低反射层40去除保护片45。S卩，在偏振结构与显示面板结合后，基膜10和保护片45可从偏振结构去除。
[0063]显示器件中，即使偏振层附着于显示面板上，入射光也可透入显示面板的外周部分。因此，图像在显示面板的外周部分可形成毛刺，同时显示器件的外观也不会良好。尤其是，这些问题对于目前具有大的尺寸的有机发光显示器件是严重的，具有大的尺寸的有机发光显示器件需要优美的外观并可通过减小边框的尺寸或去除边框扩大显示面积。根据实施方式的偏振结构可包括设置在偏振层25上方的遮光部件35，并且遮光部件35可阻止在显示面板的外周部分的入射光的透射。因此，包括所述偏振结构的显示器件可确保改善的外观，同时在显示器件的整个显示区域，图像可具有增强的均匀性和可见度。
[0064]图4至图6为说明根据一些实施方式制造偏振结构的方法的截面视图。图4至图6中，关于元件和形成元件的方法的详细说明与参照图1至图3说明的元件和方法大体相同，为了简略，将省略。
[0065]参照图4，可在基膜50上形成第一粘附层55。基膜50可包括涂覆硅树脂、氟塑料等的离型纸。当偏振结构附着于显示器件的显示面板时，可从第一粘附层55上去除基膜50，然后偏振结构的第一粘附层55可附着到显示面板的上表面上。例如，第一粘附层55可包括橡胶类粘合剂、丙烯醛类粘合剂、乙烯基醚类粘合剂、硅类粘合剂、聚氨酯类粘合剂等。第一粘附层15可具有相对小的厚度。
[0066]可在第一粘附层55上形成相位延迟层60。相位延迟层60可具有比基膜50和/或第一粘附层55相对较大的厚度。例如，相位延迟层60与基膜50或与第一粘附层55的厚度比可在约1.0:0.1至约1.0:1.0的范围内。相位延迟层60可包括含聚合物的双折射膜、液晶取向膜、形成在预定基材上的液晶聚合物的取向层等。在实施方式中，相位延迟层60可包括λ /4延迟膜和/或λ /2延迟膜，并且可将从显示面板入射的圆偏振光转变成线偏振光，或可将线偏振光转变成圆偏振光。
[0067]在一些实施方式中，当相位延迟层60直接涂覆在第一粘附层55上方时，相位延迟层60可具有相对小的厚度。例如，相位延迟层60可具有与第一粘附层55大体相同或大体相似的厚度，或者相位延迟层60的厚度可大体小于第一粘附层55。
[0068]现参照图4，可在相位延迟层60上形成偏振层65。偏振层65可包括碘类材料、含染料的材料、多烯类材料等。偏振层65可使入射光的预定的偏振分量透过，并且相对于相位延迟层60的上表面可具有相对大的厚度。例如，偏振层65与基膜50或与第一粘附层55的厚度的比可在约1.0:0.1至约2.5:1.0的范围内。
[0069]参照图5，可在偏振层65上形成第二粘附层70。这里，第二粘附层70可包括与参照图1中所示的粘附层15中所包括的材料大体相同或大体相似的材料。例如，第二粘附层70可包括与第一粘附层55大体相同或大体相似的材料。或者，可分别使用与粘附层15中包括的材料不同的材料形成第一粘附层55和第二粘附层70。
[0070]可在第二粘附层70的外周部分(即，第二粘附层70的边缘或边的部分)上形成遮光部件75。在实施方式中，遮光部件75可设置在第二粘附层70上方，以增强遮光部件75与第二粘附层70的粘合强度和第二粘附层70与保护层80的粘合强度(参照图6)。因此，遮光部件75可稳定地位于在第二粘附层70的所需位置上。
[0071]第二粘附层70的外周部分(即偏振结构的外周部分)上方的遮光部件75可具有大体多边的框的形状、大体多边的环的形状等。遮光部件75可具有大体上根据显示面板的尺寸和/或位于显示面板的外周部分的布线或线路的尺寸而变化的尺寸。遮光部件75可包括与参照图3中所示的遮光部件35大体相同或大体相似的材料。此外，可通过与参照图3中所示的大体相同或大体相似的方法获得遮光部件75。通过遮光部件75，可阻挡在显示面板的外周部分的光的透射，并且增强显示器件的外观。此外，可在显示面板的整个显示区域改善图像的可见度和均匀性。
[0072]在实施方式中，遮光部件75可部分或全部嵌入第二粘附层70的外周部分中。例如，可在遮光部件75和第二粘附层70上形成保护层80 (参照图6)，然后可压制保护层80使遮光部件75部分或全部嵌入第二粘附层70的外周部分中。在这种情况下，由于保护层80可附着于第二粘附层70，遮光部件75可具有改善的位置稳定性。
[0073]参照图6，可在遮光部件75和第二粘附层70上形成保护层80和低反射层85。保护层80和低反射层85可包括分别与参照图3中所示的保护层30和低反射层40的大体相同或大体相似的材料。
[0074]可将保护片90附着到低反射层85上，从而制造包括基膜50、第一粘附层55、相位延迟层60、偏振层65、第二粘附层70、遮光部件75、保护层80、低反射层85和保护片90的偏振结构。保护片90可具有相对小的厚度。偏振结构与显示面板结合后，可从低反射层85去除保护片90。
[0075]图7和图8为说明根据一些实施方式制造偏振结构的方法的截面视图。图7和图8中，关于元件和形成元件的方法的详细说明与参照图1和图3中所示的元件和方法大体相同，为了简略，将省略。
[0076]参照图7，可在基膜100上形成第一粘附层105。可在第一粘附层105上形成相位延迟层110。相位延迟层110根据显示器件的类型可包括λ /4延迟膜和/或λ /2延迟膜。
[0077]可在相位延迟层110上形成第二粘附层115，并且可在第二粘附层115的外周部分上(例如第二粘附层115的边缘或边部分)形成遮光部件120。在遮光部件120位于第二粘附层115上的情况下，因为偏振层125 (参照图8)可通过在它们间插入的遮光部件120而与第二粘附层115结合，所以遮光部件120可具有增强的位置稳定性。换句话说，遮光部件120可正好放置在偏振结构的所需位置上。例如，遮光部件120可在第二粘附层115的外周部分上(例如偏振结构的外周部分)具有大体多边的环的形状或大体多边的框的形状。包括在遮光部件120中的材料可与参照图3中所示的遮光部件35中的材料大体相同或大体相似。当显示器件包括具有遮光部件120的偏振结构时，显示器件可具有优美的外观，并通过在它的外周部分阻碍光的透射而在显示面板的整个显示区域上显示均匀的图像。
[0078]在实施方式中，遮光部件120可部分或全部嵌入第二粘附层115的外周部分中。可通过与参照图5中所示的方法大体相同或大体相似的方法获得这样的遮光部件120。[0079]参照图8，可在第二粘附层115和遮光部件120上形成偏振层125。偏振层125可使入射光的预定偏振分量透过，并基于第二粘附层115的上表面可具有相对大的厚度。
[0080]可在偏振层125的上形成保护层130和低反射层135。保护层130和低反射层135可分别用与参照图3中所示的与用于保护层30和低反射层135的材料大体相同或大体相似的材料形成。
[0081]可在低反射层135上形成保护片140，并且因此可获得偏振结构。保护片140可具有相对小的厚度。在偏振结构与显示面板结合之前或之后，可从偏振结构中去除保护片140。
[0082]图9至图10为说明根据一些实施方式制造偏振结构的方法的截面视图。图9和图10中，关于元件和形成元件的方法的详细说明与参照图1至图3说明的元件和方法大体相同，为了简略，将省略。
[0083]参照图9，可在基膜150上形成粘附层155。例如，基膜150可包括含树脂的防粘纸，并且粘附层155可包括压敏粘合剂。
[0084]可在粘附层155的外周部分上形成遮光部件160。在这种情况下，遮光部件160可全部或部分嵌入粘附层155中。例如，遮光部件160和粘附层155的上表面可放置在相同的平面上。可用金属化合物、绝缘树脂、黑色材料、具有相对低的折射率的金属、合金、阻光漆等形成遮光部件160。可通过与参照图3或图5中所示的方法大体相同或大体相似的方法获得遮光部件160。
[0085]可在遮光部件160和粘附层155上形成相位延迟层165。相位延迟层165可直接设置在其上有遮光部件160的粘附层155上，这样可减小相位延迟层165的厚度。可通过与参照图2中所示的方法大体相同或大体相似的方法获得相位延迟层165。
[0086]参照图10,可在相位延迟层165上形成偏振层170和保护层175。入射光的具体偏振分量可通过偏振层170，并且保护层175可保护包括遮光部件160的下方结构。
[0087]可在保护层175上形成低反射层180和保护片185，从而制造偏振结构。可使用硅化合物和/或金属化合物形成低反射层180。在将偏振结构附着到显示面板之后或之前，可从低反射层180上去除保护片185。
[0088]图11和图12为说明根据一些实施方式制造偏振结构的方法的截面视图。图11和图12中，关于元件和形成元件的方法的详细说明与参照图1至图3中所示的元件和方法大体相同，为了简略，将省略。
[0089]参照图11，可在基膜200上形成第一粘附层205和相位延迟层210。例如，第一粘附层205可包括压敏粘合剂，并且相位延迟层210可包括含聚合物的双折射膜、液晶取向膜、形成在预定基材上的液晶聚合物的取向层等。在实施方式中，相位延迟层210可包括λ /4延迟膜和/或λ /2延迟膜。
[0090]可在相位延迟层210上形成第一保护层215和偏振层220。第一保护层215可包括醋酸酯类树脂，但不限于此。在实施方式中，第一保护层215可包括使用碱而具有皂化表面的三乙酰纤维素，以改善第一保护层215的耐久性。偏振层220可包括碘类材料、含染料的材料、多烯类材料等。
[0091]参照图12，可在偏振器220上形成第二粘附层225，并且可在第二粘附层225的外周部分上形成遮光部件230。遮光部件230可全部或部分嵌入第二粘附层225的外周部分中，以使遮光部件230被精确设置在偏振结构的所需位置上(即显示器件的所需位置)。当在显示器件中使用具有遮光部件230的偏振结构时，即使显示器件在它的显示面板上不具有任何边框，显示器件仍可确保具有改善的均匀性和可见度的图像。
[0092]可在遮光部件230和第二粘附层230上形成第二保护层235。第二保护层235可包括与第一保护层215大体相同或相似的材料。或者，第一保护层215和第二保护层235可分别包括不同的材料。
[0093]可在第二保护层235上形成低反射层240和保护片245。可使用硅化合物或金属化合物形成低反射层240。可使用透明树脂或半透明树脂形成保护片245。形成低反射层40和保护片245,并且可完成偏振结构的制造。
[0094]图13为说明包括根据实施方式的偏振结构的显示器件的截面视图。图13中所示的显示器件可包括具有与图3、图6、图8、图10或图12中所示的偏振结构大体相同或大体相似的构造的偏振结构370。此外，图13中将有机发光显示器件作为显示器件说明，然而，偏振结构370可用于其它显示器件中，例如液晶显示器件、电泳显示器件等。
[0095]参照图13,显不器件可包括第一基板300、开关器件、第一电极345、发光结构365、第二电极360、第二基板365、偏振器377等。
[0096]可在第一基板300上设置缓冲层305。第一基板300可包括玻璃基板、石英基板、透明树脂基板等。透明树脂基板的实例可包括聚酰亚胺类树脂、丙烯醛类树脂、聚丙烯酸酯类树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂、聚碳酸酯类树脂、磺酸类树脂、聚醚类树脂等。
[0097]缓冲层305可防止金属原子、金属离子和/或杂质从第一基板300扩散。此外，缓冲层305可控制在之后结晶方法中的热转移率，其中所述结晶方法用于形成大体均匀的活性图案(active pattern) 310。此外，当第一基板300具有不规则表面时,缓冲层305可改善第一基板300的平坦性。可用硅化合物形成缓冲层305。例如，缓冲层305可包括氧化硅(SiOx)、氮化娃(SiNx)、氮氧化娃(SiOxNy)、碳氧化娃(SiOxCy)、娃碳氮化物(SiCxNy)等。它们可单独使用或组合使用。可通过旋涂方法、化学气相沉积(CVD)方法、等离子增强化学气相沉积(PECVD)方法、高密度等离子-化学气相沉积(HDP-CVD)方法、印刷方法等获得缓冲层305。缓冲层305可具有单层结构或包括至少一层硅化合物膜的多层结构。例如，缓冲层305可包括氧化硅膜、氮化硅膜、氮氧化硅膜、碳氧化硅膜和/或硅碳氮化物膜。
[0098]可在缓冲层305上设置活性图案310。在实施方式中，可在缓冲层305上形成半导体层(未绘出)，然后可使半导体层图案化以在缓冲层305上形成初级活性图案(未绘出)。可在初级活性图案上进行结晶方法以在缓冲层305上提供活性图案310。可使用化学气相沉积方法、等离子增强化学气相沉积方法、溅射方法、低压化学气相沉积(LPCVD)方法、印刷方法等获得半导体层。当半导体层包括无定型硅时，活性图案310可包括多晶硅。此外，用于形成活性图案310的结晶方法可包括激光辐射方法、热处理方法、使用催化剂的热处理方法等。
[0099]可在缓冲层305上设置栅绝缘层315以覆盖活性图案310。可通过化学气相沉积方法、旋涂方法、等离子增强化学气相沉积方法、溅射方法、真空蒸发方法、高密度等离子-化学气相沉积方法、印刷方法等形成栅绝缘层315。栅绝缘层315可包括氧化硅、金属化合物等。例如，可使用例如氧化铪(HfOx)、氧化招(AlOx)、氧化错(ZrOx)、氧化钛(TiOx)、氧化钽(TaOx)等的金属化合物形成栅绝缘层315。它们可单独使用或组合使用。[0100]现在参照图13，可在栅绝缘层315上设置栅极320。栅极320可位于在栅绝缘层315的一部分上，在该部分以下有活性图案310。在实施方式中，可在栅绝缘层315上形成第一导电层(未绘出)，然后可通过光刻方法或使用额外的蚀刻掩膜的蚀刻方法使第一导电层上图案化。因此，可在栅绝缘层315上形成栅极320。可通过印刷方法、化学气相沉积方法、脉冲激光沉积(PLD)方法、真空蒸发方法、原子层沉积(ALD)方法等形成第一导电层。栅极320可包括金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。例如，可用铝(Al)、含铝的合金、氮化铝(AlNx)、银(Ag)、含银的合金、钨(W)、氮化钨(WNx)、铜(Cu)、含铜的合金、镍(Ni)、铬(Cr)、氮化铬(CrNx)、钥(Mo)、含钥的合金、钛(Ti)、氮化钛(TiNx)、钼(Pt)、钽(Ta)、氮化钽(TaNx)、钕(Nd)、钪(Sc)、氧化锶钌(SRO)、氧化锌(ZnOx)、氧化铟锡(ITO)、氧化锡(SnOx)、氧化铟(InOx)、氧化镓(GaOx)、氧化铟锌(IZO)等形成栅极320。它们可单独使用或组合使用。此外，栅极320可具有单层结构或多层结构，所述多层结构可包括金属层、合金层、金属氮化物层、导电金属氧化物层和/或透明导电材料层。
[0101]虽然图13中未说明，当在栅绝缘层315上形成栅极320的同时，可在栅绝缘层315上形成栅极线。栅极320可与栅极线接触，并且栅极线可沿第一方向在栅绝缘层315上延伸。
[0102]使用栅极320作为离子注入掩膜，可将杂质掺杂入部分活性图案310中，这样可在活性图案310的侧面部分形成源区域和栅区域。这里，杂质可不注入栅极320所处的活性图案310的中心部分，这样活性图案310的中心部分可被定义为源区域和栅区域的通道区域。
[0103]可在栅绝缘层315上设置覆盖栅极320的绝缘隔层325。可沿栅极320的侧面大体均匀地形成绝缘隔层325。绝缘隔层325可包括硅化合物。例如，可用氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、硅碳氮化物等形成绝缘隔层325。它们可单独使用或组合使用。此外，可通过旋涂方法、化学气相沉积方法、等离子增强化学气相沉积方法、高密度等离子-化学气相沉积方法等形成绝缘隔层325。绝缘隔层325可使栅极320与之后形成的源极330和漏极335电绝缘。
[0104]如图13中所示，源极330和漏极335可经过绝缘隔层325。源极330和漏极335可与栅极320相邻，并可在栅极320的中央被分开。源极330和漏极335可经过绝缘隔层325分别与源区域和漏区域接触。
[0105]在实施方式中，绝缘隔层325可被部分蚀刻以形成暴露部分源极和漏极的孔。可在绝缘隔层325上形成第二导电层(未说明)以填充孔之后，可使第二导电层图案化以形成图13中所示的源极330和漏极335。这里，可通过溅射方法、化学气相沉积方法、脉冲激光沉积方法、真空蒸发方法、原子层沉积方法、印刷方法等获得第二导电层。源极330和漏极335的都可包括金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。例如，可用招、含招的合金、银、含银的合金、鹤、氮化鹤、铜、含铜的合金、镍、铬、氮化铬、钥、含钥的合金、钛、氮化钛，钼，钽，氮化钽、钕、钪、氧化银钌、氧化锌、氧化铟锡、氧化锡、氧化铟、氧化镓、氧化铟锌、氧化铟镓等形成源极330和漏极335。它们可单独使用或组合使用。
[0106]虽然在图13中未说明，在绝缘隔层325上形成源极330和漏极335的同时，可在绝缘隔层325上形成数据线。数据线可沿与第一方向大体垂直的第二方向延伸。数据线可连接至源极330。[0107]当在绝缘隔层325上形成源极330和漏极335时，可在第一基板300上提供开关器件。在这种情况下，开关器件可为包括活性图案310、栅绝缘层315、栅极320、源极330和漏极335的薄膜晶体管(TFT)。
[0108]可在绝缘隔层325上设置绝缘层340以覆盖源极330和漏极335。绝缘层340可具有相对大的厚度，以便充分覆盖源极330和漏极335。绝缘层340可包括有机材料或无机材料。例如，可用光致抗蚀剂、丙烯醛类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、硅氧烷类树月旨、含光敏丙烯醛羧基的树脂、酚醛清漆树脂、碱溶性树脂、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、硅碳氮化物等形成绝缘层340。它们可单独使用或组合使用。根据绝缘层340中的成分，可通过旋涂方法、溅射方法、化学气相沉积方法、原子层沉积方法、等离子增强化学气相沉积方法、高密度等离子-化学气相沉积方法、真空蒸发方法等获得绝缘层340。
[0109]通过使用额外的蚀刻掩膜的光刻方法或蚀刻方法，可经过通过绝缘层340形成接触孔以暴露部分漏极335。可在绝缘层340上设置第一电极345以填充接触孔。因此，漏极345可接触漏极335。在一些实施方式中，可在漏极335上提供接头、塞子或垫子以填充接触孔。这里，第一电极345可通过接头、塞子或垫子以电连接至漏极335。
[0110]第一电极345可包括具有反射性的金属、具有反射性的合金等。例如，可用铝、银、钼、金(Au)、铬、钨、钥、钛、钯(Pd)、铱(Ir)、它们的合金等形成第一电极345。它们可单独使用或组合使用。此外，可通过印刷方法、溅射方法、化学气相沉积方法、原子层沉积方法、脉冲激光沉积方法等形成第一电极345。
[0111]可在第一电极345和绝缘层340上设置像素限定层350。像素350可包括有机材料或无机材料。例如，可用光致抗蚀剂、聚丙烯醛类树脂、聚酰亚胺类树脂、丙烯醛类树脂、硅化合物等形成像素限定层350。此外，可通过旋涂方法、喷涂方法、印刷方法、化学气相沉积方法等在第一电极345上形成像素限定层350。
[0112]像素限定层350可被部分蚀刻以形成暴露一部分第一电极345的开口。像素限定层350的开口可定义显示器件的发光区和非发光区。即，具有像素限定层350的开口的区域可为显示器件的发光区。
[0113]可在暴露的第一电极345和一部分像素限定层350上设置发光结构355。发光结构355可具有包括有机发光层(EL)、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)、电子注入层(ETL)等的多层结构。发光结构355的有机发光层根据显示器件的像素可包括产生红色光的材料、产生绿色光的材料或产生蓝色光的材料。在一些实施方式中，有机发光层可具有包括发红色光、发绿色光和发蓝色光的材料膜的多层堆叠的结构以产生白色光。
[0114]可在发光结构355和像素限定层350上设置第二电极360。第二电极360可包括透明导电材料，例如，氧化铟锡、氧化铟锌、氧化锡、氧化锌、氧化铟镓、氧化镓等。它们可单独使用或组合使用。此外，可通过溅射方法、化学气相沉积方法、原子层沉积方法、脉冲激光沉积方法、印刷方法等获得第二电极360。
[0115]可在第二电极360上设置第二基板365。第二基板365可包括透明绝缘基板。例如，第二基板365可包括玻璃基板、石英基板、透明树脂基板等。
[0116]可在第二基板365上设置偏振结构370。在这种情况下，偏振结构370可为图3中所示的偏振结构、图6中所示的偏振结构、图8中所示的偏振结构、图10中所示的偏振结构或图12中所示的偏振结构的任一种。当显示器件包括偏振结构370时，显示器件可包括具有最小的尺寸的边框或者可不包括边框。此外，可在显示器件的显示面板的所有区域上改善通过显示器件显示的图像的均匀性。
[0117]根据实施方式，当显示器件中使用具有遮光部件的偏振结构时，显示器件可包括具有大大地减小的尺寸的边框，或者显示器件在显示面板上可不需要任何边框。因而，显示器件可确保很好的外观，并且显示器件在整个显示区域上还可显示具有增强的均匀性和可见度的图像。这样的显示器件可用作各种显示仪，例如，电视、监视器、笔记本、手机、便携显示器件、便携媒体播放机等。
[0118]上文为实施方式的说明，并且不应解释为它的限制。虽然已经说明几个实施方式，本领域普通技术人员易于理解没有实质上偏离本发明的新的教导和优势的条件下，在实施方式中的许多修改时可能的。因此，所有这样的修改旨在包括如权利要求数限定的本发明的范围内。权利要求书中，手段加功能从句旨在包括执行引用的功能的这里说明的结构，并且不仅包括结构等价物还包括等价的结构。因此，应理解上文为各种实施方式的说明，并且不应解释为限制于公开的具体的实施方式，并且公开的实施方式其它实施方式的修改及旨在包括在所附的权利要求的范围内。
【权利要求】
1.一种偏振结构,包含: 第一粘附层； 设置在所述第一粘附层上方的相位延迟层； 设置在所述相位延迟层上方的偏振层；和 设置在所述偏振层外周部分上方的遮光部件。
2.根据权利要求1所述的偏振结构，其中，所述遮光部件具有框的形状或环的形状。
3.根据权利要求1所述的偏振结构，其中，所述遮光部件包含选自由金属、合金、金属化合物、黑色材料、绝缘树脂和阻光漆组成的组中的一种。
4.根据权利要求1所述的偏振结构，其中，所述遮光部件包含选自由碳化钴、氧化铁、铽类化合物、类金刚石碳、钛黑、铬、钥、氧化铬、氧化钥、亚苯基黑、苯胺黑、花青黑、尼格洛辛酸性黑、黑色树脂、含聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂的油墨和含聚氨酯树脂的油墨组成的组中的一种。
5.根据权利要求1所述的偏振结构，进一步包含设置在所述偏振层上方的保护层，其中，所述遮光部件设置在所述保护层的外周部分上。
6.根据权利要求5所述的偏振结构，进一步包含设置在所述保护层和所述遮光部件上方的低反射层。
7.根据权利要求1所述的偏振结构，进一步包含设置在所述偏振层上方的第二粘附层，其中，所述遮光部件设置在所述第二粘附层的外周部分上。
8.根据权利要求7所述的偏 振结构，进一步包含: 设置在所述遮光部件和所述第二粘附层上方的保护层；和 设置在所述保护层上方的低反射层。
9.根据权利要求7所述的偏振结构，进一步包含: 设置在所述相位延迟层和所述偏振层上方的第一保护层； 设置在所述遮光部件和所述第二粘附层上方的第二保护层；和 设置在所述第二粘附层上方的低反射层。
10.一种偏振结构，包含: 粘附层； 设置在所述粘附层的外周部分上方的遮光部件； 设置在所述遮光部件和所述粘附层上方的相位延迟层； 设置在所述相位延迟层上方的偏振层； 设置在所述偏振层上方的保护层；和 设置在所述保护层上方的低反射层。
11.一种偏振结构，包含: 第一粘附层； 设置在所述第一粘附层上方的相位延迟层； 设置在所述相位延迟层上方的第二粘附层； 设置在所述第二粘附层的外周部分上方的遮光部件； 设置在所述遮光部件和所述第二 粘附层上方的偏振层； 设置在所述偏振层上方的保护层；和设置在所述保护层上方的低反射层。
12.—种制造偏振结构的方法，包含: 提供基膜； 在所述基膜上方形成第一粘附层； 在所述第一粘附层上方形成相位延迟层； 在所述相位延迟层上方形成偏振层； 在所述偏振层的外周部分上方形成遮光部件；和 在所述遮光部件和所述偏振层上方形成低反射层。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，形成所述遮光部件包含: 在所述偏振层上方形成遮光层； 在所述遮光层上方形成掩膜；和 使用所述掩膜使所述遮光层图案化。
14.根据权利要求12所述的方法，其中，形成所述遮光部件包含: 在所述偏振层的外周部分上方形成初级遮光部件； 热处理所述初级遮光部件。
15.根据权利要求1`2所述的方法，其中，用包含黑色染料的粘合剂形成所述遮光部件。
16.根据权利要求12所述的方法，进一步包含在所述偏振层上方形成保护层，其中，所述遮光部件设置在所述保护层的外周部分上。
17.根据权利要求12所述的方法，进一步包含在所述偏振层上方形成第二粘附层，其中，所述遮光部件设置在所述第二粘附层的外周部分上。
18.根据权利要求17所述的方法，进一步包含在所述遮光部件和所述第二粘附层上方形成保护层。
19.根据权利要求17所述的方法，进一步包含: 在所述相位延迟层和所述偏振层之间形成第一保护层；和 在所述遮光部件和所述第二粘附层之间形成第二保护层。
20.一种制造偏振结构的方法，包含: 提供基膜； 在所述基膜上方形成粘附层； 在所述粘附层的外周部分上方形成遮光部件； 在所述遮光部件和所述粘附层上方形成相位延迟层； 在所述相位延迟层上方形成偏振层； 在所述偏振层上方形成保护层；和 在所述保护层上方形成低反射层。
21.—种制造偏振结构的方法，包含: 提供基膜； 在所述基膜上方形成第一粘附层； 在所述第一粘附层上方形成相位延迟层； 在所述相位延迟层上方形成第二粘附层； 在所述第二粘附层的外周部分上方形成遮光部件；在所述遮光部件和所述第二粘附层上方形成偏振层； 在所述偏振层上方形成保护层；和 在所述保护层上方形成低反射层。
22.—种包括偏振结构的显不器件,包含: 包含开关器件的第一基板； 电连接至所述开关器件的第一电极； 设置在所述第一电极上方的像素限定层，所述像素限定层具有暴露出所述第一电极的开口 ； 设置在所述第一电极的所述暴露部分上方的发光结构； 设置在所述发光结构上方的第二电极； 设置在所述第二电极上方的第二基板；和 设置在所述第二基板上方的根据`权利要求1至11中任一项所述的偏振结构。
【文档编号】G02B5/30GK103513318SQ201310152781
【公开日】2014年1月15日 申请日期:2013年4月27日 优先权日:2012年6月20日
【发明者】李钟洙, 梁承要, 李尚玟 申请人:三星显示有限公司