成像光学系统、成像设备的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种成像光学系统，其执行用于具体对红外线或太赫兹波成像的图像形成，并且提供用于削减成本的同时用于防止图像形成性能下降。本发明是成像光学系统：设置有第一透镜(11)，该第一透镜设置在孔径光阑(10)附近且负责像差校正，以及设置有第二透镜(12)，该第二透镜置于第一透镜(11)与成像元件之间且负责聚光；并且其中，该第一透镜(11)是梯度折射率透镜。该梯度折射率透镜比均匀折射率的透镜具有更高的设计自由度并且具有高潜力作为透镜的元件。通过使用这种梯度折射率透镜，例如，可实现像差校正而不进行高成本加工，例如抛光。通过这种结构，可以提供用于削减成本的同时用于防止图像形成性能下降。
【专利说明】成像光学系统、成像设备
【技术领域】
[0001]本技术涉及一种被配置为形成图像以检测图像的图像拾取光学系统，以及采用该图像拾取光学系统的图像拾取设备。
【背景技术】
[0002]不仅用于可见光范围，而且用于红外线频率范围或太赫兹频率范围的图像拾取光学系统已经被开发，作为被配置为检测图像的图像拾取光学系统。
[0003]例如，红外线图像拾取光学系统使用来自诸如人或动物等物体的热量，即远红外线(8μπι到12 μ m的波长)，并且红外线图像拾取光学系统被用于在暗处拾取图像、观察温度分布等。
[0004]而且，用于太赫兹波(波长为30 μ m到3mm:100GHz到1THz)的图像拾取光学系统被用于所谓的非破坏性检查，例如，机场设施的安全检查。
[0005]专利文献1:日本专利申请
【发明者】齐藤政宏, 椛泽秀年 申请人:索尼公司