液晶透镜制作方法及液晶透镜的制作方法

液晶透镜制作方法及液晶透镜的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种液晶透镜制作方法及液晶透镜，该方法包括：步骤1：获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线，记为理想曲线；步骤2：根据所述理想曲线制作第二透明高阻层，所述第二透明高阻层中的阻抗分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配；步骤3：利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜。本发明所提供的液晶透镜及其制作方法中，所述第二透明高阻层中的阻抗分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配，从而使得利用所述第二透明高阻层制作的液晶透镜中，距离液晶透镜中心不同位置处光程差分布曲线与液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线吻合度较高，提高了所述液晶透镜中光程差的利用率。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本发明涉及液晶【技术领域】，尤其涉及一种液晶透镜制作方法及一种液晶透镜。 液晶透镜制作方法及液晶透镜

【背景技术】
[0002] 现有技术中的液晶透镜包括：相对设置的上基板与下基板；位于所述上基板与所 述下基板之间的液晶层；位于液晶层朝向所述上基板与下基板一侧的配向膜；位于所述上 基板朝向液晶层一侧的透明高阻层，所述透明高阻层处处阻抗值相等；设置于所述上基板 与所述透明高阻层之间的第一电极层和第二电极层；位于所述下基板朝向液晶层的第三电 极层，从而通过控制所述第一电极层与第三电极层、第二电极层与第三电极层之间的电压 来控制所述液晶层中液晶分子的转向，使得不同位置处的液晶分子的光程差不同，从而实 现液晶透镜的目的。但是，现有技术中液晶透镜的光程差利用率较低。


【发明内容】

[0003] 为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种液晶透镜制作方法以及一种液晶 透镜，以提高所述液晶透镜的光程差利用率。
[0004] 为解决上述问题，本发明实施例提供了如下技术方案：
[0005] -种液晶透镜的制作方法，包括：
[0006] 步骤1 :获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线， 记为理想曲线；
[0007] 步骤2 :根据所述理想曲线制作第二透明高阻层，所述第二透明高阻层中的阻抗 分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配；
[0008] 步骤3 :利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜。
[0009] 优选的，根据所述理想曲线制作第二透明高阻层包括：
[0010] 步骤201 :获得参考液晶透镜，所述参考液晶透镜中的透明高阻层记为第一透明 高阻层；
[0011] 步骤202 :对所述参考液晶透镜进行检测，获得所述参考液晶透镜中距离液晶透 镜中心不同位置处光程差的分布曲线，记为参考曲线，所述参考曲线与所述理想曲线为同 一屈光度下的光程差分布曲线；
[0012] 步骤203 :对比所述参考曲线和理想曲线，获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不 同位置处，第一透明高阻层的阻抗修正系数；
[0013] 步骤204:根据液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处，第一透明高阻层的阻 抗修正系数，对第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗值进行修正，得到第 二透明高阻层。
[0014] 优选的，对比所述参考曲线和理想曲线，获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同 位置处，第一透明高阻层的阻抗修正系数包括：
[0015] 步骤2031 :对比所述参考曲线和理想曲线，获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不 同位置处光程差的修正系数；
[0016] 步骤2032 :根据所述液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的修正系 数，对第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行修正；
[0017] 步骤2033 :获得利用修正后的第一透明高阻层制作的液晶透镜中，距离液晶透镜 中心不同位置处光程差的分布曲线，记为修正曲线；
[0018] 步骤2034 :对比所述参考曲线和修正曲线，重新获得液晶透镜中距离液晶透镜中 心不同位置处光程差的修正系数；
[0019] 步骤2035 :根据重新获得的液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的 修正系数，对修正后的第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行再次修 正；
[0020] 重复步骤2033-步骤2035,直至获得的修正曲线与理想曲线相吻合，对比此时第 一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗值与所述第一透明高阻层距离液晶透 镜中心不同位置处的原始阻抗值，获得第一透明高阻层的阻抗修正系数。
[0021] 优选的，对第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行修正包括：
[0022] 在所述第一透明高阻层阻抗需要降低的区域，增加透明低阻环。
[0023] 优选的，所述透明低阻环的形状为圆环。
[0024] 优选的，所述透明低阻环沿电流方向的电阻不大于所述第一透明高阻层在相同位 置沿电流方向电阻的10%。
[0025] 优选的，所述透明低阻环的宽度范围0 μ m-5 μ m，包括右端点值。
[0026] 优选的，对第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行修正还包 括：
[0027] 对所述第一透明高阻层阻抗需要提高的区域进行刻蚀，在所述第一透明高阻层阻 抗需要提高的区域设置环形凹槽。
[0028] -种液晶透镜，利用上述任一项所述制作方法制作，包括：
[0029] 相对设置的第一基板和第二基板；
[0030] 位于所述第一基板与第二基板之间的液晶层；
[0031] 位于所述液晶层朝向所述第一基板和第二基板一侧的配向膜；
[0032] 位于所述第一基板朝向所述液晶层一侧的第二透明高阻层，所述第二透明高阻层 中的阻抗分布与液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线中的光 程差分布相匹配；
[0033] 位于所述第一基板朝向所述第二透明高阻层一侧的第一电极和第二电极，其中， 所述第二电极为环形电极，所述第一电极为透明电极，且位于所述第二电极的环形区域 内；
[0034] 位于所述第二基板朝向所述液晶层一侧的第三电极。
[0035] 优选的，所述第一电极与所述第二透明高阻层之间设置有绝缘层。
[0036] 优选的，所述第二电极为低阻电极，且与所述第二透明高阻层直接电连接。
[0037] 优选的，所述第二电极与所述第二透明高阻层位于同一层。
[0038] 优选的，所述第二电极与所述第二透明高阻层位于不同层。
[0039] 与现有技术相比，上述技术方案具有以下优点：
[0040] 本发明实施例所提供的技术方案，包括：步骤1 :获得液晶透镜中距离液晶透镜中 心不同位置处光程差的理想分布曲线，记为理想曲线；步骤2 :根据所述理想曲线制作第二 透明高阻层，所述第二透明高阻层中的阻抗分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配； 步骤3 :利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜。
[0041] 由上可知，本发明实施例所提供的技术方案中，所述第二透明高阻层中的阻抗分 布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配，从而使得利用所述第二透明高阻层制作的液晶 透镜中，距离液晶透镜中心不同位置处光程差分布曲线与液晶透镜中距离液晶透镜中心不 同位置处光程差的理想分布曲线吻合度较高，提高了所述液晶透镜中光程差的利用率。

【专利附图】

【附图说明】
[0042] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明 的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据 这些附图获得其他的附图。
[0043] 图1为液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的分布曲线示意图，其 中，曲线1为液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线示意图，曲 线2为现有技术里液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的实际分布曲线示意 图；
[0044] 图2为本发明一个实施例所提供的液晶透镜制作方法流程示意图；
[0045] 图3为本发明一个实施例所提供的液晶透镜的结构示意图；
[0046] 图4为本发明一个实施例所提供的液晶透镜中，第二透明高阻层的结构示意图；
[0047] 图5为本发明一个实施例所提供的液晶透镜中，第二透明高阻层的俯视图；
[0048] 图6为本发明一个实施例所提供的液晶透镜中，第二透明高阻层中环形凹槽的放 大俯视图；
[0049] 图7为本发明另一个实施例中所提供的液晶透镜的局部结构示意图；
[0050] 图8为本发明实施例所提供的液晶透镜在中距离液晶透镜中心不同位置处光程 差的分布曲线示意图，其中，曲线3为液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的 理想分布曲线示意图，曲线4为本发明实施例里液晶透镜中，距离液晶透镜中心不同位置 处光程差的实际分布曲线示意图；
[0051] 图9为本发明实施例所提供的液晶透镜与现有技术中液晶透镜的光程差利用率 对比表。

【具体实施方式】
[0052] 正如【背景技术】部分所述，现有技术中液晶透镜的光程差利用率较低。
[0053] 发明人研究发现，这是由于液晶透镜的光程差的利用率由液晶层中液晶分子的特 性以及施加在液晶层两端的电压决定。当液晶层中的液晶分子全部翻转时，液晶透镜的光 程差为最大光程差：液晶层中液晶分子的折射率Λ η乘以液晶透镜的厚度d。但是，当液晶 层两端施加电压时，由于液晶层朝向所述上基板与下基板一侧设置有配向膜，液晶层中的 分子并不能全部翻转，而是按照一定的分布翻转，来参与实现液晶透镜。
[0054] 需要说明的是，要想实现液晶透镜，要求液晶层两端的不同位置处的电压有特定 的电压分布。如图1所示，图1示出了液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的 分布曲线示意图，其中，曲线1为液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想 分布曲线示意图，曲线2为现有技术里液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的 实际分布曲线示意图。由图1可以看出，相较于液晶透镜的光程差理想分布曲线，现有技术 中的液晶透镜部分区域光程差的变化速率较快，即其液晶层两端的电压变化速率较快，而 部分区域光程差的变化速率较慢，即其液晶层两端的电压变化速率较慢，使得液晶透镜中 距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线与现有技术里液晶透镜中距离液晶 透镜中心不同位置处光程差的实际分布曲线吻合度较差，从而导致现有技术中液晶透镜的 光程差利用率较低。
[0055] 有鉴于此，本发明实施例提供了一种液晶透镜的制作方法，包括：
[0056] 步骤1 :获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线， 记为理想曲线；
[0057] 步骤2 :根据所述理想曲线制作第二透明高阻层，所述第二透明高阻层中的阻抗 分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配；
[0058] 步骤3 :利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜。
[0059] 相应的，本发明实施例还提供了一种液晶透镜，所述液晶透镜利用上述液晶制作 方法制作，包括：
[0060] 相对设置的第一基板和第二基板；
[0061] 位于所述第一基板与第二基板之间的液晶层；
[0062] 位于所述液晶层朝向所述第一基板和第二基板一侧的配向膜；
[0063] 位于所述第一基板朝向所述液晶层一侧的第二透明高阻层，所述第二透明高阻层 中的阻抗分布与液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线中的光 程差分布相匹配；
[0064] 位于所述第一基板朝向所述第二透明高阻层一侧的第一电极和第二电极，其中， 所述第二电极为环形电极，所述第一电极为透明电极，且位于所述第二电极的环形区域 内；
[0065] 位于所述第二基板朝向所述液晶层一侧的第三电极。
[0066] 由于第二透明高阻层的阻抗与器件里的电容形成RC放电回路，不同位置的RC不 同，对驱动信号的幅值和相位改变程度不同，导致不同位置交流信号的电压有效值不同，从 而使得液晶层中液晶分子的翻转状态按RC电路的规律进行分布，因此，改变所述第二透明 高阻层距离所述液晶透镜中心不同距离处的阻抗，可以改变所述液晶层中距离所述液晶透 镜中心不同位置处的液晶分子的翻转状态。
[0067] 而本发明实施例所提供的液晶透镜制作方法中，所述第二透明高阻层中的阻抗分 布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配，从而使得利用所述第二透明高阻层制作的液晶 透镜中，距离液晶透镜中心不同位置处光程差分布曲线与液晶透镜中距离液晶透镜中心不 同位置处光程差的理想分布曲线吻合度较高，提高了所述液晶透镜中光程差的利用率。 [0068] 为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明 的【具体实施方式】做详细的说明。
[0069] 在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以多种不 同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类 似推广。因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
[0070] 如图2所示，本发明实施例提供了一种液晶透镜的制作方法，包括：
[0071] 步骤1 :获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线， 记为理想曲线，参考图1中的曲线1。
[0072] 在本发明的一个实施例中，所述理想曲线为所述液晶透镜在屈光度为10D下的光 程差分布曲线，在本发明的另一个实施例中，所述理想曲线还可以为所述液晶透镜在屈光 度为9D、9. ?或8D等其他屈光度下的光程差分布曲线，本发明对此并不做限定，具体视情 况而定。
[0073] 步骤2 :根据所述理想曲线制作第二透明高阻层，所述第二透明高阻层中的阻抗 分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配。
[0074] 在本发明的一个实施例中，根据所述理想曲线制作第二透明高阻层包括：
[0075] 步骤201 :获得参考液晶透镜，所述参考液晶透镜中的透明高阻层记为第一透明 高阻层。其中，所述参考液晶透镜可以为现有技术中的任一液晶透镜，本发明对此并不做限 定。
[0076] 优选的，在本发明的一个实施例中，所述第一透明高阻层中各处阻抗相同，在本发 明的其他实施例中，所述第一透明高阻层中各处的阻抗也可以不相同，本发明对此并不做 限定，具体视情况而定。需要说明的是，当所述第一透明高阻层中各处阻抗相同时，所述第 一透明高阻层中的各处阻抗只是理论上相同，受具体制作工艺的限制，所述第一透明高阻 层中各处的阻抗相对大小是随机分布的，而不是严格相同。
[0077] 步骤202 :对所述参考液晶透镜进行检测，获得所述参考液晶透镜中距离液晶透 镜中心不同位置处光程差的分布曲线，记为参考曲线，参考图1中的曲线2。需要说明的是， 所述参考曲线与所述理想曲线为同一屈光度下的光程差分布曲线。
[0078] 由于对所述参考液晶透镜进行检测，获得所述参考液晶透镜中距离液晶透镜中心 不同位置处光程差的分布曲线的方法已为本领域技术人员所公知，本发明对此不再详细赘 述。
[0079] 步骤203 :对比所述参考曲线和理想曲线，获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不 同位置处，第一透明高阻层的阻抗修正系数。
[0080] 在本发明的一个实施例中，对比所述参考曲线和理想曲线，获得液晶透镜中距离 液晶透镜中心不同位置处，第一透明高阻层的阻抗修正系数包括：
[0081] 步骤2031 :对比所述参考曲线和理想曲线，获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不 同位置处光程差的修正系数；
[0082] 步骤2032 :根据所述液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的修正系 数，对第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行修正；
[0083] 步骤2033 :获得利用修正后的第一透明高阻层制作的液晶透镜中距离液晶透镜 中心不同位置处光程差的分布曲线，记为修正曲线；
[0084] 步骤2034 :对比所述参考曲线和修正曲线，重新获得液晶透镜中距离液晶透镜中 心不同位置处光程差的修正系数；
[0085] 步骤2035 :根据重新获得的液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的 修正系数，对修正后的第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行再次修 正；
[0086] 重复步骤2033-步骤2035,直至获得的修正曲线与理想曲线相吻合，对比此时第 一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗值与所述第一透明高阻层距离液晶透 镜中心不同位置处的原始阻抗值，获得第一透明高阻层的阻抗修正系数。
[0087] 在本发明的一个具体实施例中，所述参考曲线与所述理想曲线均为屈光度为10D 下获得的光程差分布曲线，故在本实施例中，获得的第一透明高阻层的阻抗修正系数也为 屈光度为10D下获得的阻抗修正系数。
[0088] 需要说明的是，在本发明的一个优选实施例中，当获得所述第一透明高阻层的阻 抗修正系数也为屈光度为10D下获得的阻抗修正系数后，需要对该修正系数进行验证，即 验证在其他屈光度下，利用该修正系数后的第一透明高阻层制作的液晶透镜的光程差分布 曲线及其理想曲线的差值是否在RMS(Root Mean Square,即均方根值）预设范围以内，如 果不在RMS预设范围内，则重新获取所述第一透明高阻层的修正系数，如果在RMS预设范围 内，则执行下一步骤。优选的，所述RMS预设范围为不大于0. 1。
[0089] 还需要说明的是，在本发明实施例中，所述修正曲线与所述理想曲线相吻合，可以 为所述修正曲线与所述理想曲线完全吻合，也可以为所述修正曲线与所述理想曲线近似吻 合，本发明对此并不做限定，只要保证可以提高利用该制作方法制作的液晶透镜中距离液 晶中心不同位置处光程差的分布曲线与理想曲线的吻合度，从而提高利用该制作方法制作 的液晶透镜的光程差利用率即可。
[0090] 步骤204:根据液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处，第一透明高阻层的阻 抗修正系数，对第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗值进行修正，得到第 二透明高阻层；
[0091] 在本发明的一个实施例中，对第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻 抗进行修正包括：在所述第一透明高阻层阻抗需要降低的区域，增加透明低阻环。
[0092] 在本实施例的一个实施例中，所述透明低阻环为圆环，从而保证利用该方法制作 的液晶透镜中，距离所述液晶透镜中心相同距离处的阻抗值相同，即距离所述液晶透镜中 心相同距离处的液晶分子偏转状态相同，保证透过所述液晶透镜的光线汇聚于同一点。需 要说明的是，当利用本发明实施例所提供的方法制作的液晶透镜中，所述第二透明高阻层 包括多个透明低阻环时，所述多个透明低阻环优选为同心圆环。
[0093] 在上述实施例的基础上，在本发明的一个实施例中，所述透明低阻环沿电流方向 的电阻不大于所述第一透明高阻层在相同位置沿电流方向电阻的10%，但本发明对此并不 做限定，只要保证在所述第一透明高阻层阻抗需要降低的区域，增加透明低阻环后，可以降 低所述第一透明高阻层阻抗需要降低的区域的阻抗值即可。
[0094] 需要说明的是，本发明的实施例中，所述透明低阻环的线宽应尽可能细，以尽可能 精细的提高利用该方法制作的液晶透镜中，距离所述液晶透镜中心不同距离处的阻抗值， 尽量提高所述液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线与利用本 发明实施例所提供制作方法制作的液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的分 布曲线的吻合度，提高利用本发明实施例所提供制作方法制作的液晶透镜的光程差利用 率。
[0095] 在本发明的一个优选实施例中，所述透明低阻环的宽度范围0 μ m-5 μ m，包括右端 点值，但本发明对此并不做限定，具体视情况而定。
[0096] 在上述任一实施例的基础上，在本发明的另一个实施例中，对第一透明高阻层距 离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行修正还包括：
[0097] 对所述第一透明高阻层阻抗需要提高的区域进行刻蚀，在所述第一透明高阻层阻 抗需要提高的区域设置环形凹槽。
[0098] 在本实施例的一个实施例中，所述环形凹槽优选由多个六边形蜂窝分布状凹槽构 成，所述多个六边形蜂窝分布状凹槽优选为以液晶透镜圆心呈中心对称。且所述蜂窝分布 状凹槽沿液晶透镜半径方向的尺寸与垂直于半径方向的尺寸之比在满足阻抗需要前提下 尽可能大，以保证制作的液晶透镜中，距离所述液晶透镜中心相同距离处的阻抗值相同，即 距离所述液晶透镜中心相同距离处的液晶分子偏转状态相同，保证透过所述液晶透镜的光 线汇聚于同一点。需要说明的是，当所述第二透明高阻层包括多个环形凹槽时，所述多个环 形凹槽优选为同心环形凹槽，即所述多个环形凹槽优选为均以所述液晶透镜中心呈中心对 称。
[0099] 还需要说明的是，在上述实施例的基础上，所述蜂窝分布状凹槽的宽度应尽可能 的细，以尽可能精细的降低制作的液晶透镜距离所述液晶透镜中心不同距离处的阻抗值， 尽量提高所述液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线与利用本 发明实施例所提供制作方法制作的液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的分 布曲线的吻合度，提高利用本发明实施例所提供制作方法制作的液晶透镜的光程差利用 率。
[0100] 步骤3 :获得第二透明高阻层后，利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜。由于利 用第二透明高阻层制作液晶透镜的方法与现有技术中利用透明高阻层制作液晶透镜的方 法相类似，本发明对此不再详细赘述。
[0101] 综上所述，本发明实施例所提供的液晶透镜的制作方法，包括：步骤1 :获得液晶 透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线，记为理想曲线；步骤2 :根据 所述理想曲线制作第二透明高阻层，所述第二透明高阻层中的阻抗分布与所述理想曲线中 的光程差分布相匹配；步骤3 :利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜，从而使得利用所述 第二透明高阻层制作的液晶透镜中，距离液晶透镜中心不同位置处光程差分布曲线与液晶 透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线吻合度较高，提高了所述液晶 透镜中光程差的利用率。
[0102] 相应的，本发明实施例还提供了一种液晶透镜，所述液晶透镜利用上述任一实施 例所提供的制作方法制作而得。如图3所示，所述液晶透镜包括
[0103] 相对设置的第一基板1和第二基板2 ;
[0104] 位于所述第一基板1与第二基板2之间的液晶层3 ;
[0105] 位于所述液晶层3朝向所述第一基板1和第二基板2 -侧的配向膜4 ;
[0106] 位于所述第一基板1朝向所述液晶层3 -侧的第二透明高阻层5,所述第二透明高 阻层5中的阻抗分布与液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线 中的光程差分布相匹配；
[0107] 位于所述第一基板1朝向所述第二透明高阻层5 -侧的第一电极6和第二电极7， 其中，所述第二电极7为环形电极，所述第一电极6为透明电极，且位于所述第二电极7的 环形区域内；
[0108] 位于所述第二基板2朝向所述液晶层3 -侧的第三电极8。
[0109] 在本发明的一个实施例中，如图4所示，所述第二透明高阻层5包括第一透明高阻 层51以及位于所述第一透明高阻层51表面的至少一个透明低阻环52,从而降低所述第一 透明高阻层51中阻抗待降低区域的阻抗值。
[0110] 优选的，在本发明的一个实施例中，所述透明低阻环52为圆环，从而保证所述液 晶透镜中，距离所述液晶透镜中心相同距离处的阻抗值相同，即距离所述液晶透镜中心相 同距离处的液晶分子偏转状态相同，保证透过所述液晶透镜的光线汇聚于同一点。需要说 明的是，如图5所示，当所述液晶透镜中，所述第二透明高阻层5包括多个透明低阻环52 时，所述多个透明低阻环52优选为同心圆环。
[0111] 在上述任一实施例的基础上，在本发明的一个优选实施例中，所述透明低阻环52 沿电流方向的电阻不大于所述第一透明高阻层51在相同位置沿电流方向电阻的10%，但 本发明对此并不做限定，具体视情况而定。
[0112] 需要说明的是，本发明的实施例中，所述透明低阻环52的线宽应尽可能细，以尽 可能精细的提高所述液晶透镜距离所述液晶透镜中心不同距离处的阻抗值，尽量提高所述 液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线与液晶透镜中距离液晶 透镜中心不同位置处光程差的实际分布曲线的吻合度，提高所述液晶透镜的光程差利用 率。
[0113] 在本发明的一个优选实施例中，所述透明低阻环52的宽度范围0μπι-5μπι，包括 右端点值，但本发明对此并不做限定，具体视情况而定。
[0114] 在本发明上述任一实施例的基础上，在本发明的一个实施例中，所述第二透明高 阻层5中还包括至少一个环形凹槽，以提高所述第二透明高阻层5中阻抗待提高区域的阻 抗值，从而提高液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线与液晶透 镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的实际分布曲线的吻合度，最终提高所述液晶透 镜的光程差利用率。
[0115] 在本发明的一个实施例中，如图6所示，所述环形凹槽53优选由多个六边形蜂窝 分布状凹槽构成，所述多个六边形蜂窝分布状凹槽优选为以液晶透镜圆心呈中心对称。且 所述蜂窝分布状凹槽沿液晶透镜半径方向的尺寸与垂直于半径方向的尺寸之比在满足阻 抗需要前提下尽可能大，以保证所述液晶透镜中，距离所述液晶透镜中心相同距离处的阻 抗值相同，即距离所述液晶透镜中心相同距离处的液晶分子偏转状态相同，保证透过所述 液晶透镜的光线汇聚于同一点。需要说明的是，当所述液晶透镜中，所述第二透明高阻层5 包括多个环形凹槽53时，所述多个环形凹槽53优选为同心环形凹槽，即所述多个环形凹槽 优选为均以所述液晶透镜中心呈中心对称。
[0116] 还需要说明的是，在上述实施例的基础上，所述蜂窝分布状凹槽的宽度应尽可能 的细，以尽可能精细的降低所述液晶透镜距离所述液晶透镜中心不同距离处的阻抗值，尽 量提高所述液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线与液晶透镜 中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的实际分布曲线的吻合度，最终提高所述液晶透镜 的光程差利用率。
[0117] 在上述任一实施例的基础上，如图7所示，在本发明的一个实施例中，所述第一电 极6与所述第二透明高阻层5之间还设置有绝缘层9。优选的，在该实施例中，所述第二电 极7设置于所述绝缘层9背离所述第一电极6层的一侧，即所述绝缘层9朝向所述第二透 明高阻层5的一侧，从而保证所述第二电极7与所述第二透明高阻层5直接电连接，避免所 述第二电极7与所述第二透明高阻层5之间形成电容，降低所述液晶透镜中第二电极7所 在区域的驱动信号有效值，进而导致降低施加在所述液晶透镜中第二电极7所在区域液晶 分子两端的实际电压值，降低所述液晶透镜中第二电极7所在区域的电压变化率，即降低 第二电极7所在区域的光程差变化率，降低液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程 差的理想分布曲线与液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的实际分布曲线的 吻合度，最终降低所述液晶透镜的光程差利用率。
[0118] 需要说明的是，在本发明的一个实施例中，所述第二电极7与所述第二透明高阻 层5可以位于同一层，在本发明的另一个实施例中，所述第二电极7与所述第二透明高阻层 5也可以位于不同层，本发明对此并不做限定，只要保证所述第二电极7与所述第二透明高 阻层5直接电连接即可。
[0119] 如图8所示，图8中示出了本发明实施例所提供的液晶透镜在距离液晶透镜中心 不同位置处光程差的分布曲线示意图，其中，曲线3为液晶透镜中距离液晶透镜中心不同 位置处光程差的理想分布曲线示意图，曲线4为本发明实施例里液晶透镜中，距离液晶透 镜中心不同位置处光程差的实际分布曲线示意图。由图8可以看出，本发明实施例所提供 的液晶透镜中，距离液晶透镜中心不同位置处光程差的实际分布曲线与其理想分布曲线吻 合度较高，从而提高了所述液晶透镜的光程差利用率。
[0120] 如图9所示，图9示出了本发明实施例所提供的液晶透镜与现有技术中液晶透镜 的光程差利用率对比表，由图9可以看出，相较于现有技术中的液晶透镜，本发明实施例 所提供的液晶透镜将其光程差的利用率由现有技术中的45%提高到了 69%以上，使得本 发明实施例所提供的液晶透镜在保证厚度不变的情况下，将其屈光度由?6. ?提升至? 10. 5D，或者在保证屈光度不变的情况下，有效降低所述液晶透镜的厚度，提高所述液晶透 镜的透光率，改善所述液晶透镜的响应速度和色散等问题。
[0121] 综上所述，本发明实施例所提供的液晶透镜，其距离液晶透镜中心不同位置处光 程差的实际分布曲线与液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线 吻合度较高，提高了所述液晶透镜的光程差利用率。
[0122] 本说明书中各个部分采用递进的方式描述，每个部分重点说明的都是与其他部分 的不同之处，各个部分之间相同相似部分互相参见即可。
[0123] 对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。 对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的 一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明 将不会被限制于本文所示的实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的 最宽的范围。
【权利要求】
1. 一种液晶透镜的制作方法，其特征在于，包括： 步骤1 :获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线，记为 理想曲线； 步骤2:根据所述理想曲线制作第二透明高阻层，所述第二透明高阻层中的阻抗分布 与所述理想曲线中的光程差分布相匹配； 步骤3 :利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜。
2. 根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，根据所述理想曲线制作第二透明高 阻层包括： 步骤201 :获得参考液晶透镜，所述参考液晶透镜中的透明高阻层记为第一透明高阻 层； 步骤202 :对所述参考液晶透镜进行检测，获得所述参考液晶透镜中距离液晶透镜中 心不同位置处光程差的分布曲线，记为参考曲线，所述参考曲线与所述理想曲线为同一屈 光度下的光程差分布曲线； 步骤203 :对比所述参考曲线和理想曲线，获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位 置处，第一透明高阻层的阻抗修正系数； 步骤204:根据液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处，第一透明高阻层的阻抗修 正系数，对第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗值进行修正，得到第二透 明高阻层。
3. 根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，对比所述参考曲线和理想曲线，获得 液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处，第一透明高阻层的阻抗修正系数包括： 步骤2031 :对比所述参考曲线和理想曲线，获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位 置处光程差的修正系数； 步骤2032 :根据所述液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的修正系数，对 第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行修正； 步骤2033 :获得利用修正后的第一透明高阻层制作的液晶透镜中，距离液晶透镜中心 不同位置处光程差的分布曲线，记为修正曲线； 步骤2034:对比所述参考曲线和修正曲线，重新获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不 同位置处光程差的修正系数； 步骤2035 :根据重新获得的液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的修正 系数，对修正后的第一透明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗进行再次修正； 重复步骤2033-步骤2035,直至获得的修正曲线与理想曲线相吻合，对比此时第一透 明高阻层距离液晶透镜中心不同位置处的阻抗值与所述第一透明高阻层距离液晶透镜中 心不同位置处的原始阻抗值，获得第一透明高阻层的阻抗修正系数。
4. 根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，对第一透明高阻层距离液晶透镜中 心不同位置处的阻抗进行修正包括： 在所述第一透明高阻层阻抗需要降低的区域，增加透明低阻环。
5. 根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述透明低阻环的形状为圆环。
6. 根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述透明低阻环沿电流方向的电阻 不大于所述第一透明高阻层在相同位置沿电流方向电阻的10%。
7. 根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述透明低阻环的宽度范围 0μπι-5μπι，包括右端点值。
8. 根据权利要求2-7任一项所述的制作方法，其特征在于，对第一透明高阻层距离液 晶透镜中心不同位置处的阻抗进行修正还包括： 对所述第一透明高阻层阻抗需要提高的区域进行刻蚀，在所述第一透明高阻层阻抗需 要提高的区域设置环形凹槽。
9. 一种液晶透镜，利用权利要求1-8任一项所述制作方法制作，其特征在于，包括： 相对设置的第一基板和第二基板； 位于所述第一基板与第二基板之间的液晶层； 位于所述液晶层朝向所述第一基板和第二基板一侧的配向膜； 位于所述第一基板朝向所述液晶层一侧的第二透明高阻层，所述第二透明高阻层中的 阻抗分布与液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线中的光程差 分布相匹配； 位于所述第一基板朝向所述第二透明高阻层一侧的第一电极和第二电极，其中，所述 第二电极为环形电极，所述第一电极为透明电极，且位于所述第二电极的环形区域内； 位于所述第二基板朝向所述液晶层一侧的第三电极。
10. 根据权利要求9所述的液晶透镜，其特征在于，所述第一电极与所述第二透明高阻 层之间设置有绝缘层。
11. 根据权利要求9所述的液晶透镜，其特征在于，所述第二电极为低阻电极，且与所 述第二透明高阻层直接电连接。
12. 根据权利要求11所述的液晶透镜，其特征在于，所述第二电极与所述第二透明高 阻层位于同一层。
13. 根据权利要求11所述的液晶透镜，其特征在于，所述第二电极与所述第二透明高 阻层位于不同层。
【文档编号】G02F1/29GK104102063SQ201410393200
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2014年8月11日 优先权日:2014年8月11日
【发明者】王东岳, 吴振忠, 陈魁, 杨亮, 何基强, 李建华 申请人:信利半导体有限公司