一种匀光结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型实施例公开了一种匀光结构，包括：第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。由于第一介质层背离第一图案结构的一面为平面，因而可以在该平面上进行镀膜，解决了由于匀光器件表面不平整而导致镀膜困难的问题；在第一介质层上镀第一增透膜，增强了透射光的能量。
【专利说明】一种匀光结构
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及匀光【技术领域】，尤其涉及一种匀光结构。
【背景技术】
[0002]在激光照明系统中，常用的匀光器件包括复眼透镜、扩散板(diffuser)和衍射光学元件(DOE)等，这些匀光器件的表面均设计有特殊凸起的不平整的图案结构，入射光束照射到上述图案结构后发生折射、散射或衍射，被分割成不同传播方向、角度或相位的子光束，这些子光束进行叠加消除其微小不均匀性，从而实现匀光。
[0003]在匀光过程中，部分光能会被反射损失掉，为了减少反射损失，通常需要对匀光器件的表面进行镀膜处理，镀膜一般采用蒸镀工艺或者溅射镀膜工艺，但是，由于匀光器件的表面有不平整的图案结构，使得镀膜相当困难，尤其表面曲率较大时，镀膜更是困难。
[0004]因此，对匀光器件不平整的图案结构或表面难以直接镀膜的图案结构上进行镀膜，以减少反射损失、增强透射光的能量，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。
实用新型内容
[0005]本实用新型的目的是提供一种匀光结构，以解决现有技术中在匀光器件表面不平整的图案结构上镀膜困难的问题。。
[0006]为解决上述问题，本实用新型实施例提供了如下技术方案:
[0007]一种匀光结构，包括:第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。
[0008]优选的，还包括:所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二增透膜。
[0009]优选的，所述第一介质层为胶水介质层，所述第一介质层和第一增透膜之间设有第二基板。
[0010]优选的，所述第一图案结构为胶水图案层。
[0011]优选的，所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二图案结构，所述第二图案结构包括多个微结构；
[0012]所述第二图案结构表面设有第二介质层，所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面为平面；
[0013]所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面设有第二增透膜。
[0014]优选的，所述第二介质层为胶水介质层，所述第二介质层和第二增透膜之间设有第三基板。
[0015]优选的，还包括:第三图案结构，所述第三图案结构包括多个微结构，其中，第三图案结构与第一介质层的胶水介质层接触的一面为微结构面，第三图案结构背离第一介质层的胶水介质层的一面为平面。
[0016]优选的，所述第三图案结构为胶水图案层。
[0017]优选的，所述第一基板和第二基板为PC板，所述第一图案结构为散射粉层。
[0018]优选的，所述第一介质层为硅胶介质层、UV胶介质层或光学环氧胶介质层。
[0019]优选的，所述胶水图案层为硅胶图案层、UV胶图案层或光学环氧胶图案层。
[0020]优选的，胶水图案层的厚度不大于100 μπι。
[0021]优选的，所述第一基板和第二基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。
[0022]优选的，所述第三基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。
[0023]优选的，所述胶水图案层的表面为多个弧形面构成的曲面，或多个锯齿构成的锯齿面，或多个台阶构成的阶梯面。
[0024]与现有技术相比，上述技术方案具有以下优点:
[0025]本实用新型实施例所提供的匀光结构，包括:第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。由此可见，本实用新型在难以镀膜的不平整第一图案结构上涂覆第一介质层，由于第一介质层背离第一图案结构的一面为平面，因而可以在该平面上进行镀膜，解决了由于匀光器件表面不平整而导致镀膜困难的问题；而且，在第一介质层上镀第一增透膜，根据等厚干涉原理，第一增透膜两个表面的反射光是相干的，会发生干涉相消，从而会使反射光减弱或消失，反射光能量减少，反射光和透射光的总能量等于入射光能量，根据能量守恒定律，反射光能量减少，就会使得透射光的能量增强。
【专利附图】
【附图说明】
[0026]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1-图4为本实用新型实施例所提供的匀光结构的四种结构示意图；
[0028]图5为本实用新型实施例所提供的一种单片图案结构的匀光结构加工流程图；
[0029]图6-图8为本实用新型实施例所提供的匀光结构的三种结构示意图；
[0030]图9为本实用新型一个实施例中，胶水介质层和胶水图案层对入射光线进行透射的不意图；
[0031]图10为本实用新型一个实施例中，胶水介质层和胶水图案层对入射光线进行反射和折射的不意图；
[0032]图11为本实用新型一个实施例中，增透膜增透原理示意图；
[0033]图12为本实用新型一个实施例提供的一种阶梯面胶水图案层匀光结构。
【具体实施方式】
[0034]正如【背景技术】部分所述，现有技术中的匀光器件，在图案结构上难以镀膜。
[0035]有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种匀光结构，包括:第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。
[0036]本实用新型在难以镀膜的不平整第一图案结构上涂覆第一介质层，由于第一介质层背离第一图案结构的一面为平面，因而可以在该平面上进行镀膜，解决了由于匀光器件表面不平整而导致镀膜困难的问题；而且，在第一介质层上镀第一增透膜，根据等厚干涉原理，第一增透膜两个表面的反射光是相干的，会发生干涉相消，从而会使反射光减弱或消失，反射光能量减少，反射光和透射光的总能量等于入射光能量，根据能量守恒定律，反射光能量减少，就会使得透射光的能量增强。
[0037]为使实用新型的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本实用新型的【具体实施方式】做详细的说明。
[0038]在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似推广。因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。
[0039]本实用新型实施例提供了一种匀光结构，包括:第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。
[0040]在本实用新型的一个实施例中，以复眼透镜为例，如图1所示，所述匀光结构的第一基板101的表面形成有第一图案结构102，所述第一图案结构102包括多个微结构，用以对照射到其表面的入射光束进行匀光，第一介质层103位于第一图案结构102的表面，其中，第一介质层103的上表面为平面，即第一介质层103背离第一图案结构102的一面为平面，以方便在第一介质层103上镀上第一增透膜104。
[0041]本实用新型实施例适用于任何表面不平整、难以镀膜的结构，在不平整图案结构上涂覆介质层，将非平面变为平面，从而达到镀膜的目的，解决了由于匀光器件表面不平整而导致镀膜困难的问题；而且，在第一介质层上镀第一增透膜，减少了反射光能量，增强了透射光的能量。
[0042]需要说明的是，所述“镀膜”皆是指镀上增透膜，即镀上具有增强透射光能量功能的膜层；本文其他部分所述“镀膜”含义皆如上所述。镀其他膜是否可以，如其他功能膜？
[0043]在本实用新型上一个实施例的基础上，本实用新型另一个实施例中的匀光结构还包括:所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二增透膜。如图2所示，第二增透膜105位于第一基板101背离第一图案结构102 —面。增设第二增透膜的目的在于，进一步增强透射光的能量。此外，本实施例双面镀膜，起到了良好的防尘作用。
[0044]在上述实施例的基础上，本实用新型另一个实施例中，所述第一介质层为胶水介质层，所述第一介质层和第一增透膜之间设有第二基板。如图3所示，第二基板106位于第一介质层103的上表面，第一增透膜104则位于第二基板106背离第一介质层103的一面。
[0045]在上述实施例的基础上，本实用新型另一个实施例中，所述第一图案结构为胶水图案层。如图4所示，第一图案结构102为胶水图案层，位于第一基板101表面。
[0046]本实施例中的匀光结构加工流程如图5所示，在第一基板101上转印出第一图案结构102 ;然后在第一图案结构102表面涂覆胶水用以制作第一介质层103 ;在胶水层上覆盖第二基板106，然后通过带弹簧的夹具对上述所得匀光结构加压一定时间(该夹具包括:弹簧201，带刻度的支撑杆202，可移动压板203，垫板204)，其中，可以根据支撑杆202上的刻度线调节可移动压板203的位置，从而控制第一介质层的厚度；将加压后的匀光结构放入烘箱内在适宜温度下烘烤一定时间用以加热成型；对第一基板101和第二基板106进行镀膜处理，即在第一基板101背离第一图案结构102的一面镀上第二增透膜105，在第二基板106背离第一介质层103的一面镀上第一增透膜104。
[0047]发明人研宄发现，在以有机复制的方式制作匀光器件的过程中，通常利用胶水形成图案层，即图案结构，借助胶水的热固化性能将所需图案转移到基板上，从而制得低成本的匀光结构。但是，由于胶水属于有机物，在胶水图案层上或胶水介质层上镀增透膜时，由于胶水热膨胀系数(CTE)与增透膜不匹配，会引起热应力问题，使得增透膜在胶水层面上很容易脱落，因而难以在胶水图案层上进行镀膜。
[0048]本实用新型实施例通过在第一介质层表面设置第二基板，然后在第二基板上镀第一增透膜，由于第二基板不会由于热应力问题而使第一增透膜脱落，有效解决了胶水与增透膜CTE不匹配而引起的难以镀膜问题。此外，在激光照明系统中，灰尘会汇聚激光能量，由于胶水熔点较低，在高功率照射下会发生烧毁的状况，本实施例中的第一基板、第一增透膜、第二基板和第二增透膜将第一介质层和第一图案结构保护起来，起到了良好的防尘作用，提尚了勾光结构耐尚功率的性能。
[0049]需要说明的是，本实用新型只是优选胶水图案层作为第一图案结构，也可以选用其他具有良好透光性能的图案层作为第一图案结构，对此并不做限定，具体视情况而定。
[0050]还需要说明的是，本实用新型只是优选胶水介质层作为第一介质层，还可以选用其他具有良好的粘着性和透光性能的介质层作为第一介质层，对此并不做限定，具体视情况而定。
[0051]在上述任一实施例的基础上，本实用新型一个实施例中的匀光结构中，所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二图案结构，所述第二图案结构包括多个微结构；所述第二图案结构表面设有第二介质层，所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面为平面；所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面设有第二增透膜。
[0052]在上述实施例的基础上，本实用新型一个实施例中，所述第二介质层为胶水介质层，所述第二介质层和第二增透膜之间设有第三基板。
[0053]需要说明的是，在本实施例中，第一图案结构和第二图案结构中的任一个可以是胶水图案层，也可以皆为胶水图案层；第一介质层和第二介质层可以皆为胶水介质层，当第一介质层为胶水介质层时，第一介质层和第一增透膜之间设有第二基板，具体视情况而定。
[0054]本实施例以一种双面复眼透镜为例，如图6所不，第一基板101的上表面和下表面分别具有第一图案结构102和第二图案结构107，第一介质层103位于第一图案结构102的表面，第二基板106位于第一介质层103背离第一图案结构102的一面，第一增透膜104则位于第二基板106背离第一介质层103的一面，第二介质层108位于第二图案结构107表面，第三基板109位于第二介质层108背离第二图案结构107的一面，第二增透膜105位于第三基板109背离第二介质层108的一面。在制作时，只需要在完成双面转印的匀光结构的两面分别涂覆胶水介质层，然后通过热压的方法将镀膜基板粘接在胶水介质层表面。
[0055]与单片复眼透镜相比，双面复眼透镜具有更好的匀光效果。本实用新型通过在双面复眼透镜的图案结构表面增设胶水介质层，有效解决了双面复眼透镜难以镀膜的问题。
[0056]本实用新型一个实施例还提供了另外一种双面复眼透镜，本实施例匀光结构还包括:第三图案结构，所述第三图案结构包括多个微结构，其中，第三图案结构与第一介质层的胶水介质层接触的一面为微结构面，第三图案结构背离第一介质层的胶水介质层的一面为平面。在另一个实施例中所述第三图案结构为胶水图案层。
[0057]如图7所示，第一基板101的下表面具有第二增透膜105，第一基板101的上表面具有第一图案结构102，第一介质层的胶水图案层103位于第一图案结构102表面，第三图案结构110位于所述第一介质层的胶水介质层背离所述第一图案结构102的一面，第三图案结构110背离第一介质层的胶水介质层的一面为平面，第一介质层的胶水图案层103和第三图案结构110共同组成了第一介质层，第二基板106位于第三图案结构110背离第一介质层的胶水介质层的一面，第一增透膜104位于第二基板106表面。
[0058]本实施例所提供的匀光结构在制作时，分别转印出两个单片复眼透镜，两个单片复眼透镜的图案层通过胶水介质层进行粘结，然后在两个单片复眼透镜的基板背离对应图案层的一面镀上对应的增透膜，从而得到双面复眼透镜。
[0059]扩散板的加工通常使用刻蚀法或者光刻法，刻蚀法是通过贴膜形成需要的图案，将不需要刻蚀的部分保护起来，再通过氢氟酸等刻蚀液刻蚀出相应的图案结构；同理，也可以使用光刻胶制作成需要的图案后再进行刻蚀，然后溶解光刻胶，得到想要的扩散板。但是，当需要将扩散板表面的颗粒加工的很精细时，对加工工艺提出了极高的要求，同样，在扩散板的颗粒面上也存在镀膜困难的问题。
[0060]本实用新型提供的一个实施例中，所述第一基板和第二基板为PC板，所述第一图案结构为散射粉层。本实施例所提供的匀光结构以扩散板为例进行说明，如图8所示，第一基板101的下表面具有第二增透膜105，第一基板101的上表面具有第一图案结构102，即第一基板101的上表面具有散射粉层，第一介质层103位于第一图案结构102表面，第二基板106位于第一介质层103背离第一图案结构102的一面，第一增透膜104位于第二基板106表面。
[0061]本实施例所提供的匀光结构通过散射粉对光的散射作用实现对光束的扩散，在散射粉层增添第一介质层，然后在第一介质层表面粘结第二基板，在第二基板上镀上第一增透膜，解决了散射粉层难以镀膜的问题，增强了透射光能量。
[0062]需要说明的是，本实用新型匀光结构接收的入射光束在透过不同的介质时，会发生吸收损失和反射损失，从而降低光能利用率。为了减少能量损失，本实用新型实施例对所述匀光结构中图案结构、基板和胶水介质层的制作材料以及胶水层的厚度提供了一些优选方案，下面进行具体说明，但本实用新型对此并不做限定，具体视情况而定。
[0063]朗伯比尔定律指出，光在介质中传播，其光强会随着在介质中的传播距离发生指数衰减，如图9所示，出射光强I与入射光强Ici存在如下关系:1 = 1(^1口(-1?1)，其中，1^为介质衰减系数，d为胶水层的厚度，即胶水介质层最高点与胶水图案层最低点之间的厚度。根据出射光强与入射光强之间的关系可以看出:胶水层制作材料的衰减系数越小，厚度越小，出射光强越强，所述匀光结构的光能利用率越高。
[0064]故在上述任一实施例的基础上，本实用新型一个实施例中的匀光结构的胶水介质层优选为硅胶介质层、UV胶介质层或光学环氧胶介质层。
[0065]需要说明的是，本实用新型实施例中的各胶水介质层可以选用同种胶水介质层，也可以选用不同种的胶水介质层，对此不做限定，具体视情况而定。
[0066]本实用新型另一个实施例中的匀光结构的胶水图案层优选为硅胶图案层、UV胶图案层或光学环氧胶图案层。
[0067]需要说明的是，本实用新型实施例中的各胶水图案层可以选用同种胶水图案层，也可以选用不同种胶水图案层，对此不做限定，具体视情况而定。
[0068]如图10所示，光线在介质表面会发生反射和折射，反射率符合以下公式:P =[(Ii1-1i2)/(ηι+η2)]2，其中，II1为胶水图案层的折射率，η 2为胶水介质层的折射率，假设胶水图案层使用Ii1= 1.5的娃胶，胶水介质层采用η2= 1.4的娃胶，则计算得P=0.12%。由此可见，P越小，反射损失越小，出射光线越强，故在本实用新型的优选实施例中，所述胶水介质层和胶水图案层制作材料的折射率差异越小越好。
[0069]本实用新型又一个实施例中的匀光结构的胶水图案层的厚度不大于100 μπι。
[0070]本实用新型实施例中的胶水图案层的厚度优选为大于O μ m，且不大于100 μ m，更优选为大于O μ m，且不大于10 μ m，本实用新型对此并不做限定，具体视情况而定。
[0071]本实用新型一个实施例中的匀光结构的第一基板和第二基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。
[0072]本实用新型另一个实施例中的匀光结构的第三基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。
[0073]需要说明的是，本实用新型实施例中的第一基板、第二基板和第三基板可以选用同种基板，也可以选用不同种基板，对此不做限定，具体视情况而定。
[0074]如图11所示，Iitl为空气层折射率，η 3为增透膜折射率，η 4为基板折射率，I i为入射光线，I2为第一反射光线，I 3为第二反射光线，I 4为折射光线，当在基板上镀膜时，增透膜反射利用了等厚干涉原理，当满足IIciC n3< 114且1132= !!(^!^时’增透膜厚度]! = λ /4n3，此时第一反射光线和第二反射光线是相干的，会发生相干叠加，利用相消性干涉来消除反射光，从而减少反射光能量，增强透射光的能量。
[0075]本实用新型一个实施例中的匀光结构的胶水图案层的表面为多个弧形面构成的曲面，或多个锯齿构成的锯齿面，或多个台阶构成的阶梯面。
[0076]如图4所示，本实用新型一个实施例胶水图案层的表面可以为多个弧形面构成的曲面，如图8所示，在本实用新型的另一个实施例中，所述胶水图案层的表面也可以为多个锯齿构成的锯齿面，如图12所示，在本实用新型的又一个实施例中，所述胶水图案层的表面还可以为多个台阶构成的阶梯面。
[0077]需要说明的是，本实用新型不仅适用于微透镜阵列方式的图案层(即图4所示的弧形曲面方式图案层)、连续微扰曲面方式的图案层(即图8所示锯齿面方式图案层)和衍射台阶图案(即图12所示阶梯面方式图案层)，还适用于其他任何表面不平整、难以镀膜的结构，本实用新型对此并不做限定，具体视情况而定。
[0078]综上所述，本实用新型实施例所提供的匀光结构，在难以镀膜的不平整图案结构上涂覆介质层，由于介质层背离对应图案结构的一面为平面，因而可以在该平面上进行镀膜，解决了由于匀光器件表面不平整而导致镀膜困难的问题；在介质层上镀增透膜，减少了反射光能量，增强了透射光的能量。
[0079]此外，在匀光结构上镀膜还具有防尘作用，同时还提高了匀光结构的耐高功率性會K。
[0080]本说明书中各个部分采用递进的方式描述，每个部分重点说明的都是与其他部分的不同之处，各个部分之间相同相似部分互相参见即可。
[0081]对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【权利要求】
1.一种匀光结构，其特征在于，包括: 第一基板； 位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光； 位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面； 所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。
2.如权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，还包括:所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二增透膜。
3.如权利要求2所述的匀光结构，其特征在于，所述第一介质层为胶水介质层，所述第一介质层和第一增透膜之间设有第二基板。
4.如权利要求3所述的匀光结构，其特征在于，所述第一图案结构为胶水图案层。
5.如权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二图案结构，所述第二图案结构包括多个微结构； 所述第二图案结构表面设有第二介质层，所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面为平面； 所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面设有第二增透膜。
6.如权利要求5所述的匀光结构，其特征在于，所述第二介质层为胶水介质层，所述第二介质层和第二增透膜之间设有第三基板。
7.如权利要求4所述的匀光结构，其特征在于，还包括: 第三图案结构，所述第三图案结构包括多个微结构，其中，第三图案结构与第一介质层的胶水介质层接触的一面为微结构面，第三图案结构背离第一介质层的胶水介质层的一面为平面。
8.如权利要求7所述的匀光结构，其特征在于，所述第三图案结构为胶水图案层。
9.如权利要求3所述的匀光结构，其特征在于，所述第一基板和第二基板为PC板，所述第一图案结构为散射粉层。
10.如权利要求1-9任一项所述的匀光结构，其特征在于，所述第一介质层为硅胶介质层、UV胶介质层或光学环氧胶介质层。
11.如权利要求4或8所述的匀光结构，其特征在于，所述胶水图案层为硅胶图案层、UV胶图案层或光学环氧胶图案层。
12.如权利要求11所述的匀光结构，其特征在于，胶水图案层的厚度不大于100μπι。
13.如权利要求3所述的匀光结构，其特征在于，所述第一基板和第二基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。
14.如权利要求6所述的匀光结构，其特征在于，所述第三基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。
15.如权利要求4所述的匀光结构，其特征在于，所述胶水图案层的表面为多个弧形面构成的曲面，或多个锯齿构成的锯齿面，或多个台阶构成的阶梯面。
【文档编号】G02B1/11GK204256203SQ201420685112
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2014年11月14日 优先权日:2014年11月14日
【发明者】胡飞, 杨佳翼, 谢颂婷 申请人:深圳市绎立锐光科技开发有限公司