使用远紫外线辐射光刻的材料、组件和方法,及其它应用与流程

文档序号:11287690阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明描述了纳米结构的光子材料,以及相关的组件,用于运行在紫外的(UV),远紫外的(EUV),和/或软X光波长的设备和系统中。这样一种材料可以通过在选择的波长范围内,例如可以在特别的UV,EUV/或软X光波长或波长范围内,使用改变的纳米级特征,进行制造。这样一种材料可用于制造组件,例如镜子,透镜或其它光学器件,面板,光源,掩模,光刻胶,或其它组件,用于一些应用,例如光刻,晶圆图案形成,天文和空间应用,生物医学应用,生物技术或其它应用。

技术研发人员:苏普利亚·杰西瓦尔
受保护的技术使用者:苏普利亚·杰西瓦尔
技术研发日:2015.11.25
技术公布日:2017.09.26
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